Solução Industrial de Limpeza de Precisão em Processo Completo

Funções Principais: Eficiência Três em Um, Circuito Fechado Inteligente em Processo Completo

1. Sistema de Limpeza Ultrassônica: Remoção Direcionada de Contaminantes em Nível Micrômetro

• Tecnologia de Varredura de Frequência Dinâmica de Frequência Dupla:
  • Modo de Baixa Frequência de 28kHz: Destina-se a manchas persistentes, como incrustações de óxido na superfície do metal e escória de solda (tamanho de partícula ≥50μm). Através do forte efeito de cavitação, ela explode e remove contaminantes sólidos com uma espessura de até 0,3 mm em 3 minutos;
  • Modo de Alta Frequência de 40kHz: Penetra em microfuros e fendas de 0,1 mm para remover contaminantes líquidos, como resíduos de fluxo e óleos, com uma taxa de remoção de contaminação iônica ≥99,8%;
  • Comutação Inteligente de Varredura de Frequência: Alterna automaticamente as frequências a cada 5 minutos para formar um campo de cavitação tridimensional, aumentando a eficiência da limpeza em 50% em comparação com o modo de frequência única.
• Uniformidade de Energia Ultrassônica: Adota um layout de transdutor de matriz (densidade de potência ≥1,2W/cm²) com erro de uniformidade do campo sonoro <5%, evitando limpeza excessiva local ou pontos cegos de limpeza.

2. Sistema de Lavagem com Banho de Vapor: Tolerância Zero para Resíduos Químicos

• Pulverização de Vapor de Alta Temperatura: Vapor saturado a 120°C (pressão 0,3MPa) enxágua continuamente para dissolver contaminantes insolúveis, como óleo pesado e adesivos. Combinado com agentes de limpeza à base de água neutra, ele alcança a remoção dupla de contaminantes polares/não polares;
• Tecnologia de Recuperação de Condensado: O condensado de vapor é filtrado através de um elemento filtrante de 0,1μm para uso cíclico, reduzindo o consumo de água em 70% em comparação com a lavagem tradicional com água e aumentando a utilização do agente de limpeza para 95%;
• Design Anticorrosão: A câmara de vapor usa aço inoxidável 316L + revestimento de Teflon, resistente a ambientes de forte corrosão com pH=1-14, e adequado para agentes de limpeza ácidos/alcalinos fortes.

3. Sistema de Resfriamento e Secagem: Secagem Ultra-rápida, Resíduo de Marca D'água Zero

• Secagem por Resfriamento Gradiente:
  ① Estágio de Circulação de Ar Quente (80°C, 10min): Evapora rapidamente a umidade da superfície, e a purga opcional de N₂ reduz a umidade da câmara para ≤10% UR;
  ② Estágio de Resfriamento com Ar Frio (25°C, 5min): Evita danos térmicos aos componentes de precisão, com resíduo de marca d'água na superfície ≤0,01mg/cm² após a secagem;
• Proteção Anti-estática: Uma barra de ar ionizante (±10V) é 内置 (embutida) na câmara de secagem para neutralizar a eletricidade estática da superfície em tempo real, evitando a adsorção de poeira, adequada para componentes eletrônicos com passos finos abaixo de 0,1 mm.