تمیزکننده ویفر نیمه‌رسانا، تمیزکاری اولتراسونیک قلیایی + تمیزکاری اولتراسونیک اسیدی + آبکشی با آب خالص

مزایای فنی اصلی

I. سیستم تمیزکاری گرادیانی سه مخزنه

1. مخزن تمیزکاری اولتراسونیک قلیایی (pH 10-13)

پارامترهای فنی:

• فرکانس: 80kHz/120kHz سوئیچینگ دو فرکانسی (پشتیبانی از اولتراسوند پالسی) • جنس مخزن: آستر PTFE اصلاح شده + قاب استیل ضد زنگ 316L (مقاومت در برابر دمای بالا 130 درجه سانتیگراد، مقاومت در برابر خوردگی NaOH / آمونیاک)

• محیط تمیزکننده: محلول قلیایی مانند هیدروکسید پتاسیم (KOH)، هیدروکسید تترا متیل آمونیوم (TMAH) و غیره.

عملکردهای اصلی: ✔️ حذف کارآمد باقیمانده مقاومت نوری: از بین بردن پیوند مولکولی فیلم چسبنده از طریق اثر کاویتاسیون، همراه با کنترل دمای ثابت 50-80 درجه سانتیگراد، حذف 99.9٪ از SU-8 / مقاومت نوری مثبت در عرض 15 دقیقه

✔️ جذب آلودگی ذرات: کارتریج PP با اندازه میکرون (5 میکرومتر) داخلی + فیلتر مغناطیسی (جذب ذرات فلزی Fe/Co و سایر ذرات). ✔️ فیلتراسیون بلادرنگ ضایعات تمیزکاری

2. مخزن تمیزکاری اسیدی اولتراسونیک (pH 1-3)

• فرکانس: اولتراسوند MF 850kHz (آستانه کاویتاسیون > 200 میکرومتر، برای جلوگیری از آسیب ناشی از ضربه مایع)

• فرکانس: اولتراسوند با فرکانس بالا 150kHz (کاهش اندازه حباب‌های کاویتاسیون برای به حداقل رساندن آسیب به سطح ویفر)

• جنس مخزن: آستر رزین پرفلوئوروآلکوکسی (PFA) (مقاوم در برابر HF). آستر PFA (مقاوم در برابر اسید مخلوط HF/HNO₃)

• محیط تمیزکننده: بافر اکسید کننده BOE (HF:NH₄F=1:6)، تیزاب سلطانی (HNO₃:HCl=1:3)

عملکردهای اصلی:

✔️ عمق حذف یون فلزی ✔️ کنترل زبری سطح: برای باقیمانده الکترود Al/Cu، از طریق اچ کردن اسیدی + ارتعاش اولتراسونیک، باقیمانده Na⁺/K⁺ را به کمتر از 10¹⁰ اتم/سانتی‌متر مربع می‌رساند.✔️ کنترل زبری سطح: توان اولتراسونیک به صورت پویا تنظیم می‌شود (50-300 وات)، همراه با دقت کنترل دما ±0.5 درجه سانتیگراد، برای اطمینان از اینکه مقدار Ra سطح ویفر ≤ 0.2 نانومتر باشد.

3. مخزن آبکشی مگاسونیک با آب خالص (مقاومت ≥ 18.2 مگااهم.سانتی‌متر)

پارامترهای فنی:

• فرکانس: اولتراسوند MF 850kHz (آستانه کاویتاسیون > 200 میکرومتر، برای جلوگیری از آسیب ناشی از ضربه مایع)

• نظارت بر کیفیت آب: آشکارساز TOC آنلاین (دقت تشخیص ≤ 5ppb) + شمارنده ذرات (تشخیص اندازه ذرات 0.1 میکرومتر)

• روش آبکشی: آبکشی جریان مخالف (نرخ استفاده از آب خالص به 85٪ افزایش یافته است) + کاویتاسیون مگاسونیک (حذف ذرات زیر میکرون)

ویژگی‌های اصلی:

✔️ تمیزی بدون باقیمانده: استفاده از فیلتراسیون سه مرحله‌ای آب DI (کربن فعال + غشای RO + رزین پولیش)، با سرعت سرریز 50 لیتر در دقیقه، برای تحقق باقیمانده TOC <10ppb در عرض 10 دقیقه

✔️ تمیزکاری لبه-افزایش یافته: بازوی اسپری چرخان ثبت شده (سرعت 0-300 دور در دقیقه قابل تنظیم)، برای حل نقطه کور تمیزکاری ناحیه 1 میلی‌متری در لبه ویفر.امروز با ما تماس بگیرید تا مقاله سفید فرآیند تمیزکاری ویفر نیمه‌رسانا و برنامه قیمت‌گذاری انحصاری را دریافت کنید!