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11 タンク半導体清掃機シリコン・ウェーファー清掃機 40KHZ

Name: 11 タンク 半導体清掃機 シリコン・ウェーファー清掃機 40KHZ
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-10723AD
Availability: InStock

ブランド名:	Jietai
モデル番号:	JTM-10723AD
MOQ:	1
価格:	One million
配達時間:	30~60 営業日
支払条件:	T/T

詳細情報

製品説明

詳細情報

起源の場所:

トンコワン、広東省

証明:

CE, FCC, ROHS, etc.

名前:

半導体洗浄機

体重:

5トン

全体の次元:

12M*2M*2.61M

タンク数:

清掃頻度:

40KHz

モデル:

JTM-10723AD

種類:

全自動超音波洗浄機

清掃温度:

環境温度は - 98°C

パッケージの詳細:

パッケージ: 木製ケース,木製枠,伸縮フィルム.寸法: 12M*2M*2.6M

供給の能力:

1台 30~60日かかる

ハイライト:

11 タンク半導体清掃機シリコン・ウェーファー清掃機半導体清掃機 40KHZ

Silicon Wafer Cleaning Machine

Semiconductor Cleaning Machine 40KHZ

製品説明

半導体シリコンウエファーのための全自動超音波洗浄機

半導体シリコン・ウェーバーのための全自動超音波洗浄機

高度半導体製造のために再定義された精密浄化

製品概要

半導体シリコンウエフルの超高い清潔性要求を満たすために設計されたJTM-10720AD超音波浄化システムで最先端の技術とインテリジェントな自動化を組み合わせます 300mmと200mmのウエファー用に設計されています有機残留物薄膜堆積処理で欠陥のない性能を保証します. モジュラルの10タンク設計とSEMI対応材料により,安定した結果をもたらします製造前および製造後の重要な清掃の可復性

基本機能と技術的卓越性

1.多段階超音波浄化プロセス
- 40kHz高周波カビテーション:
  微小な泡を発生させ表面に爆発し物理的な接触なしに 0.2μm の粒子を排出します光抵抗性残留物,金属汚染物,繊細な半導体材料からの原生酸化物.
- 10タンク統合作業流程:
  - タンク1〜2: 重い残骸を緩めるため,DI水とメガサウンドの混ぜで洗います.
  - タンク3〜6: 化学溶液 (RCA浄化用 SC1/SC2) で60~100°Cで超音波浄化により有機物質やイオン汚染物質を除去する.
  - タンク7-9: 交差汚染を防ぐため,多段階DI水で超濾過 (0.1μm) を用いて洗浄します.
  - タンク10: DryN2TM 熱した窒素 (≤5%RH) で迅速乾燥システムで,汚れのない静的のない表面を手に入れます.
2.完全に自動化されたインテリジェント制御
- PLC + HMI インターフェース:
  15インチタッチスクリーンは100以上のカスタムレシピのプログラミング,パラメータのリアルタイムモニタリング (温度,超音波電力,洗浄流量) およびOEE (全体的な設備効果) トラッキングを可能にします.
- ロボット式ウエファー処理:
  テフロンで覆われたグリッパーを搭載した精密ロボットアームは,タンク間の柔らかい,端が安全で,粒子生成と破損を最小限に抑え,ウェファーの移転 (≤1.5m/s速度) を保証します.
3.高純度素材の設計
- 湿った部品:
  電気磨きされた316Lステンレス鋼 (Ra < 0.2μm) とPTFEから製造されたタンクとノズルで,金属イオンの溶解と化学腐食を排除する.
- 閉ループフィルタリング:
  0.1μmの膜フィルターとUV酸化による再循環フィルタリングシステムは,化学物質の消費量を60%削減し,清掃液の純度 (TOC < 5ppb) を確保します.

Tags:

自動超音波洗浄機

超音波浄化器具

超音波清浄システム

100KW自動超音波浄化システム 11タンク超音波浄化機

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11 タンク半導体清掃機シリコン・ウェーファー清掃機 40KHZ

全カテゴリー

超音波浄化装置

エレクトロニクス超音波クリーナー

装置の超音波クリーナー

半導体洗浄機

超音波洗浄機

航空宇宙用超音波クリーナー

医学の超音波洗剤

オーダーメイド超音波クリーナー

スプレー清浄機械

超音波菌浄化機

自動車用超音波洗浄機

産業排水処理装置

11 タンク半導体清掃機シリコン・ウェーファー清掃機 40KHZ

ブランド名:	Jietai
モデル番号:	JTM-10723AD
MOQ:	1
価格:	One million
パッケージの詳細:	パッケージ: 木製ケース,木製枠,伸縮フィルム.寸法: 12M2M2.6M
支払条件:	T/T

詳細情報

製品説明

詳細情報

起源の場所:

トンコワン、広東省

ブランド名:

Jietai

証明:

CE, FCC, ROHS, etc.

