제품 세부 정보

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반도체 웨이퍼 청소 기계 120KW 초음파 세탁기 40KHZ / 80KHZ

Name: 반도체 웨이퍼 청소 기계 120KW 초음파 세탁기 40KHZ / 80KHZ
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-100504AD
Price: 800000 USD
Availability: InStock

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-100504AD
모크:	1
가격:	￥800000
배달 시간:	0 일
지불 조건:	T/T

자세한 정보

제품 설명

자세한 정보

원래 장소:

동완, 광동

인증:

CE, FCC, ROHS, etc.

이름:

반도체 청소 기계

세척용 온도:

60C

모델:

JTM-100504AD

종류:

초음파 알칼리성 세척+초음파 산 세척+순수한 물 헹굼

청소 빈도:

40KHZ/80KHZ

탱크 수:

윤곽치수:

12m*2m*2.8m

힘:

120 kw

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.8m

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

강조하다:

반도체 웨이퍼 청소 기계

웨이퍼 청소 기계 120KW

초음파 세탁기 40KHZ

제품 설명

반도체 웨이퍼 클리너, 초음파 알칼리 세정 + 초음파 산성 세정 + 순수 물 린싱

핵심 기술적 장점

I. 3탱크 그래디언트 세정 시스템

1. 초음파 알칼리 세정 탱크 (pH 10-13)

기술 파라미터:

• 주파수: 80kHz/120kHz 듀얼 주파수 전환 (펄스 초음파 지원) • 탱크 재질: 개질 PTFE 라이너 + 316L 스테인리스 스틸 프레임 (130℃ 고온 저항, NaOH / 암모니아 부식 저항)

• 세정 매체: 수산화칼륨(KOH), 테트라메틸암모늄 수산화물(TMAH) 등과 같은 알칼리 용액

핵심 기능: ✔ 포토레지스트 잔류물 효율적 제거: 캐비테이션 효과를 통해 접착 필름의 분자 결합을 파괴하고, 50-80℃의 일정 온도 제어와 함께 15분 이내에 SU-8 / 정극성 포토레지스트 99.9% 제거

✔ 입자 오염물질 포착: 내장형 마이크론 크기 PP 카트리지 (5μm) + 자성 필터 (Fe/Co 및 기타 금속 입자 포착). ✔ 세정 폐기물 실시간 여과

2. 초음파 산성 세정 탱크 (pH 1-3)

기술 파라미터:

• 주파수: 150kHz 고주파 초음파 (캐비테이션 버블 크기를 줄여 웨이퍼 표면 손상 최소화)

• 탱크 재질: 퍼플루오로알콕시 수지(PFA) 라이너 (HF 내성). PFA) 라이너 (HF/HNO₃ 혼합산 내성)

• 세정 매체: BOE 버퍼 산화물 에천트 (HF:NH₄F=1:6), 왕수 (HNO₃:HCl=1:3)

핵심 기능:

✔ 금속 이온 제거 깊이 ✔ 표면 거칠기 제어: Al/Cu 전극 잔류물의 경우, 산 에칭 + 초음파 진동을 통해 Na⁺/K⁺ 잔류물 <10¹⁰ atoms/cm²

✔ 표면 거칠기 제어: 초음파 출력 동적 조정 (50-300W), 정밀 온도 제어 ±0.5℃와 함께 웨이퍼 표면 Ra 값 ≤ 0.2nm 보장

3. 순수 물 메가소닉 린싱 탱크 (저항률 ≥ 18.2MΩ·cm)

기술 파라미터:

• 주파수: 850kHz MF 초음파 (캐비테이션 임계값 > 200μm, 액체 충격 손상 방지)

• 수질 모니터링: 온라인 TOC 검출기 (검출 정확도 ≤ 5ppb) + 입자 계수기 (0.1μm 입자 크기 검출)

• 린싱 방법: 역류 린싱 (순수 물 사용률 85%로 증가) + 메가소닉 캐비테이션 (서브마이크론 입자 제거)

핵심 특징:

✔ 잔류물 없는 청결도: DI 물 3단계 여과 (활성탄 + RO 멤브레인 + 연마 수지) 채택, 50L/min의 오버플로우 속도로 TOC 잔류물 <10ppb 이내 10분 이내 실현

✔ 엣지 강화 세정: 특허받은 회전 스프레이 암 (속도 0-300rpm 조절 가능), 웨이퍼 엣지 1mm 영역의 세정 사각지대 해결.

