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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C

Nom De Marque:	Jietai
Numéro De Modèle:	JTM-100504AD
Nombre De Pièces:	1
Prix:	￥800000
Délai De Livraison:	30-60work days
Conditions De Paiement:	T/T

Informations détaillées

Description du produit

Informations détaillées

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Certification:

CE, FCC, ROHS, etc.

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

Power:

120KW

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

Model:

JTM-100504AD

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

Description du produit

Introduction du produit: Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteursJe suis désolée.

Ce système de nettoyage haute performance est spécialement conçu pour le traitement des plaquettes de silicium semi-conducteurs,intégration de technologies à ultrasons en plusieurs étapes pour atteindre la pureté superficielle ultra-haute requise pour la fabrication de microélectronique avancée, influençant directement le rendement et la fiabilité de l'appareil.Je suis désolée.

Procédure de nettoyage complète:Je suis désolée.

Nettoyage alcalin par ultrasons: utilise l'énergie ultrasonique de 40KHz-80KHz dans une solution alcaline pour éliminer efficacement les contaminants organiques, les résidus photorésistants,et des particules plus grandes provenant des surfaces des plaquettes de silicium et des structures complexesL'effet de cavitation ultrasonique assure un nettoyage complet même dans les espaces étroits et les zones à motifs, préparant les plaquettes pour un nettoyage acide ultérieur.Je suis désolée.

Nettoyage par acide par ultrasons: utilise la même plage de fréquences réglable dans un milieu acide pour cibler et éliminer les impuretés inorganiques, y compris les ions métalliques (tels que Fe, Cu, Ni) et les couches d'oxyde.Cette étape améliore encore la pureté de la surface en éliminant les contaminants sous-microniques qui peuvent être incorporés dans la texture de la gaufre, en tirant parti de l'énergie ultrasonique précise pour éviter d'endommager la surface de la gaufre.Je suis désolée.

Rinçage à l'eau: La dernière étape utilise de l'eau de haute pureté avec une résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm pour rincer soigneusement les agents de nettoyage résiduels, assurant ainsi que la surface de la gaufre est exempte de résidus chimiques.Cette étape est cruciale pour maintenir l'intégrité de la surface de la gaufre et répondre aux normes strictes de pureté requises pour les processus ultérieurs tels que le dépôt de film mince et la lithographie.Je suis désolée.

Paramètres techniques clés:Je suis désolée.

Fréquence ultrasonique: 40KHz-80KHz, qui est réglable pour s'adapter à différents types de contamination et aux spécifications des plaquettes, permettant une intensité de cavitation et une efficacité de nettoyage optimales.Je suis désolée.

Température de fonctionnement: 60°C, une température contrôlée avec précision qui améliore la réactivité des solutions de nettoyage tout en assurant la stabilité structurelle des plaquettes de silicium, évitant tout dommage thermique potentiel.Je suis désolée.

Construction des matériaux: Les composants critiques en contact avec les plaquettes et les liquides de nettoyage sont fabriqués à partir de matériaux résistants à la corrosion tels que le PFA et le quartz de haute pureté,éviter efficacement la contamination secondaire et assurer un fonctionnement stable à long terme de l'équipement.Je suis désolée.

Des avantages remarquables:Je suis désolée.

Offre une efficacité d'élimination des particules exceptionnelle, capable d'éliminer des particules aussi petites que 0,1 μm,répondant aux exigences strictes des normes de l'industrie des semi-conducteurs (SEMI) pour la fabrication de nœuds avancés.Je suis désolée.

La combinaison du nettoyage alcalin par ultrasons, du nettoyage acide par ultrasons et du rinçage à l'eau pure forme un cycle de nettoyage complet et synergique,assurer l'élimination complète de divers contaminants de la surface de la gaufre.Je suis désolée.

La plage de fréquences réglable (40KHz-80KHz) et la température de fonctionnement stable de 60°C permettent une personnalisation flexible en fonction des besoins spécifiques de nettoyage des plaquettes,ce qui le rend adapté à une large gamme de types de plaquettes de silicium et à des exigences de traitement.Je suis désolée.

Conçu pour une intégration transparente dans les lignes de production de semi-conducteurs, compatible avec les systèmes automatisés de manutention des plaquettes pour rationaliser le processus de fabrication et réduire l'intervention manuelle,amélioration de l'efficacité globale de la production.Je suis désolée.

Portée de l'application: Idéal pour le nettoyage des plaquettes de silicium dans les processus de fabrication de semi-conducteurs de 4 à 12 pouces, y compris les étapes de pré-diffusion, de pré-lithographie, de post-grave et de pré-métallisation,largement utilisé dans les laboratoires de recherche et développement et les installations de production à grande échelle.Je suis désolée.

