제품 세부 정보

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11 탱크 반도체 청소 기계 실리콘 웨이퍼 청소 기계 40KHZ

Name: 11 탱크 반도체 청소 기계 실리콘 웨이퍼 청소 기계 40KHZ
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-10723AD
Availability: InStock

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-10723AD
모크:	1
가격:	One million
배달 시간:	0 일
지불 조건:	T/T

자세한 정보

제품 설명

자세한 정보

원래 장소:

동완, 광동

인증:

CE, FCC, ROHS, etc.

이름:

반도체 청소 기계

무게:

5 톤

윤곽치수:

12m*2m*2.61m

탱크 수:

청소 빈도:

40KHz

모델:

JTM-10723AD

종류:

완전 자동 초음파 청소 기계

세척용 온도:

주변 온도 -98 -

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.6m

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

강조하다:

11 탱크 반도체 청소 기계

실리콘 웨이퍼 청소 기계

반도체 정화기 40KHZ

제품 설명

반도체 실리콘 웨이퍼를 위한 완전 자동 초음파 청소 기계

반도체 실리콘 웨이퍼를 위한 완전 자동 초음파 청소 기계

첨단 반도체 제조를 위해 정밀 정화 재 정의

제품 개요

반도체 실리콘 웨이퍼의 극도로 높은 청결성 요구 사항을 충족하도록 설계된JTM-10720AD이 시스템은 300mm와 200mm 웨이퍼를 위해 설계된 최첨단 기술과 지능적인 자동화를 결합한 완전 자동 초음파 정화 시스템입니다. 이 시스템은 미크론 미만의 입자를 제거합니다.유기 잔류, 그리고 웨이퍼 표면에서 금속 이온, 리토그래피, 에칭, 그리고 얇은 필름 퇴적 공정에서 흠없는 성능을 보장합니다.일관성 있는, 제조 전 및 후의 중요한 청소에 대한 반복 가능한 결과.

핵심 기능 및 기술 우수성

1.다단계 초음파 정화 과정
- 40kHz 고주파 부화:
  광 저항 잔해, 금속 오염물질,그리고 섬세한 반도체 물질의 원산 산화물.
- 10-탱크 통합 작업 흐름:
  - 탱크 1-2: 무거운 잔해를 풀기 위해 DI 물과 메가소닉 조화로 미리 씻는다.
  - 탱크 3-6: 화학 용액 (예를 들어, RCA 청소를 위한 SC1/SC2) 을 사용하여 60~100°C에서 초음파 정화하여 유기 및 이온 오염 물질을 제거합니다.
  - 탱크 7-9: 교차 오염을 방지하기 위해 다단계 DI 수분으로 우트라 필터레이션 (0.1μm) 을 통해 닦습니다.
  - 탱크 10: DryN2TM 가열된 질소 (≤5% RH) 를 이용한 빠른 건조 시스템으로 얼룩이 없고 정적이 없는 표면을 얻을 수 있습니다.
2.완전 자동화된 지능형 제어
- PLC + HMI 인터페이스:
  15인치 터치 스크린은 100개 이상의 사용자 지정 요리법을 프로그래밍하고, 매개 변수 (온도, 초음파 전력, 닦기 흐름 속도) 를 실시간 모니터링하고, OEE (종합 장비 효과) 추적을 허용합니다.
- 로봇 웨이퍼 처리:
  테플론으로 코팅 된 손잡이와 함께 정밀 로봇 팔은 탱크 사이의 부드럽고 가장자리 안전 웨이퍼 전송 (≤1.5m/s 속도) 를 보장하며 입자 생성 및 깨짐을 최소화합니다.
3.고정결성 물질 설계
- 젖은 부품:
  전압 닦은 316L 스테인리스 스틸 (Ra < 0.2μm) 과 PTFE로 구성된 탱크와 노즐, 금속 이온의 침수 및 화학적 부식 방지
- 밀폐 순환 필터레이션:
  0.1μm 막 필터와 자외선 산화로 재순환 필터링 시스템은 화학 소비량을 60% 감소시키고 청소 액체의 순도를 보장합니다 (TOC < 5ppb).