반도체 웨이퍼 세정 공정 백서 및 독점 견적 프로그램에 대해 지금 바로 문의하세요!

반도체 웨이퍼 청소 기계 120KW 초음파 세탁기 40KHZ / 80KHZ 0

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반도체 웨이퍼 청소 기계 120KW 초음파 세탁기 40KHZ / 80KHZ

모든 범주

반도체 웨이퍼 청소 기계 120KW 초음파 세탁기 40KHZ / 80KHZ

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-100504AD
모크:	1
가격:	￥800000
포장에 대한 세부 사항:	포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m2m2.8m
지불 조건:	T/T

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원래 장소:

동완, 광동

브랜드 이름:

Jietai

인증:

CE, FCC, ROHS, etc.

모델 번호:

JTM-100504AD

이름:

반도체 청소 기계

세척용 온도:

60C

모델:

JTM-100504AD

종류:

초음파 알칼리성 세척+초음파 산 세척+순수한 물 헹굼

청소 빈도:

40KHZ/80KHZ

탱크 수:

윤곽치수:

12m*2m*2.8m

힘:

120 kw

최소 주문 수량:

가격:

￥800000

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.8m

배달 시간:

0 일

지불 조건:

T/T

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

강조하다:

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초음파 세탁기 40KHZ

제품 설명

반도체 웨이퍼 클리너, 초음파 알칼리 세정 + 초음파 산성 세정 + 순수 물 린싱

핵심 기술적 장점

I. 3탱크 그래디언트 세정 시스템

1. 초음파 알칼리 세정 탱크 (pH 10-13)

기술 파라미터:

• 세정 매체: 수산화칼륨(KOH), 테트라메틸암모늄 수산화물(TMAH) 등과 같은 알칼리 용액

✔ 입자 오염물질 포착: 내장형 마이크론 크기 PP 카트리지 (5μm) + 자성 필터 (Fe/Co 및 기타 금속 입자 포착). ✔ 세정 폐기물 실시간 여과

2. 초음파 산성 세정 탱크 (pH 1-3)

기술 파라미터:

• 주파수: 150kHz 고주파 초음파 (캐비테이션 버블 크기를 줄여 웨이퍼 표면 손상 최소화)

• 탱크 재질: 퍼플루오로알콕시 수지(PFA) 라이너 (HF 내성). PFA) 라이너 (HF/HNO₃ 혼합산 내성)

• 세정 매체: BOE 버퍼 산화물 에천트 (HF:NH₄F=1:6), 왕수 (HNO₃:HCl=1:3)

핵심 기능:

✔ 금속 이온 제거 깊이 ✔ 표면 거칠기 제어: Al/Cu 전극 잔류물의 경우, 산 에칭 + 초음파 진동을 통해 Na⁺/K⁺ 잔류물 <10¹⁰ atoms/cm²

✔ 표면 거칠기 제어: 초음파 출력 동적 조정 (50-300W), 정밀 온도 제어 ±0.5℃와 함께 웨이퍼 표면 Ra 값 ≤ 0.2nm 보장

3. 순수 물 메가소닉 린싱 탱크 (저항률 ≥ 18.2MΩ·cm)

기술 파라미터:

• 주파수: 850kHz MF 초음파 (캐비테이션 임계값 > 200μm, 액체 충격 손상 방지)

• 수질 모니터링: 온라인 TOC 검출기 (검출 정확도 ≤ 5ppb) + 입자 계수기 (0.1μm 입자 크기 검출)

• 린싱 방법: 역류 린싱 (순수 물 사용률 85%로 증가) + 메가소닉 캐비테이션 (서브마이크론 입자 제거)

핵심 특징:

✔ 잔류물 없는 청결도: DI 물 3단계 여과 (활성탄 + RO 멤브레인 + 연마 수지) 채택, 50L/min의 오버플로우 속도로 TOC 잔류물 <10ppb 이내 10분 이내 실현

✔ 엣지 강화 세정: 특허받은 회전 스프레이 암 (속도 0-300rpm 조절 가능), 웨이퍼 엣지 1mm 영역의 세정 사각지대 해결.

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