Mots clés: nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs, nettoyage alcalin par ultrasons, nettoyage acide par ultrasons, rinçage à l'eau pure, 40KHz-80KHz, 60°C, traitement de surface, fabrication de microélectronique

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 0

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 2

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 3

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 4

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 5

Tags:

Nettoyeur à ultrasons automatisé

Équipement de nettoyage par ultrasons

Système de nettoyage ultrasonique

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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C

Nom De Marque:	Jietai
Numéro De Modèle:	JTM-100504AD
Nombre De Pièces:	1
Prix:	￥800000
Détails De L'emballage:	Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M2M2.8M
Conditions De Paiement:	T/T

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Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Nom de marque:

Jietai

Certification:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Number of Tanks:

Cleaning temperature:

60℃

Power:

120KW

Cleaning Frequency:

40KHZ/80KHZ

Overall Dimensions:

12M*2M*2.8M

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JTM-100504AD

Name:

Semiconductor Cleaning Machine

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Minimum Order Quantity:

Prix:

￥800000

Packaging Details:

Packaging: Wooden case, wooden frame, stretch film. Dimensions: 12M*2M*2.8M

Delivery Time:

30-60work days

Payment Terms:

T/T

Supply Ability:

One unit. It will take 30 to 60 days.

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Introduction du produit: Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteursJe suis désolée.

Procédure de nettoyage complète:Je suis désolée.

Nettoyage alcalin par ultrasons: utilise l'énergie ultrasonique de 40KHz-80KHz dans une solution alcaline pour éliminer efficacement les contaminants organiques, les résidus photorésistants,et des particules plus grandes provenant des surfaces des plaquettes de silicium et des structures complexesL'effet de cavitation ultrasonique assure un nettoyage complet même dans les espaces étroits et les zones à motifs, préparant les plaquettes pour un nettoyage acide ultérieur.Je suis désolée.

Nettoyage par acide par ultrasons: utilise la même plage de fréquences réglable dans un milieu acide pour cibler et éliminer les impuretés inorganiques, y compris les ions métalliques (tels que Fe, Cu, Ni) et les couches d'oxyde.Cette étape améliore encore la pureté de la surface en éliminant les contaminants sous-microniques qui peuvent être incorporés dans la texture de la gaufre, en tirant parti de l'énergie ultrasonique précise pour éviter d'endommager la surface de la gaufre.Je suis désolée.

Rinçage à l'eau: La dernière étape utilise de l'eau de haute pureté avec une résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm pour rincer soigneusement les agents de nettoyage résiduels, assurant ainsi que la surface de la gaufre est exempte de résidus chimiques.Cette étape est cruciale pour maintenir l'intégrité de la surface de la gaufre et répondre aux normes strictes de pureté requises pour les processus ultérieurs tels que le dépôt de film mince et la lithographie.Je suis désolée.

Paramètres techniques clés:Je suis désolée.

Fréquence ultrasonique: 40KHz-80KHz, qui est réglable pour s'adapter à différents types de contamination et aux spécifications des plaquettes, permettant une intensité de cavitation et une efficacité de nettoyage optimales.Je suis désolée.

Température de fonctionnement: 60°C, une température contrôlée avec précision qui améliore la réactivité des solutions de nettoyage tout en assurant la stabilité structurelle des plaquettes de silicium, évitant tout dommage thermique potentiel.Je suis désolée.

Construction des matériaux: Les composants critiques en contact avec les plaquettes et les liquides de nettoyage sont fabriqués à partir de matériaux résistants à la corrosion tels que le PFA et le quartz de haute pureté,éviter efficacement la contamination secondaire et assurer un fonctionnement stable à long terme de l'équipement.Je suis désolée.

Des avantages remarquables:Je suis désolée.

Offre une efficacité d'élimination des particules exceptionnelle, capable d'éliminer des particules aussi petites que 0,1 μm,répondant aux exigences strictes des normes de l'industrie des semi-conducteurs (SEMI) pour la fabrication de nœuds avancés.Je suis désolée.

La combinaison du nettoyage alcalin par ultrasons, du nettoyage acide par ultrasons et du rinçage à l'eau pure forme un cycle de nettoyage complet et synergique,assurer l'élimination complète de divers contaminants de la surface de la gaufre.Je suis désolée.

La plage de fréquences réglable (40KHz-80KHz) et la température de fonctionnement stable de 60°C permettent une personnalisation flexible en fonction des besoins spécifiques de nettoyage des plaquettes,ce qui le rend adapté à une large gamme de types de plaquettes de silicium et à des exigences de traitement.Je suis désolée.

Conçu pour une intégration transparente dans les lignes de production de semi-conducteurs, compatible avec les systèmes automatisés de manutention des plaquettes pour rationaliser le processus de fabrication et réduire l'intervention manuelle,amélioration de l'efficacité globale de la production.Je suis désolée.

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C 0

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