โมดูลการบำบัดเบื้องต้น: ติดตั้งการกรองแบบหลายสื่อและการดูดซับคาร์บอนกัมมันต์เพื่อขจัดของแข็งแขวนลอย คลอรีน และสิ่งสกปรกอินทรีย์ (TOC ≤ 5ppm) ป้องกันการเกิดสิ่งสกปรกบนเมมเบรนและรับประกันความเสถียรในระยะยาวของส่วนประกอบปลายน้ำ​

ระบบ RO สองขั้นตอน: ขั้นตอน RO ขั้นแรกให้การปฏิเสธเกลือ 95% ขึ้นไป ในขณะที่ขั้นตอนที่สองจะทำให้น้ำซึมบริสุทธิ์ยิ่งขึ้นเพื่อลดไอออนตกค้าง (การนำไฟฟ้า ≤ 5μS/cm) ซึ่งเป็นรากฐานสำหรับการผลิตน้ำที่มีความบริสุทธิ์สูง​

โมดูล EDI: ใช้การอิเล็กโทรไดไอออไนเซชันอย่างต่อเนื่องโดยไม่ต้องสร้างใหม่ทางเคมีเพื่อให้ได้ผลผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษที่มี ความต้านทานสูงถึง 18.2 MΩ·cm (25℃) และจำนวนอนุภาค (≥0.1μm) ≤ 10 อนุภาค/มล. ซึ่งเป็นไปตามมาตรฐานคุณภาพน้ำที่เข้มงวดสำหรับการทำความสะอาดด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงที่มีความแม่นยำ (เช่น แผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ เครื่องมือแพทย์ และส่วนประกอบทางแสง)​

เครื่องทำความสะอาดด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงแบบถังเดียว/หลายถัง: ส่งมอบน้ำบริสุทธิ์พิเศษที่มี TOC ต่ำและอนุภาคต่ำเพื่อเพิ่มเอฟเฟกต์การเกิดโพรงอากาศ เพื่อให้มั่นใจว่าสิ่งปนเปื้อน (เช่น สารตกค้างจากฟลักซ์ เศษโลหะ) จะถูกกำจัดออกอย่างทั่วถึงโดยไม่ตกตะกอนบนพื้นผิวส่วนประกอบอีกครั้ง​

สายคลื่นเสียงความถี่สูงแบบกึ่งอัตโนมัติ/อัตโนมัติเต็มรูปแบบ: ผสานรวมกับระบบควบคุม PLC เพื่อซิงโครไนซ์การจ่ายน้ำกับรอบการทำความสะอาด (เช่น ขั้นตอนการล้าง) ลดการแทรกแซงด้วยตนเองและปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิต​

การติดตั้งคลื่นเสียงความถี่สูงแบบกำหนดเอง: ปรับให้เข้ากับการทำความสะอาดที่มีความแม่นยำสูง (80-120kHz) หรือการใช้งานขจัดคราบไขมันสำหรับงานหนัก (28-40kHz) เนื่องจากค่าการนำไฟฟ้าต่ำของน้ำบริสุทธิ์พิเศษช่วยลดความเสี่ยงของการกัดกร่อนทางไฟฟ้าเคมีสำหรับชิ้นส่วนที่ละเอียดอ่อน