পণ্যের বিবরণ

বাড়ি পণ্য

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃

ব্র্যান্ড নাম:	Jietai
মডেল নম্বর:	JTM-100504AD
MOQ.:	1
মূল্য:	￥800000
বিতরণ সময়:	30-60work days
অর্থ প্রদানের শর্তাবলী:	T/T

বিস্তারিত তথ্য

পণ্যের বিবরণ

বিস্তারিত তথ্য

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

সাক্ষ্যদান:

CE, FCC, ROHS, etc.

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Model:

JTM-100504AD

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Power:

120KW

Cleaning temperature:

Number of Tanks:

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

পণ্যের বিবরণ

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

A precision-engineered solution for semiconductor manufacturing, this ultrasonic cleaning system integrates multi-stage processes to achieve sub-micron level surface purity on silicon wafers—critical for maintaining device performance in advanced node fabrication (down to 5nm).

Sequential Cleaning Stages:

Ultrasonic Alkaline Scrubbing: Employs 40KHz-80KHz ultrasonic cavitation in alkaline bath to decompose organic contaminants, strip photoresist residuals, and dislodge macro-particles (≥1μm) from wafer surfaces and via structures. The frequency-tunable ultrasonic energy ensures uniform cleaning across 4"-12" wafer diameters, including edge exclusion zones.

Ultrasonic Acid Etching: Utilizes the same frequency range in acidic media to dissolve inorganic impurities—specifically metal ions (Fe, Cu, Zn) and native oxide layers (SiO₂). Cavitation micro-jets penetrate patterned features to remove embedded sub-100nm contaminants, validated by particle counter readings (≤10 particles/wafer for ≥0.1μm).

UPW Rinsing: Final rinse with ultra-pure water (UPW, TOC ≤5ppb) flushes residual chemistries, achieving surface resistivity ≥18.2MΩ·cm—meeting SEMI F20 standards for pre-deposition cleaning.

Process Parameters:

Frequency Band: 40KHz-80KHz (multi-frequency operation, selectable via HMI for contamination-specific tuning)

Temperature Setpoint: 60℃ (PID-controlled, ±1℃ tolerance) to optimize chemical reaction kinetics without inducing wafer warpage.

Material Compatibility: Wetted components in PFA (perfluoroalkoxy) and sapphire to prevent metallic ion leaching, ensuring zero cross-contamination.

Fab Integration Advantages:

Compatible with FOUP/SMIF pod loading for automated cassette handling, reducing human intervention

Cleanroom-class design (ISO 5) with HEPA-filtered exhaust to maintain Class 1 environment compliance

Recipe storage for 50+ cleaning protocols, adaptable to bare wafers, SOI wafers, and epi-wafers

Application: Essential for pre-litho, post-CMP, and post-etch cleaning in logic, memory, and MEMS fabrication lines.

Keywords: Semiconductor wafer ultrasonic cleaner, alkaline-acid sequential cleaning, UPW rinsing, 40-80KHz, 60℃ process, sub-micron decontamination

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 5

Tags:

স্বয়ংক্রিয় অতিস্বনক পরিস্কারকারী

আল্ট্রাসোনিক ক্লিনার সরঞ্জাম

অতিস্বনক পরিষ্কারের ব্যবস্থা

সম্পর্কিত পণ্য

ভিডিও

১১ ট্যাঙ্ক সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন সিলিকন ওয়েফার ক্লিনিং মেশিন ৪০KHZ

সেরা দাম পান

ভিডিও

১০০ কিলোওয়াট স্বয়ংক্রিয় অতিস্বনক পরিষ্কার ব্যবস্থা ১১ টি ট্যাংক অতিস্বনক পরিষ্কারের মেশিন

সেরা দাম পান

ভিডিও

উচ্চ দক্ষতা অর্ধপরিবাহী পরিষ্কারের মেশিন 250KW কাস্টমাইজড অতিস্বনক ক্লিনার

সেরা দাম পান

ভিডিও

মাল্টি স্টেজ অটোমেটেড আল্ট্রাসোনিক ক্লিনিং মেশিন কাস্টমাইজড প্যাসিভেশন সিস্টেম

সেরা দাম পান

ভিডিও

ম্যানুয়াল সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন 251KW বৈদ্যুতিন পরিষ্কার লাইন ভালভ শরীরের জন্য কাস্টমাইজড

সেরা দাম পান

ভিডিও

সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার অতিস্বনক পরিষ্কার সিস্টেম 100KW স্বয়ংক্রিয় অতিস্বনক পরিষ্কারকারী

সেরা দাম পান

180 কেডব্লিউ সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন ভালভের দেহ প্যাসিভেশন সিস্টেম 40KHZ - 80KHZ

সেরা দাম পান

ভিডিও

সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয় অতিস্বনক পরিষ্কারের মেশিন সিলিকন ওয়েফার অতিস্বনক পরিষ্কার সরঞ্জাম 100KW

সেরা দাম পান

পণ্যের বিবরণ

বাড়ি পণ্য

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃

সকল বিভাগ

অতিস্বনক পরিষ্কারের সরঞ্জাম

ইলেক্ট্রনিক্স অতিস্বনক ক্লিনার

ইনস্ট্রুমেন্ট অতিস্বনক ক্লিনার

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

বাণিজ্যিক অতিস্বনক ক্লিনার

মহাকাশ আল্ট্রাসোনিক ক্লিনার

মেডিকেল অতিস্বনক ক্লিনার

কাস্টম অতিস্বনক ক্লিনার

স্প্রে ক্লিনিং মেশিন

অতিস্বনক ছাঁচ পরিষ্কারের মেশিন

স্বয়ংচালিত অতিস্বনক ক্লিনার

শিল্প বর্জ্য জল চিকিত্সা সরঞ্জাম

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃

ব্র্যান্ড নাম:	Jietai
মডেল নম্বর:	JTM-100504AD
MOQ.:	1
মূল্য:	￥800000
প্যাকেজিংয়ের বিবরণ:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
অর্থ প্রদানের শর্তাবলী:	T/T

বিস্তারিত তথ্য

পণ্যের বিবরণ

বিস্তারিত তথ্য

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

পরিচিতিমুলক নাম:

Jietai

সাক্ষ্যদান:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Model:

JTM-100504AD

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Power:

120KW

Cleaning temperature:

60℃

Number of Tanks:

Minimum Order Quantity:

মূল্য:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

পণ্যের বিবরণ

Product Introduction: Semiconductor Silicon Wafer Cleaner

Sequential Cleaning Stages:

Ultrasonic Alkaline Scrubbing: Employs 40KHz-80KHz ultrasonic cavitation in alkaline bath to decompose organic contaminants, strip photoresist residuals, and dislodge macro-particles (≥1μm) from wafer surfaces and via structures. The frequency-tunable ultrasonic energy ensures uniform cleaning across 4"-12" wafer diameters, including edge exclusion zones.

Ultrasonic Acid Etching: Utilizes the same frequency range in acidic media to dissolve inorganic impurities—specifically metal ions (Fe, Cu, Zn) and native oxide layers (SiO₂). Cavitation micro-jets penetrate patterned features to remove embedded sub-100nm contaminants, validated by particle counter readings (≤10 particles/wafer for ≥0.1μm).

UPW Rinsing: Final rinse with ultra-pure water (UPW, TOC ≤5ppb) flushes residual chemistries, achieving surface resistivity ≥18.2MΩ·cm—meeting SEMI F20 standards for pre-deposition cleaning.

Process Parameters:

Frequency Band: 40KHz-80KHz (multi-frequency operation, selectable via HMI for contamination-specific tuning)

Temperature Setpoint: 60℃ (PID-controlled, ±1℃ tolerance) to optimize chemical reaction kinetics without inducing wafer warpage.

Material Compatibility: Wetted components in PFA (perfluoroalkoxy) and sapphire to prevent metallic ion leaching, ensuring zero cross-contamination.

Fab Integration Advantages:

Compatible with FOUP/SMIF pod loading for automated cassette handling, reducing human intervention

Cleanroom-class design (ISO 5) with HEPA-filtered exhaust to maintain Class 1 environment compliance

Recipe storage for 50+ cleaning protocols, adaptable to bare wafers, SOI wafers, and epi-wafers

Application: Essential for pre-litho, post-CMP, and post-etch cleaning in logic, memory, and MEMS fabrication lines.

Keywords: Semiconductor wafer ultrasonic cleaner, alkaline-acid sequential cleaning, UPW rinsing, 40-80KHz, 60℃ process, sub-micron decontamination

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 0

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 2

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 3

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 4

Semiconductor Silicon Wafer Cleaner - 40KHz-80KHz Ultrasonic Alkaline/Acid Cleaning + UPW Rinsing, 60℃ 5

Tags: