अर्धचालक सिलिकॉन वेफर्स के लिए पूरी तरह से स्वचालित अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन

1. अर्धचालक सिलिकॉन वेफर्स के लिए पूरी तरह से स्वचालित अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन

   उन्नत अर्धचालक विनिर्माण के लिए सटीक सफाई को फिर से परिभाषित किया गया

   उत्पाद अवलोकन

   अर्धचालक सिलिकॉन वेफर्स की अति-उच्च स्वच्छता आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया,JTM-10720ADयह एक पूर्ण स्वचालित अल्ट्रासोनिक सफाई प्रणाली है जो अत्याधुनिक तकनीक को बुद्धिमान स्वचालन के साथ जोड़ती है। 300 मिमी और 200 मिमी के वेफर्स के लिए डिज़ाइन किया गया यह प्रणाली उप-माइक्रोन कणों को समाप्त करती है,कार्बनिक अवशेष, और वेफर सतहों से धातु आयनों, लिथोग्राफी, उत्कीर्णन, और पतली फिल्म जमाव प्रक्रियाओं में निर्दोष प्रदर्शन सुनिश्चित करता है।यह लगातार प्रदान करता है, विनिर्माण पूर्व और बाद की सफाई के लिए दोहराए जाने वाले परिणाम।

   मुख्य कार्य और तकनीकी उत्कृष्टता

   1.बहु-चरण अल्ट्रासोनिक सफाई प्रक्रिया

   • 40kHz उच्च आवृत्ति गुहा:
     माइक्रो-बुलबुले उत्पन्न करता है जो वेफर सतहों पर फट जाते हैं, भौतिक संपर्क के बिना 0.2μm के रूप में छोटे कणों को विस्थापित करते हैं।और नाजुक अर्धचालक सामग्री से देशी ऑक्साइड.
   • 10-टैंक एकीकृत कार्यप्रवाह:
     • टैंक 1-2: भारी मलबे को ढीला करने के लिए डीआई पानी और मेगासोनिक हलचल के साथ पूर्व-धोएं।
     • टैंक 3-6: कार्बनिक और आयनिक दूषित पदार्थों को खत्म करने के लिए 60 से 100 डिग्री सेल्सियस पर रासायनिक घोल (जैसे आरसीए सफाई के लिए एससी1/एससी2) के साथ अल्ट्रासोनिक सफाई।
     • टैंक 7-9: क्रॉस-कंटॉमिनेशन को रोकने के लिए अल्ट्रा-फिल्ट्रेशन (0.1μm) के साथ मल्टी-स्टेज डीआई वाटर स्लॉश।
     • टैंक 10: DryN2TM तेजी से सुखाने की प्रणाली गर्म नाइट्रोजन (≤5% आरएच) के साथ स्पॉट मुक्त, स्थिर मुक्त सतहों को प्राप्त करने के लिए।

   2.पूरी तरह से स्वचालित बुद्धिमान नियंत्रण

   • पीएलसी + एचएमआई इंटरफ़ेस:
     15 इंच का टचस्क्रीन 100+ कस्टम रेसिपी की प्रोग्रामिंग, मापदंडों (तापमान, अल्ट्रासोनिक शक्ति, कुल्ला प्रवाह दर) की वास्तविक समय की निगरानी और ओईई (सामूहिक उपकरण प्रभावशीलता) ट्रैकिंग की अनुमति देता है।
   • रोबोटिक वेफर हैंडलिंग:
     टेफ्लॉन-लेपित ग्रिपर के साथ सटीक रोबोटिक बांह टैंक के बीच कोमल, किनारे-सुरक्षित वेफर हस्तांतरण (≤1.5m/s गति) सुनिश्चित करता है, जिससे कणों के उत्पादन और टूटने को कम से कम किया जाता है।

   3.उच्च शुद्धता सामग्री डिजाइन

   • गीले घटकों:
     टैंक और नोजल इलेक्ट्रोपोलिश्ड 316L स्टेनलेस स्टील (Ra < 0.2μm) और PTFE से निर्मित होते हैं, जो धातु आयनों के विसर्जन और रासायनिक संक्षारण को समाप्त करते हैं।
   • बंद-लूप फ़िल्टरेशन:
     0.1μm झिल्ली फिल्टर और यूवी ऑक्सीकरण के साथ पुनर्चक्रण निस्पंदन प्रणाली 60% तक रासायनिक खपत को कम करती है और सफाई द्रव की शुद्धता (TOC < 5ppb) सुनिश्चित करती है।

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