Macchina di pulizia ad ultrasuoni per wafer a semiconduttori Jietai

1. Processo di pulizia in cinque fasi per superare le sfide della pulizia di superfici curve complesse
   A customized five-stage cleaning process of ultrasonic rough cleaning → high-pressure spraying → fine brushing with brushes → ultrasonic rinsing → hot air drying is designed to address the three major pollution sources of camera frames (aluminum alloy/stainless steel/ceramic materials), vale a dire residui di lavorazione CNC, macchie di olio di galvanoplastica e macchie di impronte digitali e sudore:

• La collaborazione ad ultrasuoni a doppia frequenza: l'ultrasuono a bassa frequenza a 28 kHz (15 kW) rompe le particelle dure rimanenti dal fluido di taglio CNC,mentre gli ultrasuoni ad alta frequenza a 40 kHz (10 kW) rimuovono 0Le macchie d'olio a livello di.1 μm sulla superficie dello strato galvanizzato.
• Sistema di spazzola bionica: vengono utilizzate spazzole in setole di nylon con un diametro di 0,05 mm (durezza di riva 50°), combinate con un meccanismo galleggiante con un profilo di ±1 mm.Questo garantisce un perfetto adattamento agli angoli R (minimo R0.3 mm) del telaio e della superficie rivestita, ottenendo zero graffi durante il processo di pulizia (rugazza della superficie Ra≤ 0,2 μm).

2. Controllo intelligente completamente automatico, che aumenta il rendimento del 30%

• Alimentazione di riconoscimento visivo: dotato del sistema visivo Keyence, individua automaticamente i punti di fissaggio del telaio (con una precisione di ± 0,05 mm).È compatibile con varie dimensioni che vanno da 50×30mm a 100×80mm, e il tempo di cambio del modello è inferiore a 3 minuti.
• Compensazione dei parametri dinamici: la conducibilità del liquido di pulizia è monitorata in tempo reale mediante sensori di pressione,regolazione automatica della potenza ultrasonica (regolazione senza passaggio dal 10% al 100%) e della pressione di spruzzatura (5 - 15 bar)Questo impedisce di danneggiare lo strato anodizzato causato da una pulizia eccessiva.
  3Progettazione durevole di livello industriale per un funzionamento continuo 24 ore su 24.
   
  • Componenti fondamentali: trasduttori NTK giapponesi (20.000 ore di vita) + sistema di controllo PLC tedesco Siemens, con resistenza alle interferenze elettromagnetiche conforme agli standard dell'Industria 4.0.
  • Protezione dei serbatoi: serbatoio in acciaio inossidabile da 316L (spessore della parete 5 mm) rivestito con rivestimento in PTFE, resistente a solventi corrosivi come l'acido fluoridrico (HF≤5%) e l'acqua regia,adatti a processi di decapaggio di cornici in ceramica.