Solución Industrial de Limpieza de Precisión de Proceso Completo

Funciones Principales: Eficiencia Tres en Uno, Bucle Cerrado Inteligente de Proceso Completo

1. Sistema de Limpieza por Ultrasonido: Eliminación Dirigida de Contaminantes a Nivel Micrónico

• Tecnología de Barrido de Frecuencia Dinámica de Doble Frecuencia:
  • Modo de Baja Frecuencia de 28kHz: Apunta a manchas persistentes como la cascarilla de óxido de la superficie metálica y la escoria de soldadura (tamaño de partícula ≥50μm). A través del fuerte efecto de cavitación, explota y elimina contaminantes sólidos con un grosor de hasta 0,3 mm en 3 minutos;
  • Modo de Alta Frecuencia de 40kHz: Penetra en microagujeros y huecos de 0,1 mm para eliminar contaminantes líquidos como residuos de fundente y aceites, con una tasa de eliminación de contaminación iónica ≥99,8%;
  • Conmutación Inteligente de Barrido de Frecuencia: Alterna automáticamente las frecuencias cada 5 minutos para formar un campo de cavitación tridimensional, aumentando la eficiencia de limpieza en un 50% en comparación con el modo de frecuencia única.
• Uniformidad de la Energía Ultrasónica: Adopta una disposición de transductor matricial (densidad de potencia ≥1,2 W/cm²) con un error de uniformidad del campo sonoro <5%, evitando la sobrelimpieza local o los puntos ciegos de limpieza.

2. Sistema de Baño de Vapor: Tolerancia Cero para Residuos Químicos

• Rociado de Vapor a Alta Temperatura: El vapor saturado a 120°C (presión 0,3 MPa) enjuaga continuamente para disolver contaminantes insolubles como aceite pesado y adhesivos. Combinado con agentes de limpieza a base de agua neutra, logra la doble eliminación de contaminantes polares/no polares;
• Tecnología de Recuperación de Condensación: El condensado de vapor se filtra a través de un elemento filtrante de 0,1μm para uso cíclico, reduciendo el consumo de agua en un 70% en comparación con el lavado tradicional con agua y aumentando la utilización del agente de limpieza al 95%;
• Diseño Anticorrosión: La cámara de vapor utiliza acero inoxidable 316L + revestimiento de teflón, resistente a entornos de corrosión fuertes con pH=1-14, y adecuado para agentes de limpieza ácidos/alcalinos fuertes.

3. Sistema de Enfriamiento y Secado: Secado Ultrarrápido, Residuo Cero de Marcas de Agua

• Secado por Enfriamiento Gradiente:
  ① Etapa de Circulación de Aire Caliente (80°C, 10min): Evapora rápidamente la humedad de la superficie, y la purga opcional de N₂ reduce la humedad de la cámara a ≤10% HR;
  ② Etapa de Enfriamiento por Aire Frío (25°C, 5min): Previene el daño térmico a los componentes de precisión, con un residuo de marcas de agua en la superficie ≤0,01 mg/cm² después del secado;
• Protección Anti-estática: Una barra de aire ionizante (±10V) está 内置 (incorporada) en la cámara de secado para neutralizar la electricidad estática de la superficie en tiempo real, evitando la adsorción de polvo, adecuada para componentes electrónicos con pasos finos por debajo de 0,1 mm.