モデル番号:

JTM-10723AD

名前:

半導体洗浄機

体重:

5トン

全体の次元:

12M*2M*2.61M

タンク数:

清掃頻度:

40KHz

モデル:

JTM-10723AD

種類:

全自動超音波洗浄機

清掃温度:

環境温度は - 98°C

最小注文数量:

価格:

One million

パッケージの詳細:

パッケージ: 木製ケース,木製枠,伸縮フィルム.寸法: 12M*2M*2.6M

受渡し時間:

30~60 営業日

支払条件:

T/T

供給の能力:

1台 30~60日かかる

ハイライト:

11 タンク半導体清掃機シリコン・ウェーファー清掃機半導体清掃機 40KHZ

Silicon Wafer Cleaning Machine

Semiconductor Cleaning Machine 40KHZ

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半導体シリコンウエファーのための全自動超音波洗浄機

半導体シリコン・ウェーバーのための全自動超音波洗浄機

高度半導体製造のために再定義された精密浄化

製品概要

半導体シリコンウエフルの超高い清潔性要求を満たすために設計されたJTM-10720AD超音波浄化システムで最先端の技術とインテリジェントな自動化を組み合わせます 300mmと200mmのウエファー用に設計されています有機残留物薄膜堆積処理で欠陥のない性能を保証します. モジュラルの10タンク設計とSEMI対応材料により,安定した結果をもたらします製造前および製造後の重要な清掃の可復性

基本機能と技術的卓越性

1.多段階超音波浄化プロセス
- 40kHz高周波カビテーション:
  微小な泡を発生させ表面に爆発し物理的な接触なしに 0.2μm の粒子を排出します光抵抗性残留物,金属汚染物,繊細な半導体材料からの原生酸化物.
- 10タンク統合作業流程:
  - タンク1〜2: 重い残骸を緩めるため,DI水とメガサウンドの混ぜで洗います.
  - タンク3〜6: 化学溶液 (RCA浄化用 SC1/SC2) で60~100°Cで超音波浄化により有機物質やイオン汚染物質を除去する.
  - タンク7-9: 交差汚染を防ぐため,多段階DI水で超濾過 (0.1μm) を用いて洗浄します.
  - タンク10: DryN2TM 熱した窒素 (≤5%RH) で迅速乾燥システムで,汚れのない静的のない表面を手に入れます.
2.完全に自動化されたインテリジェント制御
- PLC + HMI インターフェース:
  15インチタッチスクリーンは100以上のカスタムレシピのプログラミング,パラメータのリアルタイムモニタリング (温度,超音波電力,洗浄流量) およびOEE (全体的な設備効果) トラッキングを可能にします.
- ロボット式ウエファー処理:
  テフロンで覆われたグリッパーを搭載した精密ロボットアームは,タンク間の柔らかい,端が安全で,粒子生成と破損を最小限に抑え,ウェファーの移転 (≤1.5m/s速度) を保証します.
3.高純度素材の設計
- 湿った部品:
  電気磨きされた316Lステンレス鋼 (Ra < 0.2μm) とPTFEから製造されたタンクとノズルで,金属イオンの溶解と化学腐食を排除する.
- 閉ループフィルタリング:
  0.1μmの膜フィルターとUV酸化による再循環フィルタリングシステムは,化学物質の消費量を60%削減し,清掃液の純度 (TOC < 5ppb) を確保します.

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オーダーメイド 超音波クリーナー

スプレー清浄機械

超音波菌浄化機

自動車用超音波洗浄機

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11 タンク 半導体清掃機 シリコン・ウェーファー清掃機 40KHZ

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Silicon Wafer Cleaning Machine

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半導体シリコン・ウェーバーのための全自動超音波洗浄機

製品概要

基本機能と技術的卓越性

1.多段階超音波浄化プロセス

2.完全に自動化されたインテリジェント制御

3.高純度 素材 の 設計

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3.高純度 素材 の 設計

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3.高純度素材の設計