Tags:

자동 초음파 세척기

초음파 청소 장비

초음파 세척 시스템

100KW 자동 초음파 세척 시스템 11 탱크 초음파 세척기

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맞춤형 초음파 클리너

스프레이 세정 기계

초음파 곰팡이 청소 기계

자동차 초음파 세척기

산업 폐수 처리 장비

11 탱크 반도체 청소 기계 실리콘 웨이퍼 청소 기계 40KHZ

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-10723AD
모크:	1
가격:	One million
포장에 대한 세부 사항:	포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m2m2.6m
지불 조건:	T/T

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Jietai

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이름:

반도체 청소 기계

무게:

5 톤

윤곽치수:

12m*2m*2.61m

탱크 수:

청소 빈도:

40KHz

모델:

JTM-10723AD

종류:

완전 자동 초음파 청소 기계

세척용 온도:

주변 온도 -98 -

최소 주문 수량:

가격:

One million

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.6m

배달 시간:

0 일

지불 조건:

T/T

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

강조하다:

11 탱크 반도체 청소 기계

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반도체 정화기 40KHZ

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첨단 반도체 제조를 위해 정밀 정화 재 정의

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1.다단계 초음파 정화 과정
- 40kHz 고주파 부화:
  광 저항 잔해, 금속 오염물질,그리고 섬세한 반도체 물질의 원산 산화물.
- 10-탱크 통합 작업 흐름:
  - 탱크 1-2: 무거운 잔해를 풀기 위해 DI 물과 메가소닉 조화로 미리 씻는다.
  - 탱크 3-6: 화학 용액 (예를 들어, RCA 청소를 위한 SC1/SC2) 을 사용하여 60~100°C에서 초음파 정화하여 유기 및 이온 오염 물질을 제거합니다.
  - 탱크 7-9: 교차 오염을 방지하기 위해 다단계 DI 수분으로 우트라 필터레이션 (0.1μm) 을 통해 닦습니다.
  - 탱크 10: DryN2TM 가열된 질소 (≤5% RH) 를 이용한 빠른 건조 시스템으로 얼룩이 없고 정적이 없는 표면을 얻을 수 있습니다.
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- PLC + HMI 인터페이스:
  15인치 터치 스크린은 100개 이상의 사용자 지정 요리법을 프로그래밍하고, 매개 변수 (온도, 초음파 전력, 닦기 흐름 속도) 를 실시간 모니터링하고, OEE (종합 장비 효과) 추적을 허용합니다.
- 로봇 웨이퍼 처리:
  테플론으로 코팅 된 손잡이와 함께 정밀 로봇 팔은 탱크 사이의 부드럽고 가장자리 안전 웨이퍼 전송 (≤1.5m/s 속도) 를 보장하며 입자 생성 및 깨짐을 최소화합니다.
3.고정결성 물질 설계
- 젖은 부품:
  전압 닦은 316L 스테인리스 스틸 (Ra < 0.2μm) 과 PTFE로 구성된 탱크와 노즐, 금속 이온의 침수 및 화학적 부식 방지
- 밀폐 순환 필터레이션:
  0.1μm 막 필터와 자외선 산화로 재순환 필터링 시스템은 화학 소비량을 60% 감소시키고 청소 액체의 순도를 보장합니다 (TOC < 5ppb).

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11 탱크 반도체 청소 기계 실리콘 웨이퍼 청소 기계 40KHZ

11 탱크 반도체 청소 기계

실리콘 웨이퍼 청소 기계

반도체 정화기 40KHZ

반도체 실리콘 웨이퍼를 위한 완전 자동 초음파 청소 기계

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핵심 기능 및 기술 우수성

1.다단계 초음파 정화 과정

2.완전 자동화된 지능형 제어

3.고정결성 물질 설계

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2.완전 자동화된 지능형 제어

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