ইন্ডাস্ট্রিয়াল ফুল-প্রসেস প্রিসিশন ক্লিনিং সলিউশন

মূল ফাংশনঃ তিন-ইন-ওয়ান দক্ষতা, সম্পূর্ণ প্রক্রিয়া বুদ্ধিমান বন্ধ লুপ

1আল্ট্রাসোনিক পরিষ্কারের ব্যবস্থাঃ মাইক্রন স্তরের দূষণকারীদের লক্ষ্যবস্তু অপসারণ

• ডুয়াল ফ্রিকোয়েন্সি ডায়নামিক ফ্রিকোয়েন্সি স্কেপিং প্রযুক্তি:
  • 28kHz নিম্ন-ফ্রিকোয়েন্সি মোড: ধাতব পৃষ্ঠের অক্সাইড স্কেল এবং সোল্ডার স্লাগ (কণার আকার ≥50μm) এর মতো দৃঢ় দাগের লক্ষ্য। শক্তিশালী ক্যাভিটেশন প্রভাবের মাধ্যমে,এটি শক্ত দূষিত পদার্থকে 0 পর্যন্ত বেধের সাথে উড়িয়ে দেয় এবং সরিয়ে দেয়.৩ মিমি ৩ মিনিটের মধ্যে;
  • 40kHz উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি মোড: ফ্লাক্স অবশিষ্টাংশ এবং তেলগুলির মতো তরল দূষণকারীগুলি সরিয়ে ফেলার জন্য 0.1 মিমি মাইক্রোহোল এবং ফাঁকগুলিতে প্রবেশ করে, ≥99.8% আয়নিক দূষণ অপসারণের হার সহ;
  • বুদ্ধিমান ফ্রিকোয়েন্সি সুইপিং সুইচিং: স্বয়ংক্রিয়ভাবে প্রতি 5 মিনিটে ফ্রিকোয়েন্সি পরিবর্তন করে একটি ত্রিমাত্রিক cavitation ক্ষেত্র গঠন, একক ফ্রিকোয়েন্সি মোড তুলনায় 50% দ্বারা পরিষ্কার দক্ষতা বৃদ্ধি।
• অতিস্বনক শক্তি অভিন্নতা: একটি ম্যাট্রিক্স ট্রান্সডুসার লেআউট গ্রহণ করে (পাওয়ার ঘনত্ব ≥1.2W/cm2) সাউন্ড ফিল্ড অভিন্নতার ত্রুটি <5%, স্থানীয় অতিরিক্ত পরিষ্কার বা পরিষ্কার অন্ধ দাগ এড়ানো।

2স্টিম বাথ ওয়াশিং সিস্টেমঃ রাসায়নিক অবশিষ্টাংশের জন্য শূন্য সহনশীলতা

• উচ্চ তাপমাত্রা বাষ্প স্প্রে: 120°C পরিপূর্ণ বাষ্প (চাপ 0.3MPa) অবিচ্ছিন্নভাবে ভারী তেল এবং আঠালো মত insoluble দূষণকারী দ্রবীভূত করার জন্য flushes। নিরপেক্ষ জল ভিত্তিক পরিস্কার এজেন্ট সঙ্গে মিলিত,এটি ধ্রুব/অধ্রুব দূষণকারীদের দ্বৈত অপসারণ অর্জন করে;
• কনডেনসেশন রিকভারি প্রযুক্তি: বাষ্প কনডেনসেট একটি 0.1μm ফিল্টার উপাদান মাধ্যমে ফিল্টার করা হয়, যা ঐতিহ্যগত জল ধোয়ার তুলনায় 70% দ্বারা পানি খরচ হ্রাস এবং 95% পর্যন্ত পরিষ্কারের এজেন্ট ব্যবহার বৃদ্ধি;
• ক্ষয় প্রতিরোধী নকশা: স্টিম চেম্বারটি 316L স্টেইনলেস স্টিল + টেফলন লেপ ব্যবহার করে, pH = 1-14 এর সাথে শক্তিশালী জারা পরিবেশে প্রতিরোধী এবং শক্তিশালী অ্যাসিড / ক্ষারীয় পরিষ্কারের জন্য উপযুক্ত।

3শীতল ও শুকানোর ব্যবস্থাঃ অতি দ্রুত শুকানো, জিরো ওয়াটারমার্ক অবশিষ্টাংশ

• গ্রেডিয়েন্ট কুলিং শুকানোর:
  ①গরম বায়ু সঞ্চালনের পর্যায় (80°C, 10min): দ্রুত পৃষ্ঠের আর্দ্রতা বাষ্পীভূত করে, এবং N2 অপশনাল শুদ্ধকরণ চেম্বারের আর্দ্রতা ≤10% RH এ হ্রাস করে;
  ②ঠান্ডা বায়ু শীতল স্টেজ (25°C, 5min): শুষ্ককরণের পরে পৃষ্ঠের ওয়াটারমার্ক অবশিষ্টাংশ ≤0.01mg/cm2 সহ নির্ভুল উপাদানগুলির তাপীয় ক্ষতি রোধ করে;
• অ্যান্টি-স্ট্যাটিক সুরক্ষা: একটি আইওনিজিং এয়ার বার (± 10V) শুকানোর চেম্বারে অন্তর্নির্মিত হয় যা বাস্তব সময়ে পৃষ্ঠের স্ট্যাটিক বিদ্যুৎকে নিরপেক্ষ করে, ধুলো শোষণ এড়ায়,০ এর নিচে সূক্ষ্ম পিচ সহ ইলেকট্রনিক উপাদানগুলির জন্য উপযুক্ত.১ মিমি.