rincian produk

Rumah Produk

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Price:	￥800000
Waktu Pengiriman:	30-60 hari kerja
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Jumlah tank:

Suhu pembersihan:

Kekuatan:

120kW

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Model:

JTM-100504AD

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Sistem pembersihan berkinerja tinggi ini dirancang khusus untuk pemrosesan wafer silikon semikonduktor, mengintegrasikan teknologi ultrasonik multi-tahap untuk mencapai kemurnian permukaan ultra-tinggi yang diperlukan untuk manufaktur mikroelektronik canggih, yang secara langsung memengaruhi hasil dan keandalan perangkat.

Proses Pembersihan Komprehensif:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Menggunakan energi ultrasonik 40KHz-80KHz dalam larutan alkali untuk secara efektif menghilangkan kontaminan organik, residu photoresist, dan partikel yang lebih besar dari permukaan wafer silikon dan struktur rumit. Efek kavitasi ultrasonik memastikan pembersihan menyeluruh bahkan di celah sempit dan area berpola, mempersiapkan wafer untuk pembersihan asam selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan rentang frekuensi yang dapat disesuaikan yang sama dalam media asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk ion logam (seperti Fe, Cu, Ni) dan lapisan oksida. Tahap ini selanjutnya meningkatkan kemurnian permukaan dengan melepaskan kontaminan submikron yang mungkin tertanam dalam tekstur wafer, memanfaatkan energi ultrasonik yang tepat untuk menghindari kerusakan pada permukaan wafer.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air kemurnian tinggi dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm untuk membilas secara menyeluruh sisa bahan pembersih, memastikan permukaan wafer bebas dari residu kimia apa pun. Langkah ini sangat penting untuk menjaga integritas permukaan wafer dan memenuhi standar kemurnian ketat yang diperlukan untuk proses selanjutnya seperti deposisi film tipis dan litografi.

Parameter Teknis Utama:

Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz, yang dapat disesuaikan untuk beradaptasi dengan berbagai jenis kontaminasi dan spesifikasi wafer, memungkