Solución de limpieza de precisión industrial de proceso completo

Funciones básicas: Eficiencia tres en uno, circuito cerrado inteligente de proceso completo

1Sistema de limpieza por ultrasonidos: eliminación dirigida de contaminantes a nivel de micrones

• Tecnología de barrido dinámico de doble frecuencia:
  • Modo de baja frecuencia de 28 kHz: Se dirige a manchas persistentes, como la escama de óxido de la superficie del metal y la escoria de soldadura (tamaño de partícula ≥ 50 μm).Explosiona y elimina contaminantes sólidos con un grosor de hasta 0.3 mm en un plazo de 3 minutos;
  • Modo de alta frecuencia de 40 kHz: Penetra en microagujeros y huecos de 0,1 mm para eliminar contaminantes líquidos como residuos de flujo y aceites, con una tasa de eliminación de contaminación iónica ≥ 99,8%;
  • Conmutación inteligente de barrido de frecuencia: Alterna automáticamente las frecuencias cada 5 minutos para formar un campo de cavitación tridimensional, aumentando la eficiencia de limpieza en un 50% en comparación con el modo de una sola frecuencia.
• Uniformidad de la energía ultrasónica: Adopta un diseño de transductor de matriz (densidad de potencia ≥ 1,2 W/cm2) con error de uniformidad del campo sonoro < 5%, evitando la sobrelimpieza local o los puntos ciegos de limpieza.

2Sistema de lavado de baños de vapor: tolerancia cero para residuos químicos

• Pulverización de vapor a alta temperatura: vapor saturado a 120°C (presión 0,3MPa) se lava continuamente para disolver contaminantes insolubles como el aceite pesado y los adhesivos.se logra la eliminación doble de contaminantes polares y no polares;
• Tecnología de recuperación de condensación: El condensado de vapor se filtra a través de un elemento filtrante de 0,1 μm para su uso cíclico, lo que reduce el consumo de agua en un 70% en comparación con el lavado con agua tradicional y aumenta la utilización del agente de limpieza al 95%;
• Diseño anticorrosión: La cámara de vapor utiliza un revestimiento de acero inoxidable 316L + Teflón, resistente a ambientes de corrosión fuerte con pH=1-14 y adecuado para agentes de limpieza ácidos/alcalinos fuertes.

3Sistema de enfriamiento y secado: secado ultra rápido, residuos de marca de agua cero

• Secado por enfriamiento en gradiente:
  ①Estadio de circulación de aire caliente (80°C, 10 minutos): Evapora rápidamente la humedad superficial y la purga de N2 opcional reduce la humedad de la cámara a ≤ 10% RH;
  ②Fase de enfriamiento por aire frío (25°C, 5 min): Previene el daño térmico de los componentes de precisión, con residuos de marca de agua superficiales ≤ 0,01 mg/cm2 después del secado;
• Protección antiestática: Una barra de aire ionizante (± 10 V) está instalada en la cámara de secado para neutralizar la electricidad estática superficial en tiempo real, evitando la adsorción de polvo,adecuado para componentes electrónicos con una inclinación fina inferior a 0.1 mm.