Przemysłowe rozwiązanie do oczyszczania precyzyjnego pełnego procesu

Główne funkcje: Wydajność trzy w jednym, inteligentna zamknięta pętla pełnego procesu

1System oczyszczania ultradźwiękowego: ukierunkowane usuwanie zanieczyszczeń na poziomie mikronowym

• Technologia dynamicznego pomiaru częstotliwości dwustronnej:
  • 28 kHz Tryb niskiej częstotliwości: ma na celu usunięcie uporczywych plam, takich jak skale oksydu na powierzchni metalu i szlamy lutowej (rozmiar cząstek ≥ 50 μm).wybucha i usuwa zanieczyszczenia stałe o grubości do 00,3 mm w ciągu 3 minut;
  • Tryb wysokiej częstotliwości 40 kHz: Przenika do mikroodkryć i otworów o średnicy 0,1 mm w celu usuwania zanieczyszczeń płynnych, takich jak pozostałości strumieniowe i oleje, ze współczynnikiem usuwania zanieczyszczeń jonowych ≥ 99,8%;
  • Inteligentne przełączanie częstotliwości: Automatycznie zmienia częstotliwości co 5 minut, tworząc trójwymiarowe pole kawitacyjne, zwiększając efektywność czyszczenia o 50% w porównaniu z trybem jednomotorowym.
• Jednorodność energii ultradźwiękowej: Przyjmuje układ przetwornika macierzowego (gęstość mocy ≥ 1,2 W/cm2) z błędem jednolitości pola dźwiękowego < 5%, unikając lokalnego nadmiernego czyszczenia lub czyszczenia martwych punktów.

2System mycia łazienki parowej: zerowa tolerancja na pozostałości chemiczne

• Spryskiwanie parą o wysokiej temperaturze: 120°C nasycona para (ciśnienie 0,3 MPa) ciągle płuka się w celu rozpuszczenia nierozpuszczalnych zanieczyszczeń, takich jak olej ciężki i kleje.osiąga podwójne usuwanie zanieczyszczeń polarnych i niepolarnych;
• Technologia odzyskiwania kondensacji: Kondensat pary jest filtrowany przez filtr o długości 0,1 μm do cyklicznego użytku, co zmniejsza zużycie wody o 70% w porównaniu z tradycyjnym myciem wodnym i zwiększa wykorzystanie środków czyszczących do 95%;
• Projektowanie przeciwkorozyjne: Komora parowa wykorzystuje powłokę ze stali nierdzewnej 316L + teflonu, odporną na silne środowiska korozyjne o pH=1-14 i nadającą się do silnych środków czyszczących kwasy/zasady.

3System chłodzenia i suszenia: ultra szybkie suszenie, zero pozostałości znaku wodnego

• Suszenie chłodzące w przepaści:
  ①Etap cyrkulacji ciepłego powietrza (80°C, 10 min): Szybko odparowuje wilgoć powierzchni, a opcjonalne oczyszczanie N2 obniża wilgotność komory do ≤ 10% RH;
  ②Etap chłodzenia zimnym powietrzem (25°C, 5min): Zapobiega uszkodzeniu termicznemu elementów precyzyjnych, z pozostałościami znaku wodnego na powierzchni ≤ 0,01 mg/cm2 po suszeniu;
• Ochrona antystatyczna: w komorze suszącej umieszczono wbudowany bar jonizującego powietrza (± 10 V), który w czasie rzeczywistym neutralizuje powierzchniową prąd statyczny, unikając adsorpcji pyłu,odpowiedni do elementów elektronicznych o cienkiej wysokości pod kątem 0.1 mm.