Chi tiết sản phẩm

Nhà các sản phẩm

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃

Tên thương hiệu:	Jietai
Số mẫu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
giá bán:	￥800000
Thời gian giao hàng:	30-60 ngày làm việc
Điều khoản thanh toán:	T/T

Thông tin chi tiết

Mô tả sản phẩm

Thông tin chi tiết

Nguồn gốc:

Đông Quan, Quảng Đông

Chứng nhận:

CE, FCC, ROHS, etc.

Loại:

Rửa kiềm siêu âm+rửa axit siêu âm+rửa nước tinh khiết

Tần suất làm sạch:

40kHz/80kHz

Số lượng xe tăng:

Sức mạnh:

120KW

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Mô hình:

JTM-100504AD

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

nhiệt độ làm sạch:

chi tiết đóng gói:

Bao bì: Vỏ gỗ, khung gỗ, phim kéo dài. Kích thước: 12m*2m*2,8m

Khả năng cung cấp:

Một đơn vị. Nó sẽ mất 30 đến 60 ngày.

Mô tả sản phẩm

Giới thiệu sản phẩm: Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn

Được thiết kế đặc biệt cho ngành công nghiệp bán dẫn, thiết bị làm sạch có độ chính xác cao này tích hợp các quy trình siêu âm đa giai đoạn để đạt được bề mặt siêu sạch trên các tấm silicon, một điều kiện tiên quyết quan trọng để đảm bảo năng suất và độ tin cậy cao trong sản xuất thiết bị vi điện tử.

Các quy trình làm sạch cốt lõi:

Làm sạch bằng kiềm siêu âm: Tận dụng hiện tượng xâm thực siêu âm trong dung dịch kiềm để loại bỏ hiệu quả các chất gây ô nhiễm hữu cơ, cặn quang trở và các hạt lớn khỏi bề mặt tấm wafer và các cấu trúc vi mô. Năng lượng được kiểm soát do sóng siêu âm tạo ra đảm bảo làm sạch kỹ lưỡng ngay cả trong các mẫu phức tạp, chuẩn bị các tấm wafer cho quá trình xử lý axit tiếp theo.

Làm sạch bằng axit siêu âm: Sử dụng năng lượng siêu âm trong môi trường axit để nhắm mục tiêu và loại bỏ các tạp chất vô cơ, bao gồm các ion kim loại (như Fe, Cu và Ni) và các lớp oxit. Giai đoạn này tiếp tục tăng cường độ tinh khiết của bề mặt bằng cách loại bỏ các chất gây ô nhiễm dưới micron có thể bị nhúng trong kết cấu tấm wafer, tận dụng hành động siêu âm có thể điều chỉnh tần số để làm sạch chính xác.

Rửa bằng nước tinh khiết: Giai đoạn cuối cùng sử dụng nước có độ tinh khiết cao (với điện trở suất ≥18.2MΩ·cm) để rửa sạch hoàn toàn các chất tẩy rửa còn sót lại, đảm bảo bề mặt tấm wafer không có cặn hóa học và đáp ứng các tiêu chuẩn độ tinh khiết nghiêm ngặt cần thiết cho quá trình xử lý bán dẫn tiên tiến.

Thông số kỹ thuật:

Dải tần số siêu âm: 40KHz-80KHz, có thể điều chỉnh để thích ứng với các loại ô nhiễm và thông số kỹ thuật tấm wafer khác nhau, tối ưu hóa cường độ xâm thực để có kết quả làm sạch tối ưu.

Nhiệt độ hoạt động: Được duy trì ở 60℃, một nhiệt độ làm tăng khả năng phản ứng của dung dịch làm sạch đồng thời ngăn ngừa bất kỳ hư hỏng tiềm ẩn nào cho các tấm silicon, đảm bảo hiệu suất làm sạch nhất quán và đáng tin cậy.

Kết cấu vật liệu: Các thành phần chính tiếp xúc với tấm wafer và chất lỏng làm sạch được làm bằng vật liệu chống ăn mòn như PFA và thạch anh có độ tinh khiết cao, tránh ô nhiễm thứ cấp và đảm bảo độ ổn định lâu dài của thiết bị.

Ưu điểm chính:

Cung cấp hiệu quả loại bỏ hạt vượt trội, loại bỏ hiệu quả các hạt nhỏ tới 0,1μm để đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của tiêu chuẩn sản xuất bán dẫn (SEMI).

