λεπτομέρειες για τα προϊόντα

Σπίτι προϊόντα

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃

Ονομασία μάρκας:	Jietai
Αριθμός μοντέλου:	JTM-100504AD
MOQ:	1
τιμή:	￥800000
Χρόνος παράδοσης:	30-60work days
Όροι πληρωμής:	T/T

Λεπτομέρειες

Περιγραφή προϊόντος

Λεπτομέρειες

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Πιστοποίηση:

CE, FCC, ROHS, etc.

Number of Tanks:

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Power:

120KW

Cleaning temperature:

Model:

JTM-100504AD

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Περιγραφή προϊόντος

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaning System

Tailored for semiconductor manufacturing workflows, this precision cleaning system integrates multi-stage ultrasonic processes to achieve ultra-high surface purity of silicon wafers, critical for ensuring device yield and performance in IC fabrication and MEMS processing.

Core Cleaning Stages:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes cavitation effect at adjustable frequencies to dissolve organic residues, photoresist remnants, and particulate contaminants from wafer surfaces and microstructures, preparing substrates for subsequent acid treatment.

Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxide layers) via frequency-optimized ultrasonic energy, enhancing chemical reactivity to dislodge submicron contaminants embedded in patterned structures or wafer edges.

DI Water Rinsing: Implements high-purity deionized water circulation to eliminate residual chemicals, ensuring surface neutrality and meeting strict conductivity standards (≤18.2MΩ·cm) required for advanced semiconductor processing.

Technical Parameters:

Ultrasonic Frequency Range: 40KHz-80KHz (multi-band adjustable, enabling precise matching to contamination types and wafer geometries)

Process Temperature: 60℃ (thermostatically controlled to optimize chemical reaction rates while preventing wafer damage)

Material Compatibility: Constructed with PFA-lined tanks and quartz components to resist corrosive chemistries, avoiding secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-50nm particle removal efficiency, compliant with SEMI F020 standards

Frequency-tunable ultrasonic modules adapt to bare wafers, patterned wafers, and thin films

Integrated temperature control ensures consistent cleaning efficacy across batch processing

Seamless integration with upstream wafer handling systems and downstream lithography/etching processes

Application: Ideal for pre-diffusion, pre-deposition, and post-etch cleaning in 4-inch to 12-inch silicon wafer manufacturing lines.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ process, silicon wafer surface treatment​

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 0

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 2

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 3

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 4

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 5

Tags:

Αυτοματοποιημένο καθαριστικό υπερήχων

Εξοπλισμός υπερήχων καθαρισμού

Υπερηχητικό καθαρίζοντας σύστημα

Συγγενικά προϊόντα

Βίντεο

11 δεξαμενές Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών Μηχανή καθαρισμού κυψελών πυριτικού 40KHZ

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

100KW Αυτοματοποιημένο σύστημα υπερηχητικού καθαρισμού 11 δεξαμενές Υπερηχητικές μηχανές καθαρισμού

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών υψηλής απόδοσης 250KW Προσαρμοσμένος υπερήχων καθαριστής

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

Πολλαπλό στάδιο Αυτοματοποιημένη συσκευή καθαρισμού υπερήχων Προσαρμοσμένο σύστημα παθητικοποίησης

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών 251KW Ηλεκτρολυτική γραμμή καθαρισμού προσαρμοσμένη για το σώμα βαλβίδας

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

Συστήματα υπερήχων καθαρισμού ημιαγωγών Wafers 100KW Αυτοματοποιημένο υπερήχων καθαριστή

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών 180KW Σύστηματα παθητικοποίησης βαλβίδων 40KHZ - 80KHZ

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Βίντεο

Πλήρως αυτόματη συσκευή καθαρισμού με υπερήχους

Βρείτε την καλύτερη τιμή

λεπτομέρειες για τα προϊόντα

Σπίτι προϊόντα

Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃

Όλες οι κατηγορίες

Εξοπλισμός υπερήχων καθαρισμού

Ηλεκτρονικό υπερηχητικό καθαριστικό

Υπερήχθη καθαριστική συσκευής

Μηχανή καθαρισμού ημιαγωγών

Εμπορικό υπερηχητικό καθαριστικό

Αεροδιαστημικός Υπερηχητικός Καθαριστής

Ιατρικός υπερηχητικός καθαριστής

Προσαρμοσμένο υπερηχητικό καθαριστικό

Καθαρίζοντας μηχανή ψεκασμού

Μηχανή καθαρισμού μούχλας με υπερήχους

Καθαριστικό υπερήχων αυτοκινήτου

Εξοπλισμός Επεξεργασίας Βιομηχανικών Λυμάτων

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃

Ονομασία μάρκας:	Jietai
Αριθμός μοντέλου:	JTM-100504AD
MOQ:	1
τιμή:	￥800000
Πληροφορίες συσκευασίας:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
Όροι πληρωμής:	T/T

Λεπτομέρειες

Περιγραφή προϊόντος

Λεπτομέρειες

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Μάρκα:

Jietai

Πιστοποίηση:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Number of Tanks:

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Power:

120KW

Cleaning temperature:

60℃

Model:

JTM-100504AD

Minimum Order Quantity:

Τιμή:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Περιγραφή προϊόντος

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaning System

Core Cleaning Stages:

Ultrasonic Alkaline Cleaning: Utilizes cavitation effect at adjustable frequencies to dissolve organic residues, photoresist remnants, and particulate contaminants from wafer surfaces and microstructures, preparing substrates for subsequent acid treatment.

Ultrasonic Acid Cleaning: Targets inorganic impurities (e.g., metal ions, oxide layers) via frequency-optimized ultrasonic energy, enhancing chemical reactivity to dislodge submicron contaminants embedded in patterned structures or wafer edges.

DI Water Rinsing: Implements high-purity deionized water circulation to eliminate residual chemicals, ensuring surface neutrality and meeting strict conductivity standards (≤18.2MΩ·cm) required for advanced semiconductor processing.

Technical Parameters:

Ultrasonic Frequency Range: 40KHz-80KHz (multi-band adjustable, enabling precise matching to contamination types and wafer geometries)

Process Temperature: 60℃ (thermostatically controlled to optimize chemical reaction rates while preventing wafer damage)

Material Compatibility: Constructed with PFA-lined tanks and quartz components to resist corrosive chemistries, avoiding secondary contamination.

Key Advantages:

Achieves sub-50nm particle removal efficiency, compliant with SEMI F020 standards

Frequency-tunable ultrasonic modules adapt to bare wafers, patterned wafers, and thin films

Integrated temperature control ensures consistent cleaning efficacy across batch processing

Seamless integration with upstream wafer handling systems and downstream lithography/etching processes

Application: Ideal for pre-diffusion, pre-deposition, and post-etch cleaning in 4-inch to 12-inch silicon wafer manufacturing lines.

Keywords: Semiconductor wafer cleaner, ultrasonic alkaline/acid cleaning, DI water rinsing, 40-80KHz, 60℃ process, silicon wafer surface treatment​

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 0

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 2

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 3

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 4

40KHz-80KHz Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + DI Water Rinsing, 60℃ 5

Tags: