rincian produk

Rumah Produk

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Price:	￥800000
Waktu Pengiriman:	30-60 hari kerja
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Jumlah tank:

Kekuatan:

120kW

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Model:

JTM-100504AD

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Suhu pembersihan:

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Dirancang khusus untuk industri semikonduktor, peralatan pembersih presisi tinggi ini mengintegrasikan proses ultrasonik multi-tahap untuk mencapai permukaan ultra-bersih pada wafer silikon, sebuah prasyarat penting untuk memastikan hasil yang tinggi dan keandalan dalam pembuatan perangkat mikroelektronik.

Proses Pembersihan Inti:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Memanfaatkan kavitasi ultrasonik dalam larutan alkali untuk secara efisien menghilangkan kontaminan organik, residu fotoresist, dan partikel besar dari permukaan wafer dan mikrostruktur. Energi terkontrol yang dihasilkan oleh gelombang ultrasonik memastikan pembersihan menyeluruh bahkan dalam pola yang rumit, mempersiapkan wafer untuk perlakuan asam selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan energi ultrasonik dalam media asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk ion logam (seperti Fe, Cu, dan Ni) dan lapisan oksida. Tahap ini selanjutnya meningkatkan kemurnian permukaan dengan melepaskan kontaminan submikron yang mungkin tertanam dalam tekstur wafer, memanfaatkan aksi ultrasonik yang dapat disesuaikan frekuensinya untuk pembersihan yang presisi.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air kemurnian tinggi (dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm) untuk membilas secara menyeluruh sisa bahan pembersih, memastikan permukaan wafer bebas dari residu kimia dan memenuhi standar kemurnian ketat yang diperlukan untuk pemrosesan semikonduktor canggih.

Parameter Teknis:

Rentang Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz, yang dapat disesuaikan untuk beradaptasi dengan berbagai jenis kontaminasi dan spesifikasi wafer, mengoptimalkan intensitas kavitasi untuk hasil pembersihan yang optimal.

Suhu Operasi: Dipertahankan pada 60℃, suhu yang meningkatkan reaktivitas larutan pembersih sambil mencegah potensi kerusakan pada wafer silikon, memastikan kinerja pembersihan yang konsisten dan andal.

Konstruksi Material: Komponen kunci yang bersentuhan dengan wafer dan cairan pembersih terbuat dari bahan tahan korosi seperti PFA dan kuarsa kemurnian tinggi, menghindari kontaminasi sekunder dan memastikan stabilitas jangka panjang peralatan.

Keunggulan Utama:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel yang luar biasa, secara efektif menghilangkan partikel sekecil 0,1μm untuk memenuhi persyaratan ketat standar manufaktur semikonduktor (SEMI).

Kombinasi pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, dan pembilasan air murni membentuk siklus pembersihan lengkap, memastikan penghilangan komprehensif berbagai kontaminan.

Rentang frekuensi yang dapat disesuaikan (40KHz-80KHz) dan kontrol suhu yang presisi (60℃) memungkinkan kustomisasi sesuai dengan kebutuhan pembersihan wafer tertentu, meningkatkan fleksibilitas proses.

Dirancang untuk integrasi yang mudah ke dalam lini produksi semikonduktor, kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis untuk merampingkan alur kerja manufaktur.

Aplikasi: Ideal untuk membersihkan wafer silikon dalam proses seperti pra-litografi, pasca-etsa, dan pra-deposisi dalam fabrikasi wafer 4 inci hingga 12 inci, cocok untuk lingkungan penelitian dan pengembangan serta produksi massal.

Kata Kunci: Pembersih wafer silikon semikonduktor, pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, pembilasan air murni, 40KHz-80KHz, 60℃, perawatan permukaan wafer​

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 0

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 2

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 3

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 4

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 5

Tags:

Pembersih Ultrasonik Otomatis

Peralatan pembersih ultrasonik

Sistem Pembersihan Ultrasonik

Produk terkait

video

11 Tangki Mesin pembersih Semikonduktor Mesin pembersih wafer silikon 40KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

100KW Sistem Pembersihan Ultrasonik Otomatis 11 Tangki Mesin Pembersih Ultrasonik

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Efisiensi Tinggi 250KW Pembersih Ultrasonik Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Multi Stage Otomatis Mesin Pembersih Ultrasonik Sistem Passifikasi Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Manual Lini Pembersihan Elektrolitik 251KW Disesuaikan Untuk Badan Katup

Dapatkan Harga Terbaik

video

Sistem Pembersihan Ultrasonik Wafer Semikonduktor 100KW Pembersih Ultrasonik Otomatis

Dapatkan Harga Terbaik

Mesin pembersih semikonduktor 180KW Sistem pasivasi katup tubuh 40KHZ - 80KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Ultrasonik Penuh Otomatis Wafer Silikon Peralatan Pembersih Ultrasonik 100KW

Dapatkan Harga Terbaik

rincian produk

Rumah Produk

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃

Semua Kategori

peralatan pembersih ultrasonik

Pembersih ultrasonik elektronik

Instrumen Pembersih Ultrasonik

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Komersial

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Pembersih Ultrasonik Medis

Pembersih ultrasonik khusus

Mesin Pembersih Semprot

Mesin pembersih cetakan ultrasonik

Pembersih Ultrasonik Otomotif

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Price:	￥800000
Rincian kemasan:	Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m2m2.8m
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Nama merek:

Jietai

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nomor model:

JTM-100504AD

Jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Jumlah tank:

Kekuatan:

120kW

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Model:

JTM-100504AD

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Suhu pembersihan:

60℃

Kuantitas min Order:

Harga:

￥800000

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Waktu pengiriman:

30-60 hari kerja

Syarat-syarat pembayaran:

T/T

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Proses Pembersihan Inti:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Memanfaatkan kavitasi ultrasonik dalam larutan alkali untuk secara efisien menghilangkan kontaminan organik, residu fotoresist, dan partikel besar dari permukaan wafer dan mikrostruktur. Energi terkontrol yang dihasilkan oleh gelombang ultrasonik memastikan pembersihan menyeluruh bahkan dalam pola yang rumit, mempersiapkan wafer untuk perlakuan asam selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan energi ultrasonik dalam media asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk ion logam (seperti Fe, Cu, dan Ni) dan lapisan oksida. Tahap ini selanjutnya meningkatkan kemurnian permukaan dengan melepaskan kontaminan submikron yang mungkin tertanam dalam tekstur wafer, memanfaatkan aksi ultrasonik yang dapat disesuaikan frekuensinya untuk pembersihan yang presisi.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air kemurnian tinggi (dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm) untuk membilas secara menyeluruh sisa bahan pembersih, memastikan permukaan wafer bebas dari residu kimia dan memenuhi standar kemurnian ketat yang diperlukan untuk pemrosesan semikonduktor canggih.

Parameter Teknis:

Rentang Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz, yang dapat disesuaikan untuk beradaptasi dengan berbagai jenis kontaminasi dan spesifikasi wafer, mengoptimalkan intensitas kavitasi untuk hasil pembersihan yang optimal.

Suhu Operasi: Dipertahankan pada 60℃, suhu yang meningkatkan reaktivitas larutan pembersih sambil mencegah potensi kerusakan pada wafer silikon, memastikan kinerja pembersihan yang konsisten dan andal.

Konstruksi Material: Komponen kunci yang bersentuhan dengan wafer dan cairan pembersih terbuat dari bahan tahan korosi seperti PFA dan kuarsa kemurnian tinggi, menghindari kontaminasi sekunder dan memastikan stabilitas jangka panjang peralatan.

Keunggulan Utama:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel yang luar biasa, secara efektif menghilangkan partikel sekecil 0,1μm untuk memenuhi persyaratan ketat standar manufaktur semikonduktor (SEMI).

Kombinasi pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, dan pembilasan air murni membentuk siklus pembersihan lengkap, memastikan penghilangan komprehensif berbagai kontaminan.

Rentang frekuensi yang dapat disesuaikan (40KHz-80KHz) dan kontrol suhu yang presisi (60℃) memungkinkan kustomisasi sesuai dengan kebutuhan pembersihan wafer tertentu, meningkatkan fleksibilitas proses.

Dirancang untuk integrasi yang mudah ke dalam lini produksi semikonduktor, kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis untuk merampingkan alur kerja manufaktur.

Kata Kunci: Pembersih wafer silikon semikonduktor, pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, pembilasan air murni, 40KHz-80KHz, 60℃, perawatan permukaan wafer​

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 0

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 2

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 3

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 4

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam 40KHz-80KHz + Pembilasan Air Murni, 60℃ 5

Tags: