آلة تنظيف بالموجات فوق الصوتية تلقائية بالكامل لألواح السيليكون شبه الموصلة

1. آلة تنظيف بالموجات فوق الصوتية تلقائية بالكامل لفواكه السيليكون شبه الموصلة

   إعادة تعريف التنظيف الدقيق لتصنيع أشباه الموصلات المتقدمة

   لمحة عامة عن المنتج

   مصممة لتلبية متطلبات النظافة العالية جدا من رقائق السيليكون شبه الموصل،JTM-10720ADهو نظام تنظيف بالموجات فوق الصوتية تلقائي بالكامل يجمع بين التكنولوجيا المتطورة مع الأتمتة الذكيةبقايا عضوية، و أيونات معدنية من أسطح رقائق، وضمان أداء لا تشوبه شائبة في عمليات الطباعة الحجرية، الحفرة، وتخزين الأفلام الرقيقة. مع تصميم وحدات 10 خزانات والمواد المتوافقة SEMI،أنها تقدم متسقة، نتائج قابلة للتكرار لتنظيف قبل وبعد التصنيع.

   الوظائف الأساسية والتميز التقني

   1.عملية التنظيف بالموجات فوق الصوتية متعددة المراحل

   • التجويف عالي التردد 40 كيلو هرتز:
     يخلق فقاعات صغيرة تنفجر على سطح اللوحات، وتخرج جزيئات صغيرة بحوالي 0.2 ميكرو متراً بدون اتصال جسدي.والأكسيدات الأصلية من مواد أشباه الموصلات الحساسة.
   • سير العمل المتكامل لـ 10 خزانات:
     • الخزانات 1-2: غسل مسبق بالماء المضغوط والتحريك الضخم للصوت لتفريغ الحطام الثقيل.
     • الخزانات 3-6: التنظيف بالموجات فوق الصوتية بمحلولات كيميائية (مثل SC1 / SC2 لتنظيف RCA) عند 60-100 °C للقضاء على الملوثات العضوية والأيونية.
     • الخزانات 7-9: غسل المياه متعددة المراحل باستخدام التصفية الفائقة (0.1μm) لمنع التلوث المتبادل.
     • الخزان 10: نظام التجفيف السريع DryN2TM مع النيتروجين المحموم (≤ 5% RH) لتحقيق أسطح خالية من البقع والحرارة.

   2.التحكم الذكي الآلي بالكامل

   • PLC + واجهة HMI:
     تسمح الشاشة التي يبلغ طولها 15 بوصة بالبرمجة لـ 100 وصفة مخصصة ، ومراقبة المعايير في الوقت الحقيقي (درجة الحرارة ، قوة الموجات فوق الصوتية ، معدل تدفق الشطف) ، وتتبع OEE (فعالية المعدات الشاملة).
   • معالجة الروبوتات:
     يضمن الذراع الروبوتية الدقيقة مع المقبضات المغطاة بتفلون نقل رقائق لطيفة وآمنة الحافة (سرعة ≤ 1.5m / s) بين الخزانات ، مما يقلل من توليد الجسيمات وكسرها.

   3.تصميم المواد عالية النقاء

   • المكونات المبللة:
     الخزانات والفوهات المصنوعة من الفولاذ المقاوم للصدأ 316L المكسر بالكهرباء (Ra < 0.2μm) و PTFE ، والذي يلغي تبخير أيونات المعادن والتآكل الكيميائي.
   • تصفية الحلقة المغلقة:
     أنظمة التصفية المتداولة مع مرشحات غشاء 0.1μm وتأكسدة الأشعة فوق البنفسجية تقلل من استهلاك المواد الكيميائية بنسبة 60٪ وتضمن نقاء سائل التنظيف (TOC < 5ppb).

2.