เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิก Jietai/เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกอัตโนมัติเต็มรูปแบบสำหรับเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ 

1. กระบวนการทำความสะอาดห้าขั้นตอนเพื่อเอาชนะความท้าทายในการทำความสะอาดพื้นผิวโค้งที่ซับซ้อน
   กระบวนการทำความสะอาดห้าขั้นตอนที่ปรับแต่งเองของการทำความสะอาดแบบหยาบด้วยคลื่นเสียง → การพ่นด้วยแรงดันสูง → การแปรงละเอียดด้วยแปรง → การล้างด้วยคลื่นเสียง → การอบแห้งด้วยลมร้อน ได้รับการออกแบบมาเพื่อจัดการกับแหล่งมลพิษหลักสามประการของกรอบกล้อง (วัสดุอะลูมิเนียมอัลลอย/สแตนเลส/เซรามิก) ได้แก่ เศษจากการตัดเฉือน CNC, คราบน้ำมันจากการชุบด้วยไฟฟ้า และคราบรอยนิ้วมือและเหงื่อ:

• การทำงานร่วมกันของคลื่นเสียงความถี่คู่: คลื่นเสียงความถี่ต่ำ 28kHz (15kW) จะทำลายอนุภาคแข็งที่เหลือจากน้ำมันหล่อเย็น CNC ในขณะที่คลื่นเสียงความถี่สูง 40kHz (10kW) จะขจัดคราบน้ำมันขนาด 0.1μm บนพื้นผิวชั้นเคลือบไฟฟ้า อัตราความสะอาดที่วัดได้ของผนังด้านในของรูบอดสูงถึง 99.2%
• ระบบแปรงไบโอนิค: ใช้แปรงขนไนลอนที่มีเส้นผ่านศูนย์กลาง 0.05 มม. (ความแข็งแบบ Shore 50°) ร่วมกับกลไกการลอยตัวตามโปรไฟล์ ±1 มม. สิ่งนี้ทำให้มั่นใจได้ถึงความพอดีกับมุม R (ขั้นต่ำ R0.3 มม.) ของเฟรมและพื้นผิวเคลือบ ทำให้ได้รอยขีดข่วนเป็นศูนย์ในระหว่างกระบวนการทำความสะอาด (ความหยาบของพื้นผิว Ra≤0.2μm)

2. การควบคุมอัจฉริยะอัตโนมัติเต็มรูปแบบ เพิ่มอัตราผลตอบแทน 30%

• การป้อนด้วยการมองเห็น: ติดตั้งระบบการมองเห็น Keyence ซึ่งจะระบุตำแหน่งจุดยึดของเฟรมโดยอัตโนมัติ (มีความแม่นยำ ±0.05 มม.) เข้ากันได้กับขนาดต่างๆ ตั้งแต่ 50×30 มม. ถึง 100×80 มม. และเวลาเปลี่ยนรุ่นน้อยกว่า 3 นาที
• การชดเชยพารามิเตอร์แบบไดนามิก: การนำไฟฟ้าของของเหลวทำความสะอาดจะถูกตรวจสอบแบบเรียลไทม์ผ่านเซ็นเซอร์ความดัน ปรับกำลังคลื่นเสียง (ปรับได้แบบไม่จำกัดตั้งแต่ 10% - 100%) และแรงดันในการพ่น (5 - 15bar) โดยอัตโนมัติ สิ่งนี้จะป้องกันความเสียหายต่อชั้นอะโนไดซ์ที่เกิดจากการทำความสะอาดมากเกินไป
  3. การออกแบบที่ทนทานระดับอุตสาหกรรมสำหรับการทำงานต่อเนื่อง 24 ชั่วโมง
   
  • ส่วนประกอบหลัก: ทรานสดิวเซอร์ NTK ของญี่ปุ่น (อายุการใช้งาน 20,000 ชั่วโมง) + ระบบควบคุม PLC ของ Siemens ของเยอรมัน พร้อมความต้านทานการรบกวนทางแม่เหล็กไฟฟ้าตามมาตรฐาน Industry 4.0
  • การป้องกันถัง: ถังสแตนเลส 316L (ความหนาของผนัง 5 มม.) บุด้วยสารเคลือบ PTFE ทนทานต่อตัวทำละลายที่มีฤทธิ์กัดกร่อน เช่น กรดไฮโดรฟลูออริก (HF≤5%) และ aqua regia เหมาะสำหรับกระบวนการดองกรอบเซรามิก