เครื่องทําความสะอาด ultrasonic อัตโนมัติเต็ม สําหรับครึ่งตัวนํา Silicon Wafers

1. เครื่องทําความสะอาด ultrasonic อัตโนมัติเต็มสําหรับซิลิคอนวอฟเฟอร์ครึ่งตัวนํา

   การทําความสะอาดความละเอียดถูกกําหนดใหม่สําหรับการผลิตครึ่งประสาทที่ทันสมัย

   ภาพรวมสินค้า

   ออกแบบมาเพื่อตอบสนองความสะอาดที่สูงมากของแผ่นซิลิคอนเซลเซียมครึ่งตัวนําJTM-10720ADเป็นระบบทําความสะอาดด้วยเสียงฉีดอัตโนมัติเต็มที่ ที่รวมเทคโนโลยีที่ทันสมัยกับระบบอัตโนมัติที่ฉลาดเหลือทางอินทรีย์, และไอออนโลหะจากพื้นผิวของแผ่น, รับประกันผลงานที่ไม่ผิดพลาดในกระบวนการการทําเลหะ, การถัก, และกระบวนการฝากหนังบาง.มันส่งผลต่อเนื่อง, ผลลัพธ์ที่ซ้ําได้สําหรับการทําความสะอาดก่อนและหลังการผลิต

   ฟังก์ชันหลักและความเป็นเลิศทางเทคนิค

   1.กระบวนการทําความสะอาด ultrasonic หลายขั้นตอน

   • 40kHz ความถี่สูง cavitation:
     สร้างฟองเล็กๆ ที่พังลงบนผิวของแผ่น อนุภาคขนาดเล็กเพียง 0.2μm จะถูกปลดออกโดยไม่ต้องสัมผัสกับร่างกายและโอไซด์พื้นเมืองจากวัสดุครึ่งประสาทอ่อนโยน.
   • กระบวนการทํางานที่บูรณาการ 10-Tank:
     • ถัง 1-2: ล้างก่อนด้วยน้ํา DI และกระตุ้น megaasonic เพื่อปลดขยะหนัก
     • ถัง 3-6: การทําความสะอาด ultrasonic ด้วยสารละลายเคมี (เช่น SC1/SC2 สําหรับการทําความสะอาด RCA) ที่ 60-100 °C เพื่อกําจัดสารปนเปื้อนอินทรีย์และยอน
     • ถัง 7-9: การล้างน้ํา DI หลายขั้นตอนด้วยการกรอง ultra-filtration (0.1μm) เพื่อป้องกันการติดเชื้อข้าม
     • ถัง 10: DryN2TM ระบบการแห้งเร็วด้วยไนโตรเจนที่ร้อน (≤ 5% RH) เพื่อให้เกิดพื้นที่ไร้จุดและไร้สแตติก

   2.การควบคุมที่ฉลาดแบบอัตโนมัติเต็ม

   • PLC + HMI อินเตอร์เฟซ:
     จอสัมผัสขนาด 15 นิ้วสามารถเขียนโปรแกรมสูตรอาหารตามสั่ง 100+ รายการ ติดตามปริมาตรการ (อุณหภูมิ, พลัง ultrasonic, อัตราการไหลของล้าง) และการติดตาม OEE (ประสิทธิภาพของอุปกรณ์โดยรวม) ได้ในเวลาจริง
   • การทํางานของหุ่นยนต์:
     แขนหุ่นยนต์ความแม่นยําที่มีกริปเปอร์เคลือบเทฟลอนให้ความปลอดภัยในการถ่ายทอดโวฟเวอร์ที่อ่อนโยนและปลอดภัย (ความเร็ว ≤ 1.5m / s) ระหว่างถัง, ลดการสร้างอนุภาคและการแตกให้น้อยที่สุด

   3.การออกแบบวัสดุความบริสุทธิ์สูง

   • องค์ประกอบที่เปียก:
     ถังและช่องโฉมที่สร้างขึ้นจากเหล็กไร้ขัด 316L (Ra < 0.2μm) และ PTFE ที่เคลือบไฟฟ้า
   • การกรองในวงจรปิด:
     ระบบกรองระบายน้ําที่ใช้กรองเยื่อ 0.1μm และการออกซิเดชั่น UV ลดการบริโภคสารเคมี 60% และรับประกันความบริสุทธิ์ของน้ํายาทําความสะอาด (TOC < 5ppb)

2.