details van de producten

Huis Producten

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃

Merknaam:	Jietai
Modelnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Prijs:	￥800000
Leveringstermijn:	30-60 werkdagen
Betalingsvoorwaarden:	t/t

Gedetailleerde informatie

Productbeschrijving

Gedetailleerde informatie

Plaats van herkomst:

Dongguan, Guangdong

Certificering:

CE, FCC, ROHS, etc.

Reinigingsfrequentie:

40 kHz/80 kHz

Type:

Ultrasone alkalisch wassen+Ultrasone zuurwassen+Suiver met zuiver water

naam:

halfgeleiderreinigingsmachine

Reinigingstemperatuur:

Totale afmetingen:

12M*2M*2.8M

Model:

JTM-100504AD

Aantal tanks:

Vermogen:

120kW

Verpakking Details:

Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M*2M*2.8M

Levering vermogen:

Het duurt 30 tot 60 dagen.

Productbeschrijving

Productintroductie: Reinigingssysteem voor halfgeleider siliciumwafers

Dit geïntegreerde reinigingssysteem is op maat gemaakt voor de hoogprecisie halfgeleiderfabricage en combineert meerfasige ultrasone processen om een oppervlaktezuiverheid van sub-ppb niveau te leveren, een cruciale voorwaarde voor de fabricage van siliciumwafers in geavanceerde node (≤7nm) micro-elektronicaproductie.

Stap-voor-stap reinigingsmechanisme:

Ultrasone alkalische reiniging: Werkt bij 40KHz-80KHz om gecontroleerde cavitatie in alkalische media te genereren, waardoor organische verontreinigingen (bijv. fotoresist, koolwaterstoffen) en deeltjes (≥1μm) efficiënt van waferoppervlakken en gestructureerde patronen worden verwijderd. De frequentie-instelbare ultrasone energie zorgt voor een uniforme reiniging over 4"-12" wafers, inclusief randafschuiningen en achteroppervlakken.

Ultrasone zure reiniging: Gebruikt hetzelfde frequentiebereik in zure oplossingen om zich te richten op anorganische onzuiverheden - met name metaalionverontreinigingen (Fe, Cu, Zn) en native oxide lagen (SiO₂). Deze fase maakt gebruik van door cavitatie geïnduceerde micro-jets om sub-100nm deeltjes die in sleuven of vias zijn ingebed, te verwijderen, gevalideerd door laserdeeltjestellers (≤5 deeltjes/wafer voor ≥0,1μm).

Spoelcyclus met zuiver water: De uiteindelijke spoeling met UPW (ultra-zuiver water, TOC ≤3ppb) elimineert restchemicaliën, waardoor een oppervlakte-weerstand van ≥18,2MΩ·cm wordt bereikt om te voldoen aan de SEMI F020-normen voor pre-depositie verwerking.

Technische specificaties:

Ultrasone frequentieband: 40KHz-80KHz (multifrequentie selecteerbaar via PLC, optimaliseert cavitatie-intensiteit voor verontreinigingstype)

Proces temperatuur: 60℃ (PID-gestuurd, ±0,5℃ tolerantie) om de chemische reactiviteit te versnellen zonder waferstress te induceren

Materiaalcompatibiliteit: Bevochtigde componenten in PFA en hoogzuiver aluminiumoxide om HF/H₂SO₄ corrosie te weerstaan, waardoor deeltjesafgifte wordt voorkomen

Kernprestatie-indicatoren:

Deeltjesverwijderingsefficiëntie (PRE) ≥99,9% voor ≥0,1μm verontreinigingen

Eliminatie van chemische residuen ≤0,1ng/cm² (ICP-MS geverifieerd)

Compatibel met geautomatiseerde cassetteverwerking (FOUP/SMIF) voor 24/7 fab-integratie

Toepassing: Essentieel voor pre-litho, post-CMP en pre-implant reiniging in logica-, geheugen- en sensor waferproductielijnen.

Sleutelwoorden: Halfgeleider waferreiniger, ultrasone alkalische/zure reiniging, UPW-spoeling, 40-80KHz, 60℃ proces, silicium wafer decontaminatie

Dit systeem zorgt voor consistente reinigingsprestaties om de opbrengst in grootschalige halfgeleiderproductieomgevingen te maximaliseren.

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃ 0

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃ 2

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃ 3

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃ 4

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃ 5

Tags:

Geautomatiseerde ultrasone reiniger

Ultrasoonreinigingsapparatuur

Ultrasoon schoonmakend systeem

Verwante producten

Video

11 Tanks Halveringsreinigingsmachine Silicon Wafer Reinigingsmachine 40KHZ

Vind de beste prijs

Video

100 kW automatisch ultrasoonreinigingssysteem 11 tanks Ultrasoonreinigingsmachines

Vind de beste prijs

Video

Hoogrendement Semiconductor Reinigingsmachine 250KW Aangepaste Ultrasone Reiniger

Vind de beste prijs

Video

Multi Stage Automated Ultrasonic Cleaning Machine Customized Passivation System

Vind de beste prijs

Video

Handmatige halfgeleiderreinigingsmachine 251 kW elektrolytische reinigingslijn op maat voor de klep

Vind de beste prijs

Video

Ultrasone reinigingssysteem voor halfgeleiderwafels 100 kW Automatische ultrasone reiniger

Vind de beste prijs

180KW halfgeleiderreinigingsmachine klepkarren passivatiesystemen 40KHZ - 80KHZ

Vind de beste prijs

Video

Volledig automatische ultrasoon reinigingsmachine Silicium wafers Ultrasoon reiniger apparatuur 100KW

Vind de beste prijs

Details Van De Producten

Huis Producten

halfgeleiderreinigingsmachine

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃

Alle Categorieën

Ultrasone reinigingsapparatuur

Elektronica Ultrasone Reiniger

Ultrasone reiniger voor instrumenten

halfgeleiderreinigingsmachine

Commerciële ultrasoonreiniger

Ultrasone reiniger voor de luchtvaart

Medische Ultrasone Reinigingsmachine

Ultrasone schoonmaakmiddel op maat

Nevel Schoonmakende Machine

Ultrasone schimmelreinigingsmachine

Ultrasone reiniger voor auto's

Apparatuur voor industriële afvalwaterbehandeling

Halfgeleider Silicium Wafer Reiniger - 40KHz-80KHz Ultrasoon Alkalisch/Zuur Reinigen + Puur Water Spoelen, 60℃

Merknaam:	Jietai
Modelnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Prijs:	￥800000
Verpakking:	Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M2M2.8M
Betalingsvoorwaarden:	t/t

Gedetailleerde informatie

Productbeschrijving

Gedetailleerde informatie

Plaats van herkomst:

Dongguan, Guangdong

Merknaam:

Jietai

Certificering:

CE, FCC, ROHS, etc.

Modelnummer:

JTM-100504AD

Reinigingsfrequentie:

40 kHz/80 kHz

Type:

Ultrasone alkalisch wassen+Ultrasone zuurwassen+Suiver met zuiver water

naam:

halfgeleiderreinigingsmachine

Reinigingstemperatuur:

60°C

Totale afmetingen:

12M*2M*2.8M

Model:

JTM-100504AD

Aantal tanks:

Vermogen:

120kW

Min. bestelaantal:

Prijs:

￥800000

Verpakking Details:

Verpakking: Houten kist, houten frame, rekfolie. Afmetingen: 12M*2M*2.8M

Levertijd:

30-60 werkdagen

Betalingscondities:

t/t

Levering vermogen:

Het duurt 30 tot 60 dagen.

Productbeschrijving

Productintroductie: Reinigingssysteem voor halfgeleider siliciumwafers

Stap-voor-stap reinigingsmechanisme:

Ultrasone alkalische reiniging: Werkt bij 40KHz-80KHz om gecontroleerde cavitatie in alkalische media te genereren, waardoor organische verontreinigingen (bijv. fotoresist, koolwaterstoffen) en deeltjes (≥1μm) efficiënt van waferoppervlakken en gestructureerde patronen worden verwijderd. De frequentie-instelbare ultrasone energie zorgt voor een uniforme reiniging over 4"-12" wafers, inclusief randafschuiningen en achteroppervlakken.

Ultrasone zure reiniging: Gebruikt hetzelfde frequentiebereik in zure oplossingen om zich te richten op anorganische onzuiverheden - met name metaalionverontreinigingen (Fe, Cu, Zn) en native oxide lagen (SiO₂). Deze fase maakt gebruik van door cavitatie geïnduceerde micro-jets om sub-100nm deeltjes die in sleuven of vias zijn ingebed, te verwijderen, gevalideerd door laserdeeltjestellers (≤5 deeltjes/wafer voor ≥0,1μm).

Spoelcyclus met zuiver water: De uiteindelijke spoeling met UPW (ultra-zuiver water, TOC ≤3ppb) elimineert restchemicaliën, waardoor een oppervlakte-weerstand van ≥18,2MΩ·cm wordt bereikt om te voldoen aan de SEMI F020-normen voor pre-depositie verwerking.

Technische specificaties:

Ultrasone frequentieband: 40KHz-80KHz (multifrequentie selecteerbaar via PLC, optimaliseert cavitatie-intensiteit voor verontreinigingstype)

Proces temperatuur: 60℃ (PID-gestuurd, ±0,5℃ tolerantie) om de chemische reactiviteit te versnellen zonder waferstress te induceren

Materiaalcompatibiliteit: Bevochtigde componenten in PFA en hoogzuiver aluminiumoxide om HF/H₂SO₄ corrosie te weerstaan, waardoor deeltjesafgifte wordt voorkomen

Kernprestatie-indicatoren:

Deeltjesverwijderingsefficiëntie (PRE) ≥99,9% voor ≥0,1μm verontreinigingen

Eliminatie van chemische residuen ≤0,1ng/cm² (ICP-MS geverifieerd)

Compatibel met geautomatiseerde cassetteverwerking (FOUP/SMIF) voor 24/7 fab-integratie