Dettagli dei prodotti

Casa. prodotti

Macchine per la pulizia dei semiconduttori

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C

Marchio:	Jietai
Numero di modello:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
Tempo di consegna:	30-60 giorni lavorativi
Condizioni di pagamento:	t/t

Informazioni dettagliate

Descrizione del prodotto

Informazioni dettagliate

Luogo di origine:

Dongguan, Guangdong

Certificazione:

CE, FCC, ROHS, etc.

Tipo:

Lavaggio alcalino ad ultrasuoni+lavaggio acido ad ultrasuoni+lavaggio con acqua pura

Frequenza di pulizia:

40KHZ/80KHZ

Numero di serbatoi:

Potenza:

120kW

Dimensioni complessive:

12M*2M*2.8M

Modello:

JTM-100504AD

nome:

Macchine per la pulizia dei semiconduttori

Temperatura di pulizia:

Imballaggi particolari:

Imballaggio: Cassa di legno, telaio di legno, film estensibile. Dimensioni: 12M*2M*2.8M

Capacità di alimentazione:

Ci vorranno da 30 a 60 giorni.

Descrizione del prodotto

Introduzione al prodotto: Pulizzatore di wafer di silicio semiconduttore- Sì.

Progettata specificamente per l'industria dei semiconduttori, questa attrezzatura di pulizia ad alta precisione integra processi ad ultrasuoni in più fasi per ottenere superfici ultra-pulite su wafer di silicio,un prerequisito fondamentale per garantire un elevato rendimento e affidabilità nella produzione di dispositivi microelettronici.- Sì.

Processi di pulizia centrale:- Sì.

Pulizia alcalina ad ultrasuoni: Sfrutta la cavitazione ad ultrasuoni in soluzioni alcaline per rimuovere in modo efficiente i contaminanti organici, i residui di fotoresistenza e le grandi particelle dalle superfici dei wafer e dalle microstrutture.L'energia controllata generata dalle onde ultrasoniche garantisce una pulizia accurata anche di disegni complessi, per la preparazione di wafer per un successivo trattamento acido.- Sì.

Pulizia acida ad ultrasuoni: utilizza l'energia ultrasonora in ambienti acidi per colpire ed eliminare le impurità inorganiche, inclusi gli ioni metallici (come Fe, Cu e Ni) e gli strati di ossido.Questa fase migliora ulteriormente la purezza della superficie allontanando i contaminanti submicronici che possono essere incorporati nelle trame dei wafer, sfruttando l'azione ad ultrasuoni regolabile in frequenza per una pulizia precisa.- Sì.

Risciacquo con acqua puraLa fase finale utilizza acqua di alta purezza (con resistività ≥ 18,2 MΩ·cm) per risciacquare accuratamente gli agenti di pulizia residui.assicurare che la superficie dei wafer sia priva di residui chimici e soddisfi le severe norme di purezza richieste per la lavorazione avanzata dei semiconduttori.- Sì.

Parametri tecnici:- Sì.

Intervallo di frequenza ultrasonica: 40KHz-80KHz, regolabile per adattarsi ai diversi tipi di contaminazione e alle specifiche del wafer, ottimizzando l'intensità di cavitazione per risultati di pulizia ottimali.- Sì.

Temperatura di funzionamento: mantenuto a 60°C, una temperatura che aumenta la reattività delle soluzioni di pulizia evitando al contempo eventuali danni ai wafer di silicio,garantire prestazioni di pulizia coerenti e affidabili.- Sì.

Materiale di costruzione: i componenti chiave a contatto con i wafer e i liquidi di pulizia sono realizzati in materiali resistenti alla corrosione quali PFA e quarzo di alta purezza,evitare contaminazioni secondarie e garantire la stabilità a lungo termine dell'apparecchiatura.- Sì.

Principali vantaggi:- Sì.

Fornisce un'eccezionale efficienza di rimozione delle particelle, eliminando efficacemente particelle di dimensioni inferiori a 0,1 μm per soddisfare i severi requisiti degli standard di produzione dei semiconduttori (SEMI).- Sì.

La combinazione di pulizia alcalina ad ultrasuoni, pulizia acida ad ultrasuoni e risciacquo con acqua pura forma un ciclo di pulizia completo, garantendo la completa rimozione di vari contaminanti.- Sì.

L'intervallo di frequenza regolabile (40KHz-80KHz) e il controllo preciso della temperatura (60°C) consentono la personalizzazione in base alle specifiche esigenze di pulizia dei wafer, migliorando la flessibilità del processo.- Sì.

Progettato per una facile integrazione in linee di produzione di semiconduttori, compatibile con sistemi automatizzati di movimentazione dei wafer per semplificare i flussi di lavoro di produzione.- Sì.

Applicazione: ideale per la pulizia di wafer di silicio in processi quali la prelitografia, la post-incisione e la pre-depositazione nella fabbricazione di wafer da 4 pollici a 12 pollici,adatti sia per la ricerca e lo sviluppo che per l'ambiente di produzione di massa.- Sì.

Parole chiave: detergente per wafer di silicio semiconduttore, pulizia alcalina ad ultrasuoni, pulizia acida ad ultrasuoni, risciacquo con acqua pura, 40KHz-80KHz, 60°C, trattamento superficiale dei wafer- Sì.

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 0

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 2

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 3

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 4

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 5

Tags:

Pulitore automatico ad ultrasuoni

Apparecchiature per la pulizia ad ultrasuoni

Sistema di pulizia ultrasonica

Prodotti correlati

Video

11 Serbatoi Macchina per la pulizia dei semiconduttori Macchina per la pulizia dei wafer di silicio 40KHZ

Ottieni il miglior prezzo

Video

Sistema di pulizia ad ultrasuoni automatizzato da 100 kW 11 serbatoi Macchine per la pulizia ad ultrasuoni

Ottieni il miglior prezzo

Video

Macchina di pulizia dei semiconduttori ad alta efficienza 250KW

Ottieni il miglior prezzo

Video

Macchina di pulizia ad ultrasuoni automatizzata a più stadi Sistema di passivazione personalizzato

Ottieni il miglior prezzo

Video

Macchina manuale per la pulizia di semiconduttori 251KW Linea di pulizia elettrolitica personalizzata per corpo valvola

Ottieni il miglior prezzo

Video

Sistema di pulizia ad ultrasuoni di wafer a semiconduttori 100KW Pulizzatore ad ultrasuoni automatico

Ottieni il miglior prezzo

180KW macchina di pulizia dei semiconduttori corpi delle valvole sistemi di passivazione 40KHZ - 80KHZ

Ottieni il miglior prezzo

Video

Macchina di pulizia ad ultrasuoni completamente automatica Wafer di silicio attrezzature di pulizia ad ultrasuoni 100KW

Ottieni il miglior prezzo

Dettagli dei prodotti

Casa. prodotti

Macchine per la pulizia dei semiconduttori

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C

Tutte le categorie

Attrezzature per la pulizia ad ultrasuoni

Pulizzatore ad ultrasuoni per elettronica

Pulizzatore ad ultrasuoni per strumenti

Macchine per la pulizia dei semiconduttori

Pulizzatore ad ultrasuoni commerciale

Pulitore ad ultrasuoni per l'industria aerospaziale

Pulitore ultrasonico medico

Pulizzatore ad ultrasuoni personalizzato

Macchina di pulizia di spruzzo

Macchina per la pulizia delle muffe ad ultrasuoni

Pulitore ad ultrasuoni per autoveicoli

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C

Marchio:	Jietai
Numero di modello:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Price:	￥800000
Dettagli dell' imballaggio:	Imballaggio: Cassa di legno, telaio di legno, film estensibile. Dimensioni: 12M2M2.8M
Condizioni di pagamento:	t/t

Informazioni dettagliate

Descrizione del prodotto

Informazioni dettagliate

Luogo di origine:

Dongguan, Guangdong

Marca:

Jietai

Certificazione:

CE, FCC, ROHS, etc.

Numero di modello:

JTM-100504AD

Tipo:

Lavaggio alcalino ad ultrasuoni+lavaggio acido ad ultrasuoni+lavaggio con acqua pura

Frequenza di pulizia:

40KHZ/80KHZ

Numero di serbatoi:

Potenza:

120kW

Dimensioni complessive:

12M*2M*2.8M

Modello:

JTM-100504AD

nome:

Macchine per la pulizia dei semiconduttori

Temperatura di pulizia:

60°C

Quantità di ordine minimo:

Prezzo:

￥800000

Imballaggi particolari:

Imballaggio: Cassa di legno, telaio di legno, film estensibile. Dimensioni: 12M*2M*2.8M

Tempi di consegna:

30-60 giorni lavorativi

Termini di pagamento:

t/t

Capacità di alimentazione:

Ci vorranno da 30 a 60 giorni.

Descrizione del prodotto

Introduzione al prodotto: Pulizzatore di wafer di silicio semiconduttore- Sì.

Processi di pulizia centrale:- Sì.

Pulizia alcalina ad ultrasuoni: Sfrutta la cavitazione ad ultrasuoni in soluzioni alcaline per rimuovere in modo efficiente i contaminanti organici, i residui di fotoresistenza e le grandi particelle dalle superfici dei wafer e dalle microstrutture.L'energia controllata generata dalle onde ultrasoniche garantisce una pulizia accurata anche di disegni complessi, per la preparazione di wafer per un successivo trattamento acido.- Sì.

Pulizia acida ad ultrasuoni: utilizza l'energia ultrasonora in ambienti acidi per colpire ed eliminare le impurità inorganiche, inclusi gli ioni metallici (come Fe, Cu e Ni) e gli strati di ossido.Questa fase migliora ulteriormente la purezza della superficie allontanando i contaminanti submicronici che possono essere incorporati nelle trame dei wafer, sfruttando l'azione ad ultrasuoni regolabile in frequenza per una pulizia precisa.- Sì.

Risciacquo con acqua puraLa fase finale utilizza acqua di alta purezza (con resistività ≥ 18,2 MΩ·cm) per risciacquare accuratamente gli agenti di pulizia residui.assicurare che la superficie dei wafer sia priva di residui chimici e soddisfi le severe norme di purezza richieste per la lavorazione avanzata dei semiconduttori.- Sì.

Parametri tecnici:- Sì.

Intervallo di frequenza ultrasonica: 40KHz-80KHz, regolabile per adattarsi ai diversi tipi di contaminazione e alle specifiche del wafer, ottimizzando l'intensità di cavitazione per risultati di pulizia ottimali.- Sì.

Temperatura di funzionamento: mantenuto a 60°C, una temperatura che aumenta la reattività delle soluzioni di pulizia evitando al contempo eventuali danni ai wafer di silicio,garantire prestazioni di pulizia coerenti e affidabili.- Sì.

Materiale di costruzione: i componenti chiave a contatto con i wafer e i liquidi di pulizia sono realizzati in materiali resistenti alla corrosione quali PFA e quarzo di alta purezza,evitare contaminazioni secondarie e garantire la stabilità a lungo termine dell'apparecchiatura.- Sì.

Principali vantaggi:- Sì.

Fornisce un'eccezionale efficienza di rimozione delle particelle, eliminando efficacemente particelle di dimensioni inferiori a 0,1 μm per soddisfare i severi requisiti degli standard di produzione dei semiconduttori (SEMI).- Sì.

La combinazione di pulizia alcalina ad ultrasuoni, pulizia acida ad ultrasuoni e risciacquo con acqua pura forma un ciclo di pulizia completo, garantendo la completa rimozione di vari contaminanti.- Sì.

L'intervallo di frequenza regolabile (40KHz-80KHz) e il controllo preciso della temperatura (60°C) consentono la personalizzazione in base alle specifiche esigenze di pulizia dei wafer, migliorando la flessibilità del processo.- Sì.

Progettato per una facile integrazione in linee di produzione di semiconduttori, compatibile con sistemi automatizzati di movimentazione dei wafer per semplificare i flussi di lavoro di produzione.- Sì.

Parole chiave: detergente per wafer di silicio semiconduttore, pulizia alcalina ad ultrasuoni, pulizia acida ad ultrasuoni, risciacquo con acqua pura, 40KHz-80KHz, 60°C, trattamento superficiale dei wafer- Sì.

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 0

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 2

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 3

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 4

Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C 5

Tags: