Modul Pra-perlakuan: Dilengkapi dengan filtrasi multi-media dan adsorpsi karbon aktif untuk menghilangkan padatan tersuspensi, klorin, dan kotoran organik (TOC ≤ 5ppm), mencegah penumpukan membran dan memastikan stabilitas jangka panjang komponen hilir.​

Sistem RO Dua Tahap: Tahap RO pertama mencapai penolakan garam 95%+, sedangkan tahap kedua selanjutnya memurnikan permeat untuk mengurangi ion residu (konduktivitas ≤ 5μS/cm), meletakkan dasar untuk produksi air kemurnian tinggi.​

Modul EDI: Menggunakan electrodeionization berkelanjutan tanpa regenerasi kimia untuk mencapai keluaran air ultrapure dengan resistivitas hingga 18.2 MΩ·cm (25℃) dan jumlah partikel (≥0.1μm) ≤ 10 partikel/ml—memenuhi standar kualitas air yang ketat untuk pembersihan ultrasonik presisi (misalnya, wafer semikonduktor, instrumen medis, dan komponen optik).​

Pembersih Ultrasonik Tunggal/Multi-tangki: Menghasilkan air ultrapure rendah-TOC, rendah-partikel untuk meningkatkan efek kavitasi—memastikan kontaminan (misalnya, residu fluks, serpihan logam) terlepas sepenuhnya tanpa mengendap kembali pada permukaan komponen.​

Lini Ultrasonik Semi-Otomatis/Sepenuhnya Otomatis: Terintegrasi dengan sistem kontrol PLC untuk menyinkronkan pasokan air dengan siklus pembersihan (misalnya, tahap pembilasan), mengurangi intervensi manual dan meningkatkan efisiensi produksi.​

Pengaturan Ultrasonik Kustom: Dapat disesuaikan dengan pembersihan presisi frekuensi tinggi (80-120kHz) atau aplikasi degreasing tugas berat frekuensi rendah (28-40kHz), karena konduktivitas rendah air ultrapure meminimalkan risiko korosi elektrokimia untuk bagian yang sensitif.