Máy làm sạch siêu âm hoàn toàn tự động cho các tấm silicon bán dẫn

1. Máy làm sạch siêu âm hoàn toàn tự động cho tấm Silicon bán dẫn

   Làm sạch chính xác được định nghĩa lại cho sản xuất bán dẫn tiên tiến

   Tổng quan sản phẩm

   Được thiết kế để đáp ứng các yêu cầu về độ sạch cực cao của các wafer silicon bán dẫn,JTM-10720ADlà một hệ thống làm sạch siêu âm hoàn toàn tự động kết hợp công nghệ tiên tiến với tự động hóa thông minh.Chất thải hữu cơ, và các ion kim loại từ bề mặt wafer, đảm bảo hiệu suất hoàn hảo trong quá trình lithography, khắc và lắng đọng phim mỏng.nó cung cấp nhất quán, kết quả lặp lại cho việc làm sạch quan trọng trước và sau sản xuất.

   Chức năng cốt lõi và xuất sắc kỹ thuật

   1.Quá trình làm sạch siêu âm nhiều giai đoạn

   • 40kHz Cavitation tần số cao:
     Tạo ra các bong bóng vi mô nổ trên bề mặt wafer, loại bỏ các hạt nhỏ đến 0,2μm mà không cần tiếp xúc vật lý.và oxit tự nhiên từ các vật liệu bán dẫn tinh tế.
   • Dòng công việc tích hợp 10 thùng:
     • Các bể 1-2: Rửa trước với nước DI và khuấy động megaasonic để nới lỏng các mảnh vỡ nặng.
     • Thùng 3-6: Làm sạch siêu âm bằng các dung dịch hóa học (ví dụ, SC1 / SC2 cho làm sạch RCA) ở nhiệt độ 60-100 °C để loại bỏ các chất gây ô nhiễm hữu cơ và ion.
     • Xăng 7-9: Dầu lọc bằng nước DI nhiều giai đoạn với siêu lọc (0,1μm) để ngăn ngừa nhiễm trùng chéo.
     • Xăng 10: DryN2 TM hệ thống sấy khô nhanh với nitơ nóng (≤ 5% RH) để đạt được bề mặt không có vết, không có tĩnh.

   2.Điều khiển thông minh hoàn toàn tự động

   • PLC + HMI Interface:
     Màn hình cảm ứng 15 inch cho phép lập trình 100+ công thức nấu ăn tùy chỉnh, theo dõi thời gian thực các thông số (nhiệt độ, công suất siêu âm, tốc độ dòng chảy), và theo dõi OEE (Hiệu quả thiết bị tổng thể).
   • Robot xử lý wafer:
     Cánh tay robot chính xác với kẹp được phủ Teflon đảm bảo chuyển wafer nhẹ nhàng, an toàn cạnh (tốc độ ≤ 1,5m / s) giữa các bể, giảm thiểu sự tạo ra hạt và vỡ.

   3.Thiết kế vật liệu tinh khiết cao

   • Các thành phần ướt:
     Các thùng chứa và vòi phun được chế tạo từ thép không gỉ 316L được sơn điện (Ra < 0,2μm) và PTFE, loại bỏ việc xả ion kim loại và ăn mòn hóa học.
   • Bộ lọc vòng kín:
     Hệ thống lọc tái lưu thông với bộ lọc màng 0,1μm và oxy hóa tia UV làm giảm tiêu thụ hóa chất 60% và đảm bảo độ tinh khiết của chất lỏng làm sạch (TOC < 5ppb).

2.