Détails des produits

À la maison Produits

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

Nom De Marque:	Jietai
Numéro De Modèle:	JTM-100504AD
Nombre De Pièces:	1
Price:	￥800000
Délai De Livraison:	30 à 60 jours ouvrables
Conditions De Paiement:	t/t

Informations détaillées

Description du produit

Informations détaillées

Lieu d'origine:

Dongguan, Guangdong

Certification:

CE, FCC, ROHS, etc.

Modèle:

JTM-100504AD

Le pouvoir:

120kW

Type:

Lavage alcalin aux ultrasons + Lavage acide aux ultrasons + Rinçage à l'eau pure

Fréquence de nettoyage:

Les fréquences de fréquence de l'appareil doivent être:

Nombre de réservoirs:

Température de nettoyage:

Dimensions globales:

12M*2M*2.8M

name:

Machine à nettoyer les semi-conducteurs

Détails d'emballage:

Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M*2 M*2,8 M

Capacité d'approvisionnement:

Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.

Description du produit

Introduction du produit : Nettoyeur de plaquettes de silicium pour semi-conducteurs

Conçu spécifiquement pour la fabrication de semi-conducteurs, ce système de nettoyage de précision intègre des processus ultrasoniques multi-étapes pour répondre aux exigences strictes de pureté de surface des plaquettes de silicium, garantissant une contamination particulaire minimale et l'élimination des résidus, éléments essentiels à la fabrication des plaquettes.

Processus de nettoyage principaux :

Nettoyage ultrasonique alcalin : Utilise une chimie alcaline combinée à l'énergie ultrasonique pour éliminer efficacement les contaminants organiques, les résidus de résine photosensible et les grosses particules des surfaces des plaquettes, préparant ainsi les substrats pour les traitements ultérieurs.
Nettoyage ultrasonique acide : Cible les impuretés inorganiques (par exemple, les ions métalliques, les oxydes) grâce à un traitement ultrasonique à base d'acide, en tirant parti des effets de cavitation pour déloger les contaminants submicroniques intégrés dans les textures ou les structures à motifs des plaquettes.
Rinçage à l'eau désionisée : L'étape finale utilise de l'eau désionisée de haute pureté pour un rinçage complet, éliminant les agents de nettoyage résiduels et garantissant la neutralité de la surface, une condition préalable à la manipulation et au traitement des plaquettes après le nettoyage.

Spécifications techniques :

Fréquence ultrasonore : 40 kHz-80 kHz (multi-fréquences réglables, optimisant l'intensité de la cavitation pour différents types de contamination)
Température de fonctionnement : 60 °C (environnement thermique contrôlé avec précision pour améliorer la réactivité chimique et l'efficacité du nettoyage)
Compatibilité des matériaux : Construit avec des composants en PVDF, en quartz et en acier inoxydable 316L pour résister aux chimies corrosives et prévenir la contamination secondaire.

Avantages clés :

Atteint une efficacité d'élimination des particules inférieure à 10 nm, conforme aux normes SEMI pour le traitement avancé des plaquettes
La configuration ultrasonore multi-fréquences s'adapte aux diverses exigences de nettoyage (des plaquettes nues aux étapes de plaquettes à motifs)
Le contrôle de la température en boucle fermée assure la répétabilité du processus, essentielle pour la cohérence d'un lot à l'autre
S'intègre de manière transparente dans les chaînes de fabrication front-end et back-end des semi-conducteurs

Application : Idéal pour le nettoyage des plaquettes de silicium dans la fabrication de circuits intégrés, la fabrication de MEMS et les processus d'encapsulation des semi-conducteurs, où l'intégrité de la surface a un impact direct sur les performances et le rendement des appareils.

Mots-clés : Nettoyeur de plaquettes de semi-conducteurs, nettoyage ultrasonique alcalin/acide, rinçage à l'eau désionisée, 40-80 kHz, contrôle de la température à 60 °C, traitement des plaquettes de silicium

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 0

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 2

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 3

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 4

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 5

Tags:

Nettoyeur à ultrasons automatisé

Équipement de nettoyage par ultrasons

Système de nettoyage ultrasonique

Produits connexes

Vidéo

11 réservoirs Machine de nettoyage des semi-conducteurs Machine de nettoyage des plaquettes de silicium 40KHZ

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Système de nettoyage par ultrasons automatisé de 100 kW 11 réservoirs

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Machine de nettoyage de semi-conducteurs à haut rendement 250 kW Nettoyeur à ultrasons personnalisé

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Machine de nettoyage par ultrasons automatisée à plusieurs étapes Système de passivation personnalisé

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Machine manuelle de nettoyage des semi-conducteurs 251KW ligne de nettoyage électrolytique personnalisée pour le corps de la vanne

