Moduł wstępnej obróbki: wyposażone w filtr multimedialny i adsorpcję węgla aktywnego w celu usuwania zawieszonych ciał stałych, chloru i zanieczyszczeń organicznych (TOC ≤ 5 ppm),zapobieganie zanieczyszczeniu błony i zapewnienie długoterminowej stabilności części dolnego łańcucha.- Nie.

Dwuetapowy system RO: Pierwszy etap RO osiąga 95%+ odrzucenia soli, podczas gdy drugi etap dalej oczyszcza permeat w celu zmniejszenia ilości pozostałych jonów (przewodność ≤ 5μS/cm),ustanawiające podstawy produkcji wody o wysokiej czystości.- Nie.

Moduł EDI: Wykorzystuje ciągłą elektrodejonizację bez regeneracji chemicznej w celu uzyskania ultraczystej wody orezystancja do 18,2 MΩ·cm (25°C)i liczba cząstek (≥ 0,1 μm) ≤ 10 cząstek/ml, spełniające rygorystyczne normy jakości wody dla precyzyjnego czyszczenia ultradźwiękowego (np. płytki półprzewodnikowe, instrumenty medyczne i komponenty optyczne).- Nie.

Czyszczenia ultradźwiękowe pojedyncze/wielokrotne: Dostarcza ultraczystą wodę o niskim TOC i niskiej zawartości cząstek w celu zwiększenia efektu kawitacjimetalowe drobiny) są dokładnie odprowadzane bez ponownego odkładania się na powierzchniach części.- Nie.

Półautomatyczne lub w pełni automatyczne linii ultradźwiękowe: Zintegrowany z systemami sterowania PLC w celu synchronizacji dostaw wody z cyklami czyszczenia (np. etapy płukania), zmniejszając ręczną interwencję i poprawiając wydajność produkcji.- Nie.

Niestandardowe ustawienia ultradźwiękowe: Dostosowany do wysokiej częstotliwości (80-120 kHz) czystki precyzyjnej lub niskich częstotliwości (28-40 kHz) odtłuszczania ciężkich zastosowań,ponieważ niska przewodność ultraczystej wody minimalizuje ryzyko korozji elektrochemicznej dla wrażliwych części.