details van de producten

Huis Producten

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃

Merknaam:	Jietai
Modelnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
Leveringstermijn:	30-60 werkdagen
Betalingsvoorwaarden:	t/t

Gedetailleerde informatie

Productbeschrijving

Gedetailleerde informatie

Plaats van herkomst:

Dongguan, Guangdong

Certificering:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model:

JTM-100504AD

Vermogen:

120kW

Type:

Ultrasone alkalisch wassen+Ultrasone zuurwassen+Suiver met zuiver water

Reinigingsfrequentie:

40 kHz/80 kHz

Aantal tanks:

Reinigingstemperatuur:

Totale afmetingen:

12M*2M*2.8M

naam:

halfgeleiderreinigingsmachine

Verpakking Details:

Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M*2M*2.8M

Levering vermogen:

Het duurt 30 tot 60 dagen.

Productbeschrijving

Inleiding van het product: halfgeleider siliciumwaferreiniger

Dit precisie-reinigingssysteem is speciaal ontworpen voor de productie van halfgeleiders en integreert ultrasoonprocessen in meerdere fasen om te voldoen aan de strenge oppervlaktezuiverheidsvereisten van siliciumwafers,de minimale verontreiniging door deeltjes en de verwijdering van residuen die van cruciaal belang zijn voor de fabricage van wafers.

Kernreinigingsprocessen:

Ultrasone alkalische reiniging: maakt gebruik van alkalische chemie in combinatie met ultrasone energie om organische verontreinigingen, fotoresistente residuen,en grote deeltjes van wafers, het bereiden van substraten voor latere verwerking.
Ultrasone zuurreiniging: richt zich op anorganische onzuiverheden (bijv. metaalionen, oxiden) door middel van een zuurgebaseerde ultrasone behandeling,gebruikmakend van cavitatie-effecten om submicronverontreinigende stoffen die in wafertexturen of gemodelleerde structuren zijn ingebed te verwijderen.
DI water spoelen: in de laatste fase wordt gebruik gemaakt van zuiver gedeioniseerd water voor grondig spoelen, waardoor residuele reinigingsmiddelen worden verwijderd en de oppervlakte neutraal wordt.een voorwaarde voor de behandeling en verwerking van wafers na reiniging.

Technische specificaties

Ultrasone frequentie: 40KHz-80KHz (multi-frequentie verstelbaar, cavitatie-intensiteit optimaal voor verschillende soorten verontreiniging)
Werktemperatuur: 60°C (precieze beheerde thermische omgeving om de chemische reactiviteit en reinigingsdoeltreffendheid te verbeteren)
Materiaalcompatibiliteit: Gebouwd met PVDF-, kwarts- en 316L-roestvrijstalen componenten om corrosieve chemicaliën te weerstaan en secundaire verontreiniging te voorkomen.

Belangrijkste voordelen:

Bereikt sub-10nm deeltjesverwijderingsefficiëntie, in overeenstemming met SEMI-normen voor geavanceerde waferverwerking
Multifrequente ultrasone configuratie past zich aan diverse reinigingsvereisten aan (van kaal wafer tot gemodelleerde waferstadia)
Temperatuurregeling met gesloten lus zorgt voor herhaalbaarheid van het proces, cruciaal voor consistentie van batch tot batch
Integreert naadloos in halfgeleider front-end en back-end productielijnen

Toepassing: ideaal voor het reinigen van siliciumwafers in IC-productie, MEMS-fabricage en halfgeleiderverpakkingsprocessen, waarbij de oppervlakte-integriteit rechtstreeks van invloed is op de prestaties en het rendement van het apparaat.

Sleutelwoorden: halfgeleiderwaferreiniger, ultrasone alkalische/zuurreiniging, DI water spoelen, 40-80KHz, 60°C temperatuurregeling, siliconenwaferverwerking

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags:

Geautomatiseerde ultrasone reiniger

Ultrasoonreinigingsapparatuur

Ultrasoon schoonmakend systeem

Verwante producten

Video

11 Tanks Halveringsreinigingsmachine Silicon Wafer Reinigingsmachine 40KHZ

Vind de beste prijs

Video

100 kW automatisch ultrasoonreinigingssysteem 11 tanks Ultrasoonreinigingsmachines

Vind de beste prijs

Video

Hoogrendement Semiconductor Reinigingsmachine 250KW Aangepaste Ultrasone Reiniger

Vind de beste prijs

Video

Multi Stage Automated Ultrasonic Cleaning Machine Customized Passivation System

Vind de beste prijs

Video

Handmatige halfgeleiderreinigingsmachine 251 kW elektrolytische reinigingslijn op maat voor de klep

Vind de beste prijs

Video

Ultrasone reinigingssysteem voor halfgeleiderwafels 100 kW Automatische ultrasone reiniger

Vind de beste prijs

180KW halfgeleiderreinigingsmachine klepkarren passivatiesystemen 40KHZ - 80KHZ

Vind de beste prijs

Video

Volledig automatische ultrasoon reinigingsmachine Silicium wafers Ultrasoon reiniger apparatuur 100KW

Vind de beste prijs

Details Van De Producten

Huis Producten

halfgeleiderreinigingsmachine

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃

Alle Categorieën

Ultrasone reinigingsapparatuur

Elektronica Ultrasone Reiniger

Ultrasone reiniger voor instrumenten

halfgeleiderreinigingsmachine

Commerciële ultrasoonreiniger

Ultrasone reiniger voor de luchtvaart

Medische Ultrasone Reinigingsmachine

Ultrasone schoonmaakmiddel op maat

Nevel Schoonmakende Machine

Ultrasone schimmelreinigingsmachine

Ultrasone reiniger voor auto's

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃

Merknaam:	Jietai
Modelnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
Verpakking:	Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M2M2.8M
Betalingsvoorwaarden:	t/t

Gedetailleerde informatie

Productbeschrijving

Gedetailleerde informatie

Plaats van herkomst:

Dongguan, Guangdong

Merknaam:

Jietai

Certificering:

CE, FCC, ROHS, etc.

Modelnummer:

JTM-100504AD

Model:

JTM-100504AD

Vermogen:

120kW

Type:

Ultrasone alkalisch wassen+Ultrasone zuurwassen+Suiver met zuiver water

Reinigingsfrequentie:

40 kHz/80 kHz

Aantal tanks:

Reinigingstemperatuur:

60°C

Totale afmetingen:

12M*2M*2.8M

naam:

halfgeleiderreinigingsmachine

Min. bestelaantal:

Prijs:

￥800000

Verpakking Details:

Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M*2M*2.8M

Levertijd:

30-60 werkdagen

Betalingscondities:

t/t

Levering vermogen:

Het duurt 30 tot 60 dagen.

Productbeschrijving

Inleiding van het product: halfgeleider siliciumwaferreiniger

Kernreinigingsprocessen:

Ultrasone alkalische reiniging: maakt gebruik van alkalische chemie in combinatie met ultrasone energie om organische verontreinigingen, fotoresistente residuen,en grote deeltjes van wafers, het bereiden van substraten voor latere verwerking.
Ultrasone zuurreiniging: richt zich op anorganische onzuiverheden (bijv. metaalionen, oxiden) door middel van een zuurgebaseerde ultrasone behandeling,gebruikmakend van cavitatie-effecten om submicronverontreinigende stoffen die in wafertexturen of gemodelleerde structuren zijn ingebed te verwijderen.
DI water spoelen: in de laatste fase wordt gebruik gemaakt van zuiver gedeioniseerd water voor grondig spoelen, waardoor residuele reinigingsmiddelen worden verwijderd en de oppervlakte neutraal wordt.een voorwaarde voor de behandeling en verwerking van wafers na reiniging.

Technische specificaties

Ultrasone frequentie: 40KHz-80KHz (multi-frequentie verstelbaar, cavitatie-intensiteit optimaal voor verschillende soorten verontreiniging)
Werktemperatuur: 60°C (precieze beheerde thermische omgeving om de chemische reactiviteit en reinigingsdoeltreffendheid te verbeteren)
Materiaalcompatibiliteit: Gebouwd met PVDF-, kwarts- en 316L-roestvrijstalen componenten om corrosieve chemicaliën te weerstaan en secundaire verontreiniging te voorkomen.

Belangrijkste voordelen:

Bereikt sub-10nm deeltjesverwijderingsefficiëntie, in overeenstemming met SEMI-normen voor geavanceerde waferverwerking
Multifrequente ultrasone configuratie past zich aan diverse reinigingsvereisten aan (van kaal wafer tot gemodelleerde waferstadia)
Temperatuurregeling met gesloten lus zorgt voor herhaalbaarheid van het proces, cruciaal voor consistentie van batch tot batch
Integreert naadloos in halfgeleider front-end en back-end productielijnen

Sleutelwoorden: halfgeleiderwaferreiniger, ultrasone alkalische/zuurreiniging, DI water spoelen, 40-80KHz, 60°C temperatuurregeling, siliconenwaferverwerking

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + DI Water Spoelen, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags: