เครื่องทําความสะอาด ultrasonic อัตโนมัติเต็ม สําหรับครึ่งตัวนํา Silicon Wafers

1. การตรวจสอบออนไลน์แบบปิดวงจร เพื่อป้องกันผลิตภัณฑ์ที่บกพร่องจากสาย

• การตรวจสอบตัวอย่างด้วยสายตาเครื่องจักร: ตัวชิ้นหนึ่งถูกเลือกให้ตรวจสอบโดยอัตโนมัติจากทุก 100 ชิ้นและใช้อัลกอริทึม AI ในการระบุเศษอนุภาคที่เหลือ ≥5μm (อัตราลบเท็จ < 0)0.01%)
• การบูรณาการทดสอบสเปรย์เกลือ: กรอบที่ทําความสะอาดสามารถเชื่อมต่อโดยตรงกับเครื่องทดสอบสเปรย์เกลือถัดไปการทดสอบจริงแสดงให้เห็นว่าเวลาความต้านทานสเปรย์เกลือของชั้น electroplated เพิ่มขึ้น 20% (ขยายจาก 48 ชั่วโมง.6 ชั่วโมง)

2. การออกแบบแบบกันสแตตติก เพื่อปกป้องการบําบัดพื้นผิวอย่างแม่นยํา

• การครอบคลุมอย่างเต็มที่ของสตาร์อากาศที่เป็นไอโอไนส์: Eight sets of anti-static ionizing air bars (ionization voltage ±5kV) are installed in the drying section and at the discharge port to neutralize the static electricity on the frame surface in real-time (residual voltage < 100V)ป้องกันการซับซ้อนของฝุ่นในอากาศ
• การป้องกันระดับห้องสะอาด: อุปกรณ์ทั้งหมดพร้อมกับหมวกกดดันลบที่มีระดับความสะอาดของชั้น 10,000 (หมวกกระจายกระจายแบบ laminar ของชั้น 100 เป็นตัวเลือก)การรับประกันว่ากระบวนการทําความสะอาดไม่มีสารปนเปื้อนจากภายนอก และตอบสนองความต้องการในการทําความสะอาดที่สะอาดมาก ก่อนการเคลือบแสง.

3. ระบบป้องกันความปลอดภัย เพื่อสร้างโรงงานที่ไม่เกิดอุบัติเหตุ

• การป้องกันการล็อคสามครั้ง: เมื่อประตูเปิด การให้พลังงานด้วยเสียงฉายเสียงถูกตัดโดยอัตโนมัติ ปั๊มฉีดหยุดและท่อการปรับความร้อนในการแห้งถูกปิดด้วยการตอบสนองเวลา < 0.2 วินาที.
• ระบบติดตามการรั่วไหล: เครื่องตรวจจับระดับของของเหลวและเครื่องตรวจสอบความสามารถในการนําไฟได้รวมอยู่ในด้านล่างของถัง เมื่อพบการรั่วไหลของของเหลวทําความสะอาดปั๊มระบายน้ําในเขื่อนถูกเปิดใช้ภายใน 3 วินาทีพร้อมด้วยสัญญาณเตือนเสียงและภาพ
• 7×24 ชั่วโมงตอบสนอง: ศูนย์บริการใหญ่ 5 แห่งทั่วประเทศ (เพิร์ลริเวอร์เดลต้า / ยังตซีริเวอร์เดลต้า / ปักกิ่ง - เทียนจิน - เฮเบ่ย / เชียงราย - เชียงคิง / วูฮาน)เครื่องฉีดยา, ท่อทําความร้อน) และสามารถมาถึงสถานที่ภายใน 4 ชั่วโมง