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40KHz-80KHz 반도체 실리콘 웨이퍼 클리너 - 초음파 알칼리/산성 세척 + DI수 린스, 60℃

Name: 40KHz-80KHz 반도체 실리콘 웨이퍼 클리너 - 초음파 알칼리/산성 세척 + DI수 린스, 60℃
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-100504AD
Price: 800000 USD
Availability: InStock

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-100504AD
모크:	1
Price:	￥800000
배달 시간:	0 일
지불 조건:	T/T

자세한 정보

제품 설명

자세한 정보

원래 장소:

동완, 광동

인증:

CE, FCC, ROHS, etc.

탱크 수:

청소 빈도:

40KHZ/80KHZ

종류:

초음파 알칼리성 세척+초음파 산 세척+순수한 물 헹굼

이름:

반도체 청소 기계

윤곽치수:

12m*2m*2.8m

힘:

120 kw

세척용 온도:

60C

모델:

JTM-100504AD

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.8m

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

제품 설명

제품 소개: 반도체 실리콘 웨이퍼 세정 시스템

반도체 제조 워크플로우에 맞춰 설계된 이 정밀 세정 시스템은 다단계 초음파 공정을 통합하여 실리콘 웨이퍼의 초고순도 표면을 달성합니다. 이는 IC 제조 및 MEMS 공정에서 장치 수율과 성능을 보장하는 데 중요합니다.

핵심 세정 단계:

초음파 알칼리 세정: 조절 가능한 주파수에서 캐비테이션 효과를 활용하여 유기 잔류물, 포토레지스트 잔여물 및 입자 오염 물질을 웨이퍼 표면 및 미세 구조에서 용해시켜 후속 산 처리 준비를 합니다.

초음파 산 세정: 주파수 최적화된 초음파 에너지를 통해 무기 불순물(예: 금속 이온, 산화물 층)을 제거하여 패턴 구조 또는 웨이퍼 가장자리에 내장된 서브마이크론 오염 물질을 제거하기 위한 화학 반응성을 향상시킵니다.

DI수 린싱: 잔류 화학 물질을 제거하고 표면 중성을 보장하며 고급 반도체 공정에 필요한 엄격한 전도도 표준(≤18.2MΩ·cm)을 충족하기 위해 고순도 탈이온수 순환을 구현합니다.

기술 매개변수:

초음파 주파수 범위: 40KHz-80KHz (다중 대역 조절 가능, 오염 유형 및 웨이퍼 형상에 정확하게 일치 가능)

공정 온도: 60℃ (웨이퍼 손상을 방지하면서 화학 반응 속도를 최적화하기 위해 온도 조절)

재료 호환성: 부식성 화학 물질에 저항하고 2차 오염을 방지하기 위해 PFA 라이닝 탱크 및 석영 부품으로 제작되었습니다.

주요 장점:

SEMI F020 표준을 준수하는 50nm 미만 입자 제거 효율 달성

주파수 튜닝 가능한 초음파 모듈은 베어 웨이퍼, 패턴 웨이퍼 및 박막에 적응

통합 온도 제어는 배치 공정 전반에 걸쳐 일관된 세정 효능을 보장

상류 웨이퍼 처리 시스템 및 하류 리소그래피/에칭 공정과의 원활한 통합

응용 분야: 4인치에서 12인치 실리콘 웨이퍼 제조 라인에서 확산 전, 증착 전 및 에칭 후 세정에 이상적입니다.

키워드: 반도체 웨이퍼 클리너, 초음파 알칼리/산 세정, DI수 린싱, 40-80KHz, 60℃ 공정, 실리콘 웨이퍼 표면 처리​

40KHz-80KHz 반도체 실리콘 웨이퍼 클리너 - 초음파 알칼리/산성 세척 + DI수 린스, 60℃ 0

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반도체 청소 기계

40KHz-80KHz 반도체 실리콘 웨이퍼 클리너 - 초음파 알칼리/산성 세척 + DI수 린스, 60℃

모든 범주

40KHz-80KHz 반도체 실리콘 웨이퍼 클리너 - 초음파 알칼리/산성 세척 + DI수 린스, 60℃

브랜드 이름:	Jietai
모델 번호:	JTM-100504AD
모크:	1
Price:	￥800000
포장에 대한 세부 사항:	포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m2m2.8m
지불 조건:	T/T

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원래 장소:

동완, 광동

브랜드 이름:

Jietai

인증:

CE, FCC, ROHS, etc.

모델 번호:

JTM-100504AD

탱크 수:

청소 빈도:

40KHZ/80KHZ

종류:

초음파 알칼리성 세척+초음파 산 세척+순수한 물 헹굼

이름:

반도체 청소 기계

윤곽치수:

12m*2m*2.8m

힘:

120 kw

세척용 온도:

60C

모델:

JTM-100504AD

최소 주문 수량:

가격:

￥800000

포장 세부 사항:

포장 : 나무 케이스, 나무 프레임, 스트레치 필름. 치수 : 12m*2m*2.8m

배달 시간:

0 일

지불 조건:

T/T

공급 능력:

하나의 단위. 30 일에서 60 일이 소요됩니다.

제품 설명

제품 소개: 반도체 실리콘 웨이퍼 세정 시스템

핵심 세정 단계:

초음파 알칼리 세정: 조절 가능한 주파수에서 캐비테이션 효과를 활용하여 유기 잔류물, 포토레지스트 잔여물 및 입자 오염 물질을 웨이퍼 표면 및 미세 구조에서 용해시켜 후속 산 처리 준비를 합니다.

초음파 산 세정: 주파수 최적화된 초음파 에너지를 통해 무기 불순물(예: 금속 이온, 산화물 층)을 제거하여 패턴 구조 또는 웨이퍼 가장자리에 내장된 서브마이크론 오염 물질을 제거하기 위한 화학 반응성을 향상시킵니다.

DI수 린싱: 잔류 화학 물질을 제거하고 표면 중성을 보장하며 고급 반도체 공정에 필요한 엄격한 전도도 표준(≤18.2MΩ·cm)을 충족하기 위해 고순도 탈이온수 순환을 구현합니다.

기술 매개변수:

초음파 주파수 범위: 40KHz-80KHz (다중 대역 조절 가능, 오염 유형 및 웨이퍼 형상에 정확하게 일치 가능)

공정 온도: 60℃ (웨이퍼 손상을 방지하면서 화학 반응 속도를 최적화하기 위해 온도 조절)

재료 호환성: 부식성 화학 물질에 저항하고 2차 오염을 방지하기 위해 PFA 라이닝 탱크 및 석영 부품으로 제작되었습니다.

주요 장점:

SEMI F020 표준을 준수하는 50nm 미만 입자 제거 효율 달성

주파수 튜닝 가능한 초음파 모듈은 베어 웨이퍼, 패턴 웨이퍼 및 박막에 적응

통합 온도 제어는 배치 공정 전반에 걸쳐 일관된 세정 효능을 보장

상류 웨이퍼 처리 시스템 및 하류 리소그래피/에칭 공정과의 원활한 통합

응용 분야: 4인치에서 12인치 실리콘 웨이퍼 제조 라인에서 확산 전, 증착 전 및 에칭 후 세정에 이상적입니다.

키워드: 반도체 웨이퍼 클리너, 초음파 알칼리/산 세정, DI수 린싱, 40-80KHz, 60℃ 공정, 실리콘 웨이퍼 표면 처리​

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초음파 청소 장비

전자 초음파 클리너

기기 초음파 청소기

반도체 청소 기계

상업적 초음파 클리너

항공 우주 초음파 클리너

의학 초음파 세척기

맞춤형 초음파 클리너

스프레이 세정 기계

초음파 곰팡이 청소 기계

자동차 초음파 세척기

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