Sự kết hợp giữa làm sạch bằng kiềm siêu âm, làm sạch bằng axit siêu âm và rửa bằng nước tinh khiết tạo thành một chu trình làm sạch hoàn chỉnh, đảm bảo loại bỏ toàn diện các chất gây ô nhiễm khác nhau.

Dải tần số có thể điều chỉnh (40KHz-80KHz) và kiểm soát nhiệt độ chính xác (60℃) cho phép tùy chỉnh theo nhu cầu làm sạch tấm wafer cụ thể, tăng cường tính linh hoạt của quy trình.

Được thiết kế để dễ dàng tích hợp vào dây chuyền sản xuất bán dẫn, tương thích với các hệ thống xử lý tấm wafer tự động để hợp lý hóa quy trình sản xuất.

Ứng dụng: Lý tưởng để làm sạch các tấm silicon trong các quy trình như tiền quang khắc, sau ăn mòn và tiền lắng đọng trong sản xuất tấm wafer từ 4 inch đến 12 inch, phù hợp cho cả môi trường nghiên cứu và phát triển cũng như sản xuất hàng loạt.

Từ khóa: Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn, làm sạch bằng kiềm siêu âm, làm sạch bằng axit siêu âm, rửa bằng nước tinh khiết, 40KHz-80KHz, 60℃, xử lý bề mặt tấm wafer​

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 0

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 2

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 3

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 4

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 5

Tags:

Máy làm sạch siêu âm tự động

Thiết bị làm sạch siêu âm

Hệ thống làm sạch siêu âm

Sản phẩm liên quan

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn 11 bể Máy làm sạch wafer silicon 40KHZ

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Hệ thống làm sạch siêu âm tự động 100KW 11 bể Máy làm sạch siêu âm

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn hiệu quả cao 250KW Máy làm sạch siêu âm tùy chỉnh

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy rửa siêu âm tự động đa giai đoạn Hệ thống thụ động tùy chỉnh

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch bán dẫn bằng tay 251KW Dòng làm sạch điện phân tùy chỉnh cho thân van

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Hệ thống làm sạch siêu âm các tấm bán dẫn 100KW Máy làm sạch siêu âm tự động

Nhận được giá tốt nhất

Máy làm sạch bán dẫn 180KW Bộ van hệ thống thụ động 40KHZ - 80KHZ

Nhận được giá tốt nhất

băng hình

Máy làm sạch siêu âm hoàn toàn tự động Silicon Wafers Thiết bị làm sạch siêu âm 100KW

Nhận được giá tốt nhất

Chi tiết sản phẩm

Nhà các sản phẩm

Máy làm sạch bán dẫn

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃

Tất cả các loại

thiết bị làm sạch siêu âm

Điện tử Siêu âm sạch

Công cụ siêu âm sạch

Máy làm sạch bán dẫn

Chất tẩy rửa siêu âm thương mại

Aerospace Soltrasonic Cleaner

Chất tẩy rửa siêu âm y tế

Tùy chỉnh siêu âm

Máy làm sạch phun

Máy làm sạch khuôn siêu âm

Chất tẩy rửa siêu âm ô tô

Thiết bị xử lý nước thải công nghiệp

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃

Tên thương hiệu:	Jietai
Số mẫu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
giá bán:	￥800000
Chi tiết bao bì:	Bao bì: Vỏ gỗ, khung gỗ, phim kéo dài. Kích thước: 12m2m2,8m
Điều khoản thanh toán:	T/T

Thông tin chi tiết

Mô tả sản phẩm

Thông tin chi tiết

Nguồn gốc:

Đông Quan, Quảng Đông

Hàng hiệu:

Jietai

Chứng nhận:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Loại:

Rửa kiềm siêu âm+rửa axit siêu âm+rửa nước tinh khiết

Tần suất làm sạch:

40kHz/80kHz

Số lượng xe tăng:

Sức mạnh:

120KW

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Mô hình:

JTM-100504AD

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

nhiệt độ làm sạch:

60oC

Số lượng đặt hàng tối thiểu:

Giá bán:

￥800000

chi tiết đóng gói:

Bao bì: Vỏ gỗ, khung gỗ, phim kéo dài. Kích thước: 12m*2m*2,8m

Thời gian giao hàng:

30-60 ngày làm việc

Điều khoản thanh toán:

T/T

Khả năng cung cấp:

Một đơn vị. Nó sẽ mất 30 đến 60 ngày.

Mô tả sản phẩm

Giới thiệu sản phẩm: Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn

Các quy trình làm sạch cốt lõi:

Làm sạch bằng kiềm siêu âm: Tận dụng hiện tượng xâm thực siêu âm trong dung dịch kiềm để loại bỏ hiệu quả các chất gây ô nhiễm hữu cơ, cặn quang trở và các hạt lớn khỏi bề mặt tấm wafer và các cấu trúc vi mô. Năng lượng được kiểm soát do sóng siêu âm tạo ra đảm bảo làm sạch kỹ lưỡng ngay cả trong các mẫu phức tạp, chuẩn bị các tấm wafer cho quá trình xử lý axit tiếp theo.

Làm sạch bằng axit siêu âm: Sử dụng năng lượng siêu âm trong môi trường axit để nhắm mục tiêu và loại bỏ các tạp chất vô cơ, bao gồm các ion kim loại (như Fe, Cu và Ni) và các lớp oxit. Giai đoạn này tiếp tục tăng cường độ tinh khiết của bề mặt bằng cách loại bỏ các chất gây ô nhiễm dưới micron có thể bị nhúng trong kết cấu tấm wafer, tận dụng hành động siêu âm có thể điều chỉnh tần số để làm sạch chính xác.

Rửa bằng nước tinh khiết: Giai đoạn cuối cùng sử dụng nước có độ tinh khiết cao (với điện trở suất ≥18.2MΩ·cm) để rửa sạch hoàn toàn các chất tẩy rửa còn sót lại, đảm bảo bề mặt tấm wafer không có cặn hóa học và đáp ứng các tiêu chuẩn độ tinh khiết nghiêm ngặt cần thiết cho quá trình xử lý bán dẫn tiên tiến.

Thông số kỹ thuật:

Dải tần số siêu âm: 40KHz-80KHz, có thể điều chỉnh để thích ứng với các loại ô nhiễm và thông số kỹ thuật tấm wafer khác nhau, tối ưu hóa cường độ xâm thực để có kết quả làm sạch tối ưu.

Nhiệt độ hoạt động: Được duy trì ở 60℃, một nhiệt độ làm tăng khả năng phản ứng của dung dịch làm sạch đồng thời ngăn ngừa bất kỳ hư hỏng tiềm ẩn nào cho các tấm silicon, đảm bảo hiệu suất làm sạch nhất quán và đáng tin cậy.

Kết cấu vật liệu: Các thành phần chính tiếp xúc với tấm wafer và chất lỏng làm sạch được làm bằng vật liệu chống ăn mòn như PFA và thạch anh có độ tinh khiết cao, tránh ô nhiễm thứ cấp và đảm bảo độ ổn định lâu dài của thiết bị.

Ưu điểm chính:

Cung cấp hiệu quả loại bỏ hạt vượt trội, loại bỏ hiệu quả các hạt nhỏ tới 0,1μm để đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của tiêu chuẩn sản xuất bán dẫn (SEMI).

Sự kết hợp giữa làm sạch bằng kiềm siêu âm, làm sạch bằng axit siêu âm và rửa bằng nước tinh khiết tạo thành một chu trình làm sạch hoàn chỉnh, đảm bảo loại bỏ toàn diện các chất gây ô nhiễm khác nhau.

Dải tần số có thể điều chỉnh (40KHz-80KHz) và kiểm soát nhiệt độ chính xác (60℃) cho phép tùy chỉnh theo nhu cầu làm sạch tấm wafer cụ thể, tăng cường tính linh hoạt của quy trình.

Được thiết kế để dễ dàng tích hợp vào dây chuyền sản xuất bán dẫn, tương thích với các hệ thống xử lý tấm wafer tự động để hợp lý hóa quy trình sản xuất.

Từ khóa: Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn, làm sạch bằng kiềm siêu âm, làm sạch bằng axit siêu âm, rửa bằng nước tinh khiết, 40KHz-80KHz, 60℃, xử lý bề mặt tấm wafer​

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 0

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 2

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 3

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 4

Máy làm sạch tấm silicon bán dẫn - Làm sạch bằng sóng siêu âm 40KHz-80KHz kiềm/axit + Rửa bằng nước tinh khiết, 60℃ 5

Tags: