अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक का मूल उच्च-आवृत्ति ध्वनि तरंगों के कारण तरल पदार्थों के गुहिकायन प्रभाव में निहित है। जब अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन 20kHz से 1MHz तक उच्च-आवृत्ति यांत्रिक कंपन छोड़ती है, तो सफाई समाधान (जैसे पानी आधारित सफाई एजेंट, अल्कोहल समाधान) आवधिक घनत्व परिवर्तन उत्पन्न करेगा, जिससे लाखों माइक्रोन-स्केल गुहिकायन बुलबुले बनेंगे। ये बुलबुले नकारात्मक दबाव क्षेत्र में बढ़ते हैं और सकारात्मक दबाव क्षेत्र में तुरंत ढह जाते हैं, जिससे 1000 वायुमंडल का प्रभाव बल और स्थानीय उच्च तापमान निकलता है, जो ऑप्टिकल उपकरणों की सतह पर फिंगरप्रिंट ग्रीस, पीसने वाले मलबे, ऑक्साइड परत और अन्य प्रदूषकों को कुशलता से हटा सकता है, और यहां तक कि माइक्रोस्ट्रक्चर में भी प्रवेश कर सकता है जो पारंपरिक सफाई विधियों जैसे धागे, अंधे छेद और प्रिज्म कोण से पहुंचना मुश्किल है। विभिन्न प्रकाशिकी के लिए, विशिष्ट अल्ट्रासोनिक आवृत्ति मापदंडों का मिलान करने की आवश्यकता होती है: साधारण ऑप्टिकल लेंस को कोटिंग पर उच्च आवृत्तियों के संभावित प्रभावों से बचने के लिए 40 - 60kHz मध्यम आवृत्ति सफाई के लिए उपयुक्त हैं; उच्च-सटीक लेजर क्रिस्टल को नैनोस्केल प्रदूषकों को हटाने को सुनिश्चित करने के लिए 80 से 130kHz से उच्च-आवृत्ति सफाई की आवश्यकता होती है; गहरी छेद संरचना वाले ऑप्टिकल घटकों का उपयोग दोहरी-आवृत्ति या बहु-आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई मशीनों के साथ आवृत्ति स्विचिंग के माध्यम से सभी-दौर सफाई प्राप्त करने के लिए किया जा सकता है। अल्ट्रासोनिक सफाई प्रकाशिकी के तकनीकी लाभ सफाई दक्षता का अंतिम प्रदर्शन: अल्ट्रासोनिक सफाई 99.9% संदूषक हटाने की दर प्राप्त कर सकती है, और 0.1μm से नीचे के उप-माइक्रोन कण प्रदूषकों का हटाने का प्रभाव पारंपरिक छिड़काव, पोंछने आदि से कहीं अधिक है। ऑप्टिकल लेंस के संयोजन से पहले स्वच्छता निरीक्षण में, अल्ट्रासोनिक रूप से साफ किए गए वर्कपीस की सतह पर कणों की अवशिष्ट मात्रा को प्रति वर्ग सेंटीमीटर 0.5 से कम नियंत्रित किया जा सकता है। जटिल संरचनाओं की अनुकूलन क्षमता: विवर्तन झंझरी की खाई संरचना, ऑप्टिकल प्रिज्म के कोणीय भाग और ऑप्टिकल फाइबर कनेक्टर के सिरेमिक फेरूल जैसे जटिल घटकों के लिए, अल्ट्रासोनिक कंपन सफाई एजेंट माध्यम में प्रवेश कर सकता है और एक व्यापक सफाई क्षेत्र बना सकता है। एक लेजर उपकरण निर्माता के परीक्षण डेटा से पता चला है कि 40kHz अल्ट्रासोनिक सफाई वाले लेजर अनुनाद गुहा लेंस ने पारंपरिक सफाई की तुलना में किनारे के क्षेत्र की स्वच्छता में 47% सुधार किया। सामग्री संगतता गारंटी: सफाई समाधानों (जैसे तटस्थ ऑप्टिकल सफाई एजेंट) को उचित रूप से चुनकर और शक्ति घनत्व (आमतौर पर ≤ 10W/cm²) को नियंत्रित करके, यह ऑप्टिकल ग्लास, क्वार्ट्ज, नीलम और अवरक्त सामग्री जैसे विभिन्न सब्सट्रेट की सुरक्षित सफाई प्राप्त कर सकता है। परावर्तक फिल्म और परावर्तक फिल्म जैसे संवेदनशील कोटिंग्स के लिए, स्पंदित अल्ट्रासोनिक आउटपुट मोड कोटिंग को छीलने से प्रभावी ढंग से बचा सकता है। उत्पादन दक्षता में महत्वपूर्ण सुधार: स्वचालित अल्ट्रासोनिक सफाई लाइन प्री-वाशिंग, मुख्य वाशिंग, रिंसिंग से लेकर सुखाने तक की एकीकृत प्रक्रिया का एहसास कर सकती है, और एक बैच की प्रसंस्करण मात्रा पारंपरिक मैनुअल सफाई की तुलना में 5-8 गुना तक पहुंच सकती है। मोबाइल फोन कैमरा मॉड्यूल के उत्पादन में, अल्ट्रासोनिक सफाई प्रक्रिया का चक्र समय 30 सेकंड के भीतर नियंत्रित किया जा सकता है ताकि बड़े पैमाने पर उत्पादन की जरूरतों को पूरा किया जा सके।
विशिष्ट प्रकाशिकी के लिए सफाई अनुप्रयोग
इमेजिंग ऑप्टिकल घटक: DSLR कैमरा लेंस, निगरानी कैमरा लेंस, आदि को अपघर्षक पेस्ट अवशेष और फिंगरप्रिंट को हटाने की आवश्यकता होती है, और 60kHz आवृत्ति और तटस्थ सफाई एजेंट की सफाई प्रक्रिया लेंस की प्रकाश संप्रेषण क्षमता को 3-5% तक बढ़ा सकती है।
लेजर डिवाइस: फाइबर लेजर का पंप स्रोत लेंस और CO₂ लेजर का अनुनाद गुहा लेंस को लेजर द्वारा उत्पन्न कार्बाइड को हटाने की आवश्यकता होती है, और 80kHz मेगासोनिक वेव कंपोजिट सफाई मोड डिवाइस के लेजर क्षति सीमा के 98% से अधिक को बहाल कर सकता है। चिकित्सा ऑप्टिकल उपकरण: एंडोस्कोप के ऑप्टिकल लेंस और सर्जिकल माइक्रोस्कोप लेंस को बाँझ साफ करने की आवश्यकता होती है, और अल्ट्रासोनिक सफाई को उच्च तापमान नसबंदी प्रक्रिया के साथ मिलाकर ISO 13485 चिकित्सा उपकरण सफाई मानक को पूरा कर सकते हैं। एयरोस्पेस ऑप्टिकल उपकरण: उपग्रह रिमोट सेंसिंग लेंस और अवरक्त सीकर ऑप्टिकल घटकों को असेंबली से पहले अल्ट्रा-उच्च स्वच्छता के साथ साफ करने की आवश्यकता होती है, और वैक्यूम अल्ट्रासोनिक सफाई प्रणाली कक्षा में संचालन की स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए आणविक स्तर पर प्रदूषकों को नियंत्रित कर सकती है। उद्योग विकास प्रवृत्ति उच्च परिशुद्धता और लघुकरण की ओर ऑप्टिकल उपकरणों के विकास के साथ, अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक बहु-आवृत्ति सहयोग और बुद्धिमान नियंत्रण की दिशा में विकसित हो रही है। एआई विजुअल निरीक्षण से लैस अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन सफाई प्रभाव की वास्तविक समय निगरानी और मापदंडों के अनुकूली समायोजन का एहसास कर सकती है; मेगासोनिक तरंगों और अल्ट्रासाउंड की समग्र सफाई तकनीक नैनोस्केल प्रदूषकों की हटाने की क्षमता में और सुधार करेगी। हरित विनिर्माण की प्रवृत्ति के तहत, पानी आधारित सफाई एजेंटों की रीसाइक्लिंग प्रणाली और कम ऊर्जा वाले अल्ट्रासोनिक जनरेटर का अनुप्रयोग भी उद्योग में तकनीकी नवाचार का केंद्र बन गया है। ऑप्टिकल निर्माण में एक प्रमुख प्रक्रिया के रूप में, अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक निरंतर तकनीकी पुनरावृत्ति के माध्यम से ऑप्टिकल उद्योग के उच्च-गुणवत्ता वाले विकास के लिए एक ठोस स्वच्छ गारंटी प्रदान कर रही है। अनुकूलित समाधान क्षमताओं के साथ एक अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरण आपूर्तिकर्ता का चयन करना ऑप्टिकल उद्यमों के लिए अपने उत्पाद प्रतिस्पर्धात्मकता को बढ़ाने के लिए एक महत्वपूर्ण कड़ी बन जाएगा।
अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक का मूल उच्च-आवृत्ति ध्वनि तरंगों के कारण तरल पदार्थों के गुहिकायन प्रभाव में निहित है। जब अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन 20kHz से 1MHz तक उच्च-आवृत्ति यांत्रिक कंपन छोड़ती है, तो सफाई समाधान (जैसे पानी आधारित सफाई एजेंट, अल्कोहल समाधान) आवधिक घनत्व परिवर्तन उत्पन्न करेगा, जिससे लाखों माइक्रोन-स्केल गुहिकायन बुलबुले बनेंगे। ये बुलबुले नकारात्मक दबाव क्षेत्र में बढ़ते हैं और सकारात्मक दबाव क्षेत्र में तुरंत ढह जाते हैं, जिससे 1000 वायुमंडल का प्रभाव बल और स्थानीय उच्च तापमान निकलता है, जो ऑप्टिकल उपकरणों की सतह पर फिंगरप्रिंट ग्रीस, पीसने वाले मलबे, ऑक्साइड परत और अन्य प्रदूषकों को कुशलता से हटा सकता है, और यहां तक कि माइक्रोस्ट्रक्चर में भी प्रवेश कर सकता है जो पारंपरिक सफाई विधियों जैसे धागे, अंधे छेद और प्रिज्म कोण से पहुंचना मुश्किल है। विभिन्न प्रकाशिकी के लिए, विशिष्ट अल्ट्रासोनिक आवृत्ति मापदंडों का मिलान करने की आवश्यकता होती है: साधारण ऑप्टिकल लेंस को कोटिंग पर उच्च आवृत्तियों के संभावित प्रभावों से बचने के लिए 40 - 60kHz मध्यम आवृत्ति सफाई के लिए उपयुक्त हैं; उच्च-सटीक लेजर क्रिस्टल को नैनोस्केल प्रदूषकों को हटाने को सुनिश्चित करने के लिए 80 से 130kHz से उच्च-आवृत्ति सफाई की आवश्यकता होती है; गहरी छेद संरचना वाले ऑप्टिकल घटकों का उपयोग दोहरी-आवृत्ति या बहु-आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई मशीनों के साथ आवृत्ति स्विचिंग के माध्यम से सभी-दौर सफाई प्राप्त करने के लिए किया जा सकता है। अल्ट्रासोनिक सफाई प्रकाशिकी के तकनीकी लाभ सफाई दक्षता का अंतिम प्रदर्शन: अल्ट्रासोनिक सफाई 99.9% संदूषक हटाने की दर प्राप्त कर सकती है, और 0.1μm से नीचे के उप-माइक्रोन कण प्रदूषकों का हटाने का प्रभाव पारंपरिक छिड़काव, पोंछने आदि से कहीं अधिक है। ऑप्टिकल लेंस के संयोजन से पहले स्वच्छता निरीक्षण में, अल्ट्रासोनिक रूप से साफ किए गए वर्कपीस की सतह पर कणों की अवशिष्ट मात्रा को प्रति वर्ग सेंटीमीटर 0.5 से कम नियंत्रित किया जा सकता है। जटिल संरचनाओं की अनुकूलन क्षमता: विवर्तन झंझरी की खाई संरचना, ऑप्टिकल प्रिज्म के कोणीय भाग और ऑप्टिकल फाइबर कनेक्टर के सिरेमिक फेरूल जैसे जटिल घटकों के लिए, अल्ट्रासोनिक कंपन सफाई एजेंट माध्यम में प्रवेश कर सकता है और एक व्यापक सफाई क्षेत्र बना सकता है। एक लेजर उपकरण निर्माता के परीक्षण डेटा से पता चला है कि 40kHz अल्ट्रासोनिक सफाई वाले लेजर अनुनाद गुहा लेंस ने पारंपरिक सफाई की तुलना में किनारे के क्षेत्र की स्वच्छता में 47% सुधार किया। सामग्री संगतता गारंटी: सफाई समाधानों (जैसे तटस्थ ऑप्टिकल सफाई एजेंट) को उचित रूप से चुनकर और शक्ति घनत्व (आमतौर पर ≤ 10W/cm²) को नियंत्रित करके, यह ऑप्टिकल ग्लास, क्वार्ट्ज, नीलम और अवरक्त सामग्री जैसे विभिन्न सब्सट्रेट की सुरक्षित सफाई प्राप्त कर सकता है। परावर्तक फिल्म और परावर्तक फिल्म जैसे संवेदनशील कोटिंग्स के लिए, स्पंदित अल्ट्रासोनिक आउटपुट मोड कोटिंग को छीलने से प्रभावी ढंग से बचा सकता है। उत्पादन दक्षता में महत्वपूर्ण सुधार: स्वचालित अल्ट्रासोनिक सफाई लाइन प्री-वाशिंग, मुख्य वाशिंग, रिंसिंग से लेकर सुखाने तक की एकीकृत प्रक्रिया का एहसास कर सकती है, और एक बैच की प्रसंस्करण मात्रा पारंपरिक मैनुअल सफाई की तुलना में 5-8 गुना तक पहुंच सकती है। मोबाइल फोन कैमरा मॉड्यूल के उत्पादन में, अल्ट्रासोनिक सफाई प्रक्रिया का चक्र समय 30 सेकंड के भीतर नियंत्रित किया जा सकता है ताकि बड़े पैमाने पर उत्पादन की जरूरतों को पूरा किया जा सके।
विशिष्ट प्रकाशिकी के लिए सफाई अनुप्रयोग
इमेजिंग ऑप्टिकल घटक: DSLR कैमरा लेंस, निगरानी कैमरा लेंस, आदि को अपघर्षक पेस्ट अवशेष और फिंगरप्रिंट को हटाने की आवश्यकता होती है, और 60kHz आवृत्ति और तटस्थ सफाई एजेंट की सफाई प्रक्रिया लेंस की प्रकाश संप्रेषण क्षमता को 3-5% तक बढ़ा सकती है।
लेजर डिवाइस: फाइबर लेजर का पंप स्रोत लेंस और CO₂ लेजर का अनुनाद गुहा लेंस को लेजर द्वारा उत्पन्न कार्बाइड को हटाने की आवश्यकता होती है, और 80kHz मेगासोनिक वेव कंपोजिट सफाई मोड डिवाइस के लेजर क्षति सीमा के 98% से अधिक को बहाल कर सकता है। चिकित्सा ऑप्टिकल उपकरण: एंडोस्कोप के ऑप्टिकल लेंस और सर्जिकल माइक्रोस्कोप लेंस को बाँझ साफ करने की आवश्यकता होती है, और अल्ट्रासोनिक सफाई को उच्च तापमान नसबंदी प्रक्रिया के साथ मिलाकर ISO 13485 चिकित्सा उपकरण सफाई मानक को पूरा कर सकते हैं। एयरोस्पेस ऑप्टिकल उपकरण: उपग्रह रिमोट सेंसिंग लेंस और अवरक्त सीकर ऑप्टिकल घटकों को असेंबली से पहले अल्ट्रा-उच्च स्वच्छता के साथ साफ करने की आवश्यकता होती है, और वैक्यूम अल्ट्रासोनिक सफाई प्रणाली कक्षा में संचालन की स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए आणविक स्तर पर प्रदूषकों को नियंत्रित कर सकती है। उद्योग विकास प्रवृत्ति उच्च परिशुद्धता और लघुकरण की ओर ऑप्टिकल उपकरणों के विकास के साथ, अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक बहु-आवृत्ति सहयोग और बुद्धिमान नियंत्रण की दिशा में विकसित हो रही है। एआई विजुअल निरीक्षण से लैस अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन सफाई प्रभाव की वास्तविक समय निगरानी और मापदंडों के अनुकूली समायोजन का एहसास कर सकती है; मेगासोनिक तरंगों और अल्ट्रासाउंड की समग्र सफाई तकनीक नैनोस्केल प्रदूषकों की हटाने की क्षमता में और सुधार करेगी। हरित विनिर्माण की प्रवृत्ति के तहत, पानी आधारित सफाई एजेंटों की रीसाइक्लिंग प्रणाली और कम ऊर्जा वाले अल्ट्रासोनिक जनरेटर का अनुप्रयोग भी उद्योग में तकनीकी नवाचार का केंद्र बन गया है। ऑप्टिकल निर्माण में एक प्रमुख प्रक्रिया के रूप में, अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक निरंतर तकनीकी पुनरावृत्ति के माध्यम से ऑप्टिकल उद्योग के उच्च-गुणवत्ता वाले विकास के लिए एक ठोस स्वच्छ गारंटी प्रदान कर रही है। अनुकूलित समाधान क्षमताओं के साथ एक अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरण आपूर्तिकर्ता का चयन करना ऑप्टिकल उद्यमों के लिए अपने उत्पाद प्रतिस्पर्धात्मकता को बढ़ाने के लिए एक महत्वपूर्ण कड़ी बन जाएगा।
