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半導体洗浄機
Created with Pixso. 半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ

ブランド名: Jietai
モデル番号: JTM-100504AD
MOQ: 1
Price: ¥800000
配達時間: 30~60 営業日
支払条件: 電信送金
詳細情報
起源の場所:
トンコワン、広東省
証明:
CE, FCC, ROHS, etc.
名前:
半導体洗浄機
清掃温度:
60°C
モデル:
JTM-100504AD
タイプ:
超音波アルカリ洗浄+超音波酸洗浄+純水洗浄
清掃頻度:
40KHZ/80KHZ
タンク数:
10
総寸法:
12M*2M*2.8M
出力:
120kW
パッケージの詳細:
梱包:木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法:12m*2m*2.8m
供給の能力:
1台 30~60日かかる
ハイライト:

半導体・ウェーファー清掃機

,

ウェーファークリーニングマシン 120KW

,

超音波洗濯機 40KHZ

製品説明

半導体ウェーハクリーナー、超音波アルカリ洗浄 + 超音波酸性洗浄 + 純水リンス

 

主な技術的優位性

I. 三槽グラデーション洗浄システム

1. 超音波アルカリ洗浄槽 (pH 10-13)

技術パラメータ:

• 周波数: 80kHz/120kHz デュアル周波数切り替え (パルス超音波対応) • 槽材質: 改質PTFEライナー + 316Lステンレス鋼フレーム (130℃耐熱性、NaOH / アンモニア耐食性)

• 洗浄媒体: 水酸化カリウム (KOH)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド (TMAH) などのアルカリ溶液

主な機能: ✔ レジスト残渣の効率的な剥離: キャビテーション効果により接着膜の分子結合を破壊し、50〜80℃の恒温制御と合わせて、15分以内にSU-8 / ポジ型レジストを99.9%除去 ✔ 粒子状汚染物質の捕捉: ミクロンサイズのPPカートリッジ (5μm) + 磁気フィルター (Fe/Coなどの金属粒子を捕捉) を内蔵 ✔ 洗浄廃液のリアルタイムろ過

2. 超音波酸性洗浄槽 (pH 1-3)

技術パラメータ:

• 周波数: 850kHz MF超音波 (キャビテーション閾値 > 200μm、液体衝撃による損傷を回避)

• 槽材質: パーフルオロアルコキシ樹脂 (PFA) ライナー (HF耐性)。 PFA) ライナー (HF/HNO₃混合酸耐性)

• 洗浄媒体: BOEバッファ酸化エッチング液 (HF:NH₄F=1:6)、王水 (HNO₃:HCl=1:3)

主な機能:

✔ 金属イオン除去の深さ ✔ 表面粗さ制御: Al/Cu電極残渣に対して、酸エッチング + 超音波振動により、Na⁺/K⁺残渣を

<10¹⁰ atoms/cm²✔ 表面粗さ制御: 超音波パワーを動的に調整 (50-300W)、温度制御の精度±0.5℃と合わせて、ウェーハ表面Ra値≤0.2nmを保証

3. 純水メガソニックリンス槽 (抵抗率≥18.2MΩ・cm)

技術パラメータ:

• 周波数: 850kHz MF超音波 (キャビテーション閾値 > 200μm、液体衝撃による損傷を回避)

• 水質モニタリング: オンラインTOC検出器 (検出精度≤5ppb) + 粒子カウンター (0.1μm粒子サイズ検出)

• リンス方法: 向流リンス (純水利用率85%に向上) + メガソニックキャビテーション (サブミクロン粒子の剥離)

主な特徴:

✔ 残留物のない清浄度: DI水三段階ろ過 (活性炭 + RO膜 + ポリッシング樹脂) を採用し、50L/minのオーバーフロー率で、TOC残留を実現

<10ppb within 10 minutes✔ エッジエンハンスドクリーニング: 特許取得済みの回転スプレーアーム (速度0-300rpm調整可能) により、ウェーハエッジの1mmエリアの洗浄死角を解決

半導体ウェーハ洗浄プロセスのホワイトペーパーと特別見積もりプログラムについては、今すぐお問い合わせください!

 

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 0半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 1

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 2

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 3

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 4

半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ 5

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半導体・ウェーファー洗浄機 120KW 超音波洗濯機 40KHZ / 80KHZ

ブランド名: Jietai
モデル番号: JTM-100504AD
MOQ: 1
Price: ¥800000
パッケージの詳細: 梱包:木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法:12m*2m*2.8m
支払条件: 電信送金
詳細情報
起源の場所:
トンコワン、広東省
ブランド名:
Jietai
証明:
CE, FCC, ROHS, etc.
モデル番号:
JTM-100504AD
名前:
半導体洗浄機
清掃温度:
60°C
モデル:
JTM-100504AD
タイプ:
超音波アルカリ洗浄+超音波酸洗浄+純水洗浄
清掃頻度:
40KHZ/80KHZ
タンク数:
10
総寸法:
12M*2M*2.8M
出力:
120kW
最小注文数量:
1
価格:
¥800000
パッケージの詳細:
梱包:木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法:12m*2m*2.8m
受渡し時間:
30~60 営業日
支払条件:
電信送金
供給の能力:
1台 30~60日かかる
ハイライト:

半導体・ウェーファー清掃機

,

ウェーファークリーニングマシン 120KW

,

超音波洗濯機 40KHZ

製品説明

半導体ウェーハクリーナー、超音波アルカリ洗浄 + 超音波酸性洗浄 + 純水リンス

 

主な技術的優位性

I. 三槽グラデーション洗浄システム

1. 超音波アルカリ洗浄槽 (pH 10-13)

技術パラメータ:

• 周波数: 80kHz/120kHz デュアル周波数切り替え (パルス超音波対応) • 槽材質: 改質PTFEライナー + 316Lステンレス鋼フレーム (130℃耐熱性、NaOH / アンモニア耐食性)

• 洗浄媒体: 水酸化カリウム (KOH)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド (TMAH) などのアルカリ溶液

主な機能: ✔ レジスト残渣の効率的な剥離: キャビテーション効果により接着膜の分子結合を破壊し、50〜80℃の恒温制御と合わせて、15分以内にSU-8 / ポジ型レジストを99.9%除去 ✔ 粒子状汚染物質の捕捉: ミクロンサイズのPPカートリッジ (5μm) + 磁気フィルター (Fe/Coなどの金属粒子を捕捉) を内蔵 ✔ 洗浄廃液のリアルタイムろ過

2. 超音波酸性洗浄槽 (pH 1-3)

技術パラメータ:

• 周波数: 850kHz MF超音波 (キャビテーション閾値 > 200μm、液体衝撃による損傷を回避)

• 槽材質: パーフルオロアルコキシ樹脂 (PFA) ライナー (HF耐性)。 PFA) ライナー (HF/HNO₃混合酸耐性)

• 洗浄媒体: BOEバッファ酸化エッチング液 (HF:NH₄F=1:6)、王水 (HNO₃:HCl=1:3)

主な機能:

✔ 金属イオン除去の深さ ✔ 表面粗さ制御: Al/Cu電極残渣に対して、酸エッチング + 超音波振動により、Na⁺/K⁺残渣を

<10¹⁰ atoms/cm²✔ 表面粗さ制御: 超音波パワーを動的に調整 (50-300W)、温度制御の精度±0.5℃と合わせて、ウェーハ表面Ra値≤0.2nmを保証

3. 純水メガソニックリンス槽 (抵抗率≥18.2MΩ・cm)

技術パラメータ:

• 周波数: 850kHz MF超音波 (キャビテーション閾値 > 200μm、液体衝撃による損傷を回避)

• 水質モニタリング: オンラインTOC検出器 (検出精度≤5ppb) + 粒子カウンター (0.1μm粒子サイズ検出)

• リンス方法: 向流リンス (純水利用率85%に向上) + メガソニックキャビテーション (サブミクロン粒子の剥離)

主な特徴:

✔ 残留物のない清浄度: DI水三段階ろ過 (活性炭 + RO膜 + ポリッシング樹脂) を採用し、50L/minのオーバーフロー率で、TOC残留を実現

<10ppb within 10 minutes✔ エッジエンハンスドクリーニング: 特許取得済みの回転スプレーアーム (速度0-300rpm調整可能) により、ウェーハエッジの1mmエリアの洗浄死角を解決

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