Einzelheiten zu den Produkten

Zu Hause Produits

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C

Name: 40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-100504AD
Price: 800000 USD
Availability: InStock

Markenbezeichnung:	Jietai
Modellnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Preis:	￥800000
Lieferzeit:	30-60work days
Zahlungsbedingungen:	T/T

Einzelheiten

Produktbeschreibung

Einzelheiten

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Zertifizierung:

CE, FCC, ROHS, etc.

Number of Tanks:

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Type:

Ultraschall-Alkalireinigung+Ultraschall-Säurereinigung+Reinwasser-Spülung

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Gesamtabmessungen:

12M*2M*2.8M

Leistung:

120 kW

Reinigungstemperatur:

60°C

Modell:

JTM-100504AD

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Produktbeschreibung

Produktvorstellung: Reinigungssystem für Halbleiter-Siliziumwafer

Dieses Präzisionsreinigungssystem wurde speziell für die Halbleiterfertigung entwickelt und integriert mehrstufige Ultraschallprozesse, um eine ultrahohe Oberflächenreinheit von Siliziumwafern zu erreichen. Dies ist entscheidend für die Sicherstellung der Ausbeute und Leistung von Bauelementen in der IC-Fertigung und MEMS-Verarbeitung.

Kernreinigungsstufen:

Ultraschall-Alkalireinigung: Nutzt den Kavitationseffekt bei einstellbaren Frequenzen, um organische Rückstände, Fotolackreste und Partikelverunreinigungen von Waferoberflächen und Mikrostrukturen aufzulösen und Substrate für die anschließende Säurebehandlung vorzubereiten.

Ultraschall-Säurereinigung: Zielt auf anorganische Verunreinigungen (z. B. Metallionen, Oxidschichten) durch frequenzoptimierte Ultraschallenergie ab, wodurch die chemische Reaktivität erhöht wird, um Submikron-Verunreinigungen, die in strukturierten Strukturen oder Waferkanten eingebettet sind, zu entfernen.

DI-Wasser-Spülung: Verwendet hochreines deionisiertes Wasser zur Zirkulation, um Restchemikalien zu entfernen, die Oberflächenneutralität zu gewährleisten und strenge Leitfähigkeitsstandards (≤18,2 MΩ·cm) zu erfüllen, die für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung erforderlich sind.

Technische Parameter:

Ultraschallfrequenzbereich: 40 kHz - 80 kHz (mehrfach einstellbar, ermöglicht eine präzise Anpassung an Kontaminationstypen und Wafergeometrien)

Prozesstemperatur: 60 °C (thermostatisch geregelt, um die chemischen Reaktionsraten zu optimieren und gleichzeitig eine Beschädigung der Wafer zu verhindern)

Materialverträglichkeit: Konstruiert mit PFA-ausgekleideten Tanks und Quarzkomponenten, um korrosiven Chemikalien zu widerstehen und Sekundärkontaminationen zu vermeiden.

Hauptvorteile:

Erzielt eine Partikelentfernungseffizienz von unter 50 nm, konform mit den SEMI F020-Standards

Frequenzabstimmbare Ultraschallmodule passen sich an Rohwafer, strukturierte Wafer und Dünnschichten an

Integrierte Temperaturregelung gewährleistet eine gleichbleibende Reinigungswirkung bei der Chargenverarbeitung

Nahtlose Integration mit vorgelagerten Wafer-Handhabungssystemen und nachgelagerten Lithografie-/Ätzprozessen

Anwendung: Ideal für die Vor-Diffusions-, Vor-Abscheidungs- und Nach-Ätz-Reinigung in 4-Zoll- bis 12-Zoll-Siliziumwafer-Fertigungslinien.

Schlüsselwörter: Halbleiter-Waferreiniger, Ultraschall-Alkali-/Säurereinigung, DI-Wasser-Spülung, 40-80 kHz, 60 °C-Prozess, Siliziumwafer-Oberflächenbehandlung​

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 0

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 2

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 3

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 4

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 5

Tags:

Automatisierter Ultraschallreiniger

Ultraschallreinigungsgeräte

Ultraschallreinigungssystem

Verwandte Produkte

Video

11-Tank-Halbleiter-Reinigungsmaschine für Siliziumwafer, 40 kHz

Beste Preis erhalten

Video

100 kW automatisches Ultraschallreinigungssystem 11 Tanks Ultraschallreinigungsmaschinen

Beste Preis erhalten

Video

Hocheffiziente Halbleiterreinigungsmaschine 250KW Ultraschallreiniger

Beste Preis erhalten

Video

Mehrstufige automatische Ultraschallreinigungsmaschine

Beste Preis erhalten

Video

Manuelle Halbleiterreinigungsmaschine 251KW Elektrolytreinigungslinie für den Ventilkörper

Beste Preis erhalten

Video

Halbleiter-Wafer Ultraschallreinigungssystem 100KW automatischer Ultraschallreiniger

Beste Preis erhalten

180KW Halbleiterreinigungsmaschine Ventilkörper Passivationssysteme 40KHZ - 80KHZ

Beste Preis erhalten

Video

Vollautomatische Ultraschallreinigungsmaschine Siliziumwafer Ultraschallreinigungsgeräte 100KW

Beste Preis erhalten

Einzelheiten Zu Den Produkten

Zu Hause Produits

Halbleiterreinigungsmaschine

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C

Alle Kategorien

Ultraschallreinigungsgeräte

Elektronik Ultraschallreiniger

Ultraschallreiniger für Geräte

Halbleiterreinigungsmaschine

Handelsübliche Ultraschallreiniger

Ultraschallreiniger für die Luftfahrt

Medizinischer Ultraschallreiniger

Ultraschallreiniger nach Maß

Spray-Reinigungs-Maschine

Ultraschallschimmelreinigungsmaschine

Kfz-Ultraschallreiniger

Ausrüstung zur industriellen Abwasserbehandlung

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C

Markenbezeichnung:	Jietai
Modellnummer:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Preis:	￥800000
Verpackungsdetails:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
Zahlungsbedingungen:	T/T

Einzelheiten

Produktbeschreibung

Einzelheiten

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Markenname:

Jietai

Zertifizierung:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Number of Tanks:

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Type:

Ultraschall-Alkalireinigung+Ultraschall-Säurereinigung+Reinwasser-Spülung

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Gesamtabmessungen:

12M*2M*2.8M

Leistung:

120 kW

Reinigungstemperatur:

60°C

Modell:

JTM-100504AD

Min Bestellmenge:

Preis:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Produktbeschreibung

Produktvorstellung: Reinigungssystem für Halbleiter-Siliziumwafer

Kernreinigungsstufen:

Ultraschall-Alkalireinigung: Nutzt den Kavitationseffekt bei einstellbaren Frequenzen, um organische Rückstände, Fotolackreste und Partikelverunreinigungen von Waferoberflächen und Mikrostrukturen aufzulösen und Substrate für die anschließende Säurebehandlung vorzubereiten.

Ultraschall-Säurereinigung: Zielt auf anorganische Verunreinigungen (z. B. Metallionen, Oxidschichten) durch frequenzoptimierte Ultraschallenergie ab, wodurch die chemische Reaktivität erhöht wird, um Submikron-Verunreinigungen, die in strukturierten Strukturen oder Waferkanten eingebettet sind, zu entfernen.

DI-Wasser-Spülung: Verwendet hochreines deionisiertes Wasser zur Zirkulation, um Restchemikalien zu entfernen, die Oberflächenneutralität zu gewährleisten und strenge Leitfähigkeitsstandards (≤18,2 MΩ·cm) zu erfüllen, die für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung erforderlich sind.

Technische Parameter:

Ultraschallfrequenzbereich: 40 kHz - 80 kHz (mehrfach einstellbar, ermöglicht eine präzise Anpassung an Kontaminationstypen und Wafergeometrien)

Prozesstemperatur: 60 °C (thermostatisch geregelt, um die chemischen Reaktionsraten zu optimieren und gleichzeitig eine Beschädigung der Wafer zu verhindern)

Materialverträglichkeit: Konstruiert mit PFA-ausgekleideten Tanks und Quarzkomponenten, um korrosiven Chemikalien zu widerstehen und Sekundärkontaminationen zu vermeiden.

Hauptvorteile:

Erzielt eine Partikelentfernungseffizienz von unter 50 nm, konform mit den SEMI F020-Standards

Frequenzabstimmbare Ultraschallmodule passen sich an Rohwafer, strukturierte Wafer und Dünnschichten an

Integrierte Temperaturregelung gewährleistet eine gleichbleibende Reinigungswirkung bei der Chargenverarbeitung

Nahtlose Integration mit vorgelagerten Wafer-Handhabungssystemen und nachgelagerten Lithografie-/Ätzprozessen

Anwendung: Ideal für die Vor-Diffusions-, Vor-Abscheidungs- und Nach-Ätz-Reinigung in 4-Zoll- bis 12-Zoll-Siliziumwafer-Fertigungslinien.

Schlüsselwörter: Halbleiter-Waferreiniger, Ultraschall-Alkali-/Säurereinigung, DI-Wasser-Spülung, 40-80 kHz, 60 °C-Prozess, Siliziumwafer-Oberflächenbehandlung​

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 0

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 2

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 3

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 4

40KHz-80KHz Halbleiter-Siliziumwaferreiniger - Ultraschallalkaline/Säure-Reinigung + DI-Wasserspülung, 60°C 5

Tags: