تفاصيل المنتجات

المنزل المنتجات

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

اسم العلامة التجارية:	Jietai
رقم الطراز:	JTM-100504AD
الـ MOQ:	1
السعر:	￥800000
وقت التسليم:	30-60work days
شروط الدفع:	T/T

معلومات مفصلة

وصف المنتج

معلومات مفصلة

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

إصدار الشهادات:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model:

JTM-100504AD

Power:

120KW

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

وصف المنتج

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

Engineered specifically for semiconductor manufacturing, this precision cleaning system integrates multi-stage ultrasonic processes to meet the stringent surface purity requirements of silicon wafers, ensuring minimal particle contamination and residual removal critical for wafer fabrication.

Core Cleaning Processes:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes alkaline chemistry combined with ultrasonic energy to effectively remove organic contaminants, photoresist residues, and large particulate matter from wafer surfaces, preparing substrates for subsequent processing.
Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxides) through acid-based ultrasonic treatment, leveraging cavitation effects to dislodge submicron contaminants embedded in wafer textures or patterned structures.
DI Water Rinsing: Final stage employs high-purity deionized water for thorough rinsing, eliminating residual cleaning agents and ensuring surface neutrality, a prerequisite for post-cleaning wafer handling and processing.

Technical Specifications:

Ultrasonic Frequency: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, optimizing cavitation intensity for different contamination types)
Operating Temperature: 60℃ (precision-controlled thermal environment to enhance chemical reactivity and cleaning efficiency)
Material Compatibility: Constructed with PVDF, quartz, and 316L stainless steel components to resist corrosive chemistries and prevent secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-10nm particle removal efficiency, compliant with SEMI standards for advanced wafer processing
Multi-frequency ultrasonic configuration adapts to diverse cleaning requirements (from bare wafer to patterned wafer stages)
Closed-loop temperature control ensures process repeatability, critical for batch-to-batch consistency
Integrates seamlessly into semiconductor front-end and back-end manufacturing lines

Application: Ideal for cleaning silicon wafers in IC manufacturing, MEMS fabrication, and semiconductor packaging processes, where surface integrity directly impacts device performance and yield.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ temperature control, silicon wafer processing

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags:

منظف بالموجات فوق الصوتية الآلي,معدات التنظيف بالموجات فوق الصوتية,نظام التنظيف بالموجات فوق الصوتية

Ultrasonic Cleaner Equipment

Ultrasonic Cleaning System

منتجات ذات صلة

فيديو

11 خزانات آلة تنظيف أشباه الموصلات آلة تنظيف رقائق السيليكون 40KHZ

احصل على أفضل سعر

فيديو

نظام تنظيف بالموجات فوق الصوتية الآلي 100 كيلوواط 11 خزانات آلات تنظيف بالموجات فوق الصوتية

احصل على أفضل سعر

فيديو

آلة تنظيف أشباه الموصلات عالية الكفاءة 250 كيلو واط منظف بالموجات فوق الصوتية مخصص

احصل على أفضل سعر

فيديو

آلة تنظيف بالموجات فوق الصوتية ذاتية المراحل المتعددة نظام التجاوز المخصص

احصل على أفضل سعر

فيديو

آلة تنظيف أشباه الموصلات اليدوية 251KW خط تنظيف إلكتروليتي مخصص لجسم الصمام

احصل على أفضل سعر

فيديو

نظام تنظيف رقائق أشباه الموصلات بالموجات فوق الصوتية 100 كيلو واط منظف بالموجات فوق الصوتية آلي

احصل على أفضل سعر

180KW آلات تنظيف أشباه الموصلات - أنظمة خمول أجسام الصمامات 40KHZ - 80KHZ

احصل على أفضل سعر

فيديو

آلة تنظيف بالموجات فوق الصوتية تلقائية بالكامل رقائق السيليكون معدات تنظيف بالموجات فوق الصوتية 100 كيلوواط

احصل على أفضل سعر

تفاصيل المنتجات

المنزل المنتجات

آلة تنظيف أشباه الموصلات

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

جميع الفئات

معدات التنظيف بالموجات فوق الصوتية

الالكترونيات منظف الموجات فوق الصوتية

أداة منظف الموجات فوق الصوتية

آلة تنظيف أشباه الموصلات

منظف بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف بالموجات فوق الصوتية المخصصة

آلة تنظيف الرذاذ

آلة تنظيف القالب بالموجات فوق الصوتية

منظف بالموجات فوق الصوتية للسيارات

معدات معالجة مياه الصرف الصناعي

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

اسم العلامة التجارية:	Jietai
رقم الطراز:	JTM-100504AD
الـ MOQ:	1
السعر:	￥800000
تفاصيل التعبئة:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
شروط الدفع:	T/T

معلومات مفصلة

وصف المنتج

معلومات مفصلة

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

اسم العلامة التجارية:

Jietai

إصدار الشهادات:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Model:

JTM-100504AD

Power:

120KW

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

60℃

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Minimum Order Quantity:

الأسعار:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

وصف المنتج

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

Core Cleaning Processes:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes alkaline chemistry combined with ultrasonic energy to effectively remove organic contaminants, photoresist residues, and large particulate matter from wafer surfaces, preparing substrates for subsequent processing.
Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxides) through acid-based ultrasonic treatment, leveraging cavitation effects to dislodge submicron contaminants embedded in wafer textures or patterned structures.
DI Water Rinsing: Final stage employs high-purity deionized water for thorough rinsing, eliminating residual cleaning agents and ensuring surface neutrality, a prerequisite for post-cleaning wafer handling and processing.

Technical Specifications:

Ultrasonic Frequency: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, optimizing cavitation intensity for different contamination types)
Operating Temperature: 60℃ (precision-controlled thermal environment to enhance chemical reactivity and cleaning efficiency)
Material Compatibility: Constructed with PVDF, quartz, and 316L stainless steel components to resist corrosive chemistries and prevent secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-10nm particle removal efficiency, compliant with SEMI standards for advanced wafer processing
Multi-frequency ultrasonic configuration adapts to diverse cleaning requirements (from bare wafer to patterned wafer stages)
Closed-loop temperature control ensures process repeatability, critical for batch-to-batch consistency
Integrates seamlessly into semiconductor front-end and back-end manufacturing lines

Application: Ideal for cleaning silicon wafers in IC manufacturing, MEMS fabrication, and semiconductor packaging processes, where surface integrity directly impacts device performance and yield.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ temperature control, silicon wafer processing

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃ 5

Tags:

معدات التنظيف بالموجات فوق الصوتية

الالكترونيات منظف الموجات فوق الصوتية

أداة منظف الموجات فوق الصوتية

آلة تنظيف أشباه الموصلات

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية المخصصة

آلة تنظيف الرذاذ

آلة تنظيف القالب بالموجات فوق الصوتية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية للسيارات

معدات معالجة مياه الصرف الصناعي

معدات التنظيف بالموجات فوق الصوتية

الالكترونيات منظف الموجات فوق الصوتية

أداة منظف الموجات فوق الصوتية

آلة تنظيف أشباه الموصلات

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية المخصصة

آلة تنظيف الرذاذ

آلة تنظيف القالب بالموجات فوق الصوتية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية للسيارات

معدات معالجة مياه الصرف الصناعي

تفاصيل المنتجات

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

تفاصيل المنتجات

معدات التنظيف بالموجات فوق الصوتية

الالكترونيات منظف الموجات فوق الصوتية

أداة منظف الموجات فوق الصوتية

آلة تنظيف أشباه الموصلات

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية المخصصة

آلة تنظيف الرذاذ

آلة تنظيف القالب بالموجات فوق الصوتية

منظف ​​بالموجات فوق الصوتية للسيارات

معدات معالجة مياه الصرف الصناعي

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 40KHz-80KHz, 60℃

منظف بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف بالموجات فوق الصوتية المخصصة

منظف بالموجات فوق الصوتية للسيارات

منظف بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف بالموجات فوق الصوتية المخصصة

منظف بالموجات فوق الصوتية للسيارات

منظف بالموجات فوق الصوتية التجارية

منظف بالموجات فوق الصوتية الطيران

منظف بالموجات فوق الصوتية الطبية

منظف بالموجات فوق الصوتية المخصصة

منظف بالموجات فوق الصوتية للسيارات