Chi tiết sản phẩm

Nhà các sản phẩm

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

Tên thương hiệu:	Jietai
Số mẫu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
giá bán:	￥800000
Thời gian giao hàng:	30-60work days
Điều khoản thanh toán:	T/T

Thông tin chi tiết

Mô tả sản phẩm

Thông tin chi tiết

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Chứng nhận:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model:

JTM-100504AD

Power:

120KW

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Mô tả sản phẩm

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

Engineered specifically for semiconductor manufacturing, this precision cleaning system integrates multi-stage ultrasonic processes to meet the stringent surface purity requirements of silicon wafers, ensuring minimal particle contamination and residual removal critical for wafer fabrication.

Core Cleaning Processes:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes alkaline chemistry combined with ultrasonic energy to effectively remove organic contaminants, photoresist residues, and large particulate matter from wafer surfaces, preparing substrates for subsequent processing.
Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxides) through acid-based ultrasonic treatment, leveraging cavitation effects to dislodge submicron contaminants embedded in wafer textures or patterned structures.
DI Water Rinsing: Final stage employs high-purity deionized water for thorough rinsing, eliminating residual cleaning agents and ensuring surface neutrality, a prerequisite for post-cleaning wafer handling and processing.

Technical Specifications:

Ultrasonic Frequency: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, optimizing cavitation intensity for different contamination types)
Operating Temperature: 60℃ (precision-controlled thermal environment to enhance chemical reactivity and cleaning efficiency)
Material Compatibility: Constructed with PVDF, quartz, and 316L stainless steel components to resist corrosive chemistries and prevent secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-10nm particle removal efficiency, compliant with SEMI standards for advanced wafer processing
Multi-frequency ultrasonic configuration adapts to diverse cleaning requirements (from bare wafer to patterned wafer stages)
Closed-loop temperature control ensures process repeatability, critical for batch-to-batch consistency
Integrates seamlessly into semiconductor front-end and back-end manufacturing lines

Application: Ideal for cleaning silicon wafers in IC manufacturing, MEMS fabrication, and semiconductor packaging processes, where surface integrity directly impacts device performance and yield.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ temperature control, silicon wafer processing

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags:

Máy làm sạch siêu âm tự động

Thiết bị làm sạch siêu âm

Hệ thống làm sạch siêu âm

Sản phẩm liên quan

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn 11 bể Máy làm sạch wafer silicon 40KHZ

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Hệ thống làm sạch siêu âm tự động 100KW 11 bể Máy làm sạch siêu âm

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn hiệu quả cao 250KW Máy làm sạch siêu âm tùy chỉnh

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy rửa siêu âm tự động đa giai đoạn Hệ thống thụ động tùy chỉnh

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn bằng tay 251KW Dòng làm sạch điện phân tùy chỉnh cho thân van

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Hệ thống làm sạch siêu âm các tấm bán dẫn 100KW Máy làm sạch siêu âm tự động

Nhận được giá tốt nhất

Máy làm sạch bán dẫn 180KW Bộ van hệ thống thụ động 40KHZ - 80KHZ

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch siêu âm hoàn toàn tự động Silicon Wafers Thiết bị làm sạch siêu âm 100KW

Nhận được giá tốt nhất

Chi tiết sản phẩm

Nhà các sản phẩm

Máy làm sạch bán dẫn

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

Tất cả các loại

thiết bị làm sạch siêu âm

Điện tử Siêu âm sạch

Công cụ siêu âm sạch

Máy làm sạch bán dẫn

Chất tẩy rửa siêu âm thương mại

Aerospace Soltrasonic Cleaner

Chất tẩy rửa siêu âm y tế

Tùy chỉnh siêu âm

Máy làm sạch phun

Máy làm sạch khuôn siêu âm

Chất tẩy rửa siêu âm ô tô

Thiết bị xử lý nước thải công nghiệp

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

Tên thương hiệu:	Jietai
Số mẫu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
giá bán:	￥800000
Chi tiết bao bì:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
Điều khoản thanh toán:	T/T

Thông tin chi tiết

Mô tả sản phẩm

Thông tin chi tiết

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Hàng hiệu:

Jietai

Chứng nhận:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Model:

JTM-100504AD

Power:

120KW

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

60℃

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Minimum Order Quantity:

Giá bán:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Mô tả sản phẩm

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

Core Cleaning Processes:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes alkaline chemistry combined with ultrasonic energy to effectively remove organic contaminants, photoresist residues, and large particulate matter from wafer surfaces, preparing substrates for subsequent processing.
Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxides) through acid-based ultrasonic treatment, leveraging cavitation effects to dislodge submicron contaminants embedded in wafer textures or patterned structures.
DI Water Rinsing: Final stage employs high-purity deionized water for thorough rinsing, eliminating residual cleaning agents and ensuring surface neutrality, a prerequisite for post-cleaning wafer handling and processing.

Technical Specifications:

Ultrasonic Frequency: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, optimizing cavitation intensity for different contamination types)
Operating Temperature: 60℃ (precision-controlled thermal environment to enhance chemical reactivity and cleaning efficiency)
Material Compatibility: Constructed with PVDF, quartz, and 316L stainless steel components to resist corrosive chemistries and prevent secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-10nm particle removal efficiency, compliant with SEMI standards for advanced wafer processing
Multi-frequency ultrasonic configuration adapts to diverse cleaning requirements (from bare wafer to patterned wafer stages)
Closed-loop temperature control ensures process repeatability, critical for batch-to-batch consistency
Integrates seamlessly into semiconductor front-end and back-end manufacturing lines

Application: Ideal for cleaning silicon wafers in IC manufacturing, MEMS fabrication, and semiconductor packaging processes, where surface integrity directly impacts device performance and yield.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ temperature control, silicon wafer processing

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags: