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半導体シリコン・ウェーファークリーナー - 超音波アルカリ/酸浄化+DI水洗浄,40KHz-80KHz,60°C

Name: 半導体シリコン・ウェーファークリーナー - 超音波アルカリ/酸浄化+DI水洗浄,40KHz-80KHz,60°C
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-100504AD
Price: 800000 USD
Availability: InStock

ブランド名:	Jietai
モデル番号:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
配達時間:	30~60 営業日
支払条件:	t/t

詳細情報

製品説明

詳細情報

起源の場所:

トンコワン、広東省

証明:

CE, FCC, ROHS, etc.

モデル:

JTM-100504AD

出力:

120kW

タイプ:

超音波アルカリ洗浄+超音波酸洗浄+純水洗浄

清掃頻度:

40KHZ/80KHZ

タンク数:

清掃温度:

60°C

総寸法:

12M*2M*2.8M

名前:

半導体洗浄機

パッケージの詳細:

梱包：木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法：12m*2m*2.8m

供給の能力:

1台 30~60日かかる

製品説明

製品紹介: 半導体シリコン・ウェーファークリーナー

半導体製造用に特別に設計されたこの精密浄化システムは,シリコンウェーファーの厳格な表面純度要件を満たすために,多段階超音波プロセスを統合しています,小粒子の汚染を最小限に抑え,ウエーファー製造に不可欠な残留物を除去する.

基本浄化プロセス:

超音波アルカリ浄化: アルカリ化学を超音波エネルギーと組み合わせることで有機汚染物,光抵抗残留物を効果的に除去しますウェッファー表面から放出される大小粒子材料を後処理に備える.
超音波酸浄化:酸性超音波処理により無機不浄物 (例えば金属イオン,酸化物) を標的とする.波紋構造や模様構造に埋め込まれた微小微小の汚染物質を排出するカビテーション効果を利用する.
DI 水洗浄:最終段階では,高純度デイオニ化水を使用して徹底的に洗浄し,残留クリーニング剤を除去し,表面中立性を確保します.洗浄後のワッフル処理と加工の前提条件.

技術仕様:

超音波周波数: 40KHz-80KHz (多周波調節可能で,異なる汚染タイプに対してカビテーション強度を最適化)
動作温度: 60°C (化学反応性と清掃効率の向上のために精密制御された熱環境)
材料互換性:腐食性化学物質に抵抗し,二次汚染を防ぐためにPVDF,クォーツ,および316Lステンレス鋼部品で構築されています.

主要な利点:

微粒子の除去効率は10nm未満で,高度なウェーファー加工のためのSEMI規格に準拠しています
多周波超音波配置は,様々な清掃要件に適応 (裸のウエファーからパターンのあるウエファー段階まで)
閉ループ温度制御は,バッチ対バッチ一貫性にとって重要なプロセス繰り返しを保証する
半導体のフロントエンドとバックエンド製造ラインにシームレスに統合

適用:IC製造,MEMS製造,半導体包装プロセスにおけるシリコンウエフルの清掃に最適.表面の整合性はデバイスの性能と出力に直接影響する.

キーワード: 半導体ウエファークリーナー,超音波アルカリ/酸浄化,DI水洗浄,40~80KHz,60°C温度制御,シリコンウエファー加工

半導体シリコン・ウェーファークリーナー - 超音波アルカリ/酸浄化+DI水洗浄,40KHz-80KHz,60°C 0

半導体シリコン・ウェーファークリーナー - 超音波アルカリ/酸浄化+DI水洗浄,40KHz-80KHz,60°C 2

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半導体シリコン・ウェーファークリーナー - 超音波アルカリ/酸浄化+DI水洗浄,40KHz-80KHz,60°C

ブランド名:	Jietai
モデル番号:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
パッケージの詳細:	梱包：木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法：12m2m2.8m
支払条件:	t/t

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起源の場所:

トンコワン、広東省

ブランド名:

Jietai

証明:

CE, FCC, ROHS, etc.

モデル番号:

JTM-100504AD

モデル:

JTM-100504AD

出力:

120kW

タイプ:

超音波アルカリ洗浄+超音波酸洗浄+純水洗浄

清掃頻度:

40KHZ/80KHZ

タンク数:

清掃温度:

60°C

総寸法:

12M*2M*2.8M

名前:

半導体洗浄機

最小注文数量:

価格:

￥800000

パッケージの詳細:

梱包：木箱、木枠、ストレッチフィルム。寸法：12m*2m*2.8m

受渡し時間:

30~60 営業日

支払条件:

t/t

供給の能力:

1台 30~60日かかる

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製品紹介: 半導体シリコン・ウェーファークリーナー

基本浄化プロセス:

超音波アルカリ浄化: アルカリ化学を超音波エネルギーと組み合わせることで有機汚染物,光抵抗残留物を効果的に除去しますウェッファー表面から放出される大小粒子材料を後処理に備える.
超音波酸浄化:酸性超音波処理により無機不浄物 (例えば金属イオン,酸化物) を標的とする.波紋構造や模様構造に埋め込まれた微小微小の汚染物質を排出するカビテーション効果を利用する.
DI 水洗浄:最終段階では,高純度デイオニ化水を使用して徹底的に洗浄し,残留クリーニング剤を除去し,表面中立性を確保します.洗浄後のワッフル処理と加工の前提条件.

技術仕様:

超音波周波数: 40KHz-80KHz (多周波調節可能で,異なる汚染タイプに対してカビテーション強度を最適化)
動作温度: 60°C (化学反応性と清掃効率の向上のために精密制御された熱環境)
材料互換性:腐食性化学物質に抵抗し,二次汚染を防ぐためにPVDF,クォーツ,および316Lステンレス鋼部品で構築されています.

主要な利点:

微粒子の除去効率は10nm未満で,高度なウェーファー加工のためのSEMI規格に準拠しています
多周波超音波配置は,様々な清掃要件に適応 (裸のウエファーからパターンのあるウエファー段階まで)
閉ループ温度制御は,バッチ対バッチ一貫性にとって重要なプロセス繰り返しを保証する
半導体のフロントエンドとバックエンド製造ラインにシームレスに統合

適用:IC製造,MEMS製造,半導体包装プロセスにおけるシリコンウエフルの清掃に最適.表面の整合性はデバイスの性能と出力に直接影響する.

キーワード: 半導体ウエファークリーナー,超音波アルカリ/酸浄化,DI水洗浄,40~80KHz,60°C温度制御,シリコンウエファー加工

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エレクトロニクス 超音波クリーナー

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