Przemysłowe, pełnoprocesowe rozwiązanie do precyzyjnego czyszczenia

Główne funkcje: Trzy w jednym, pełnoprocesowa inteligentna pętla zamknięta

1. System czyszczenia ultradźwiękowego: Ukierunkowane usuwanie zanieczyszczeń na poziomie mikronów

• Technologia dynamicznego zamiatania częstotliwości z podwójną częstotliwością:
  • Tryb niskiej częstotliwości 28 kHz: Ma na celu uporczywe plamy, takie jak osad tlenków na powierzchni metalu i żużel lutowniczy (wielkość cząstek ≥50μm). Poprzez silny efekt kawitacji, rozbija i usuwa stałe zanieczyszczenia o grubości do 0,3 mm w ciągu 3 minut;
  • Tryb wysokiej częstotliwości 40 kHz: Wnika w mikrootwory i szczeliny o średnicy 0,1 mm, aby usunąć zanieczyszczenia ciekłe, takie jak pozostałości topnika i oleje, ze współczynnikiem usuwania zanieczyszczeń jonowych ≥99,8%;
  • Inteligentne przełączanie zamiatania częstotliwości: Automatycznie zmienia częstotliwości co 5 minut, tworząc trójwymiarowe pole kawitacji, zwiększając wydajność czyszczenia o 50% w porównaniu do trybu jednoczęstotliwościowego.
• Jednolitość energii ultradźwiękowej: Wykorzystuje układ przetworników matrycowych (gęstość mocy ≥1,2 W/cm²) z błędem jednolitości pola dźwiękowego <5%, unikając lokalnego nadmiernego czyszczenia lub martwych punktów czyszczenia.

2. System mycia parą: Zerowa tolerancja dla pozostałości chemicznych

• Natrysk parą o wysokiej temperaturze: Para nasycona o temperaturze 120°C (ciśnienie 0,3 MPa) stale spłukuje, aby rozpuścić nierozpuszczalne zanieczyszczenia, takie jak ciężki olej i kleje. W połączeniu z neutralnymi środkami czyszczącymi na bazie wody, osiąga podwójne usuwanie zanieczyszczeń polarnych/niepolarnych;
• Technologia odzyskiwania kondensatu: Kondensat pary jest filtrowany przez element filtrujący 0,1μm do cyklicznego użytku, zmniejszając zużycie wody o 70% w porównaniu do tradycyjnego mycia wodą i zwiększając wykorzystanie środka czyszczącego do 95%;
• Konstrukcja antykorozyjna: Komora parowa wykorzystuje stal nierdzewną 316L + powłokę teflonową, odporną na silne środowiska korozyjne o pH=1-14 i odpowiednią dla silnych kwasów/zasad czyszczących.

3. System chłodzenia i suszenia: Szybkie suszenie, zerowe pozostałości po plamach wodnych

• Suszenie gradientowe chłodnicze:
  ① Etap cyrkulacji gorącego powietrza (80°C, 10min): Szybko odparowuje wilgoć z powierzchni, a opcjonalne przedmuchiwanie N₂ zmniejsza wilgotność w komorze do ≤10% RH;
  ② Etap chłodzenia zimnym powietrzem (25°C, 5min): Zapobiega uszkodzeniom termicznym precyzyjnych komponentów, z pozostałościami po plamach wodnych na powierzchni ≤0,01 mg/cm² po wysuszeniu;
• Ochrona antystatyczna: Pręt jonizujący powietrze (±10V) jest 内置 (wbudowany) w komorze suszenia, aby w czasie rzeczywistym neutralizować elektryczność statyczną powierzchni, unikając adsorpcji kurzu, odpowiedni dla komponentów elektronicznych o drobnych podziałkach poniżej 0,1 mm.