Voorbehandelingsmodule: Uitgerust met multi-media filtratie en actieve koolstofadsorptie om zwevende deeltjes, chloor en organische onzuiverheden te verwijderen (TOC ≤ 5 ppm), waardoor membraanvervuiling wordt voorkomen en de langetermijnstabiliteit van downstream componenten wordt gewaarborgd.​

Dubbel-traps RO-systeem: De eerste RO-fase bereikt 95%+ zoutverwijdering, terwijl de tweede fase het permeaat verder zuivert om restionen te verminderen (geleidbaarheid ≤ 5μS/cm), wat de basis vormt voor de productie van water met hoge zuiverheid.​

EDI-module: Maakt gebruik van continue electrodeïonisatie zonder chemische regeneratie om ultrazuiver water te verkrijgen met weerstand tot 18,2 MΩ·cm (25℃) en deeltjesaantal (≥0,1μm) ≤ 10 deeltjes/ml—voldoet aan de strenge waterkwaliteitsnormen voor precisie ultrasoon reinigen (bijv. halfgeleiderwafels, medische instrumenten en optische componenten).​

Enkele/Multi-tank ultrasone reinigers: Levert laag-TOC, laag-deeltjes ultrazuiver water om het cavitatie-effect te verbeteren—waardoor verontreinigingen (bijv. fluxresten, metaalstof) grondig worden verwijderd zonder opnieuw af te zetten op componentoppervlakken.​

Semi-automatische/Volautomatische ultrasone lijnen: Integreert met PLC-besturingssystemen om de watertoevoer te synchroniseren met reinigingscycli (bijv. spoelfasen), waardoor handmatige interventie wordt verminderd en de productie-efficiëntie wordt verbeterd.​

Aangepaste ultrasone opstellingen: Aanpasbaar aan hoogfrequente (80-120 kHz) precisie reiniging of laagfrequente (28-40 kHz) heavy-duty ontvettingstoepassingen, aangezien de lage geleidbaarheid van het ultrazuivere water de elektrochemische corrosierisico's voor gevoelige onderdelen minimaliseert.