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Système de nettoyage ultrasonique pour plaquettes de semi-conducteurs 100KW Nettoyeur ultrasonique automatisé

Obtenez le meilleur prix

Systèmes de passivation des corps de soupapes des machines de nettoyage de semi-conducteurs de 180 kW 40KHZ - 80KHZ

Obtenez le meilleur prix

Vidéo

Machine de nettoyage à ultrasons entièrement automatique Wafers de silicium équipement de nettoyage à ultrasons 100KW

Obtenez le meilleur prix

Détails Des Produits

À la maison Produits

Machine à nettoyer les semi-conducteurs

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

Toutes Les Catégories

Équipement de nettoyage par ultrasons

Nettoyeur à ultrasons électronique

Nettoyeur à ultrasons

Machine à nettoyer les semi-conducteurs

Nettoyeur à ultrasons commercial

Nettoyeur à ultrasons pour l' aérospatiale

Décapant ultrasonique médical

Nettoyeur ultrasonique personnalisé

Machine de nettoyage de jet

Machine de nettoyage de moules par ultrasons

Nettoyeur à ultrasons automobile

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

Nom De Marque:	Jietai
Numéro De Modèle:	JTM-100504AD
Nombre De Pièces:	1
Price:	￥800000
Détails De L'emballage:	Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M2 M2,8 M
Conditions De Paiement:	t/t

Informations détaillées

Description du produit

Informations détaillées

Lieu d'origine:

Dongguan, Guangdong

Nom de marque:

Jietai

Certification:

CE, FCC, ROHS, etc.

Numéro de modèle:

JTM-100504AD

Modèle:

JTM-100504AD

Le pouvoir:

120kW

Type:

Lavage alcalin aux ultrasons + Lavage acide aux ultrasons + Rinçage à l'eau pure

Fréquence de nettoyage:

Les fréquences de fréquence de l'appareil doivent être:

Nombre de réservoirs:

Température de nettoyage:

60°C

Dimensions globales:

12M*2M*2.8M

name:

Machine à nettoyer les semi-conducteurs

Quantité de commande min:

Prix:

￥800000

Détails d'emballage:

Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M*2 M*2,8 M

Délai de livraison:

30 à 60 jours ouvrables

Conditions de paiement:

t/t

Capacité d'approvisionnement:

Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.

Description du produit

Introduction du produit : Nettoyeur de plaquettes de silicium pour semi-conducteurs

Processus de nettoyage principaux :

Nettoyage ultrasonique alcalin : Utilise une chimie alcaline combinée à l'énergie ultrasonique pour éliminer efficacement les contaminants organiques, les résidus de résine photosensible et les grosses particules des surfaces des plaquettes, préparant ainsi les substrats pour les traitements ultérieurs.
Nettoyage ultrasonique acide : Cible les impuretés inorganiques (par exemple, les ions métalliques, les oxydes) grâce à un traitement ultrasonique à base d'acide, en tirant parti des effets de cavitation pour déloger les contaminants submicroniques intégrés dans les textures ou les structures à motifs des plaquettes.
Rinçage à l'eau désionisée : L'étape finale utilise de l'eau désionisée de haute pureté pour un rinçage complet, éliminant les agents de nettoyage résiduels et garantissant la neutralité de la surface, une condition préalable à la manipulation et au traitement des plaquettes après le nettoyage.

Spécifications techniques :

Fréquence ultrasonore : 40 kHz-80 kHz (multi-fréquences réglables, optimisant l'intensité de la cavitation pour différents types de contamination)
Température de fonctionnement : 60 °C (environnement thermique contrôlé avec précision pour améliorer la réactivité chimique et l'efficacité du nettoyage)
Compatibilité des matériaux : Construit avec des composants en PVDF, en quartz et en acier inoxydable 316L pour résister aux chimies corrosives et prévenir la contamination secondaire.

Avantages clés :

Atteint une efficacité d'élimination des particules inférieure à 10 nm, conforme aux normes SEMI pour le traitement avancé des plaquettes
La configuration ultrasonore multi-fréquences s'adapte aux diverses exigences de nettoyage (des plaquettes nues aux étapes de plaquettes à motifs)
Le contrôle de la température en boucle fermée assure la répétabilité du processus, essentielle pour la cohérence d'un lot à l'autre
S'intègre de manière transparente dans les chaînes de fabrication front-end et back-end des semi-conducteurs

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 0

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 2

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 3

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 4

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C 5

Tags:

Machine manuelle de nettoyage des semi-conducteurs 251KW ligne de nettoyage électrolytique personnalisée pour le corps de la vanne

Obtenez le meilleur prix

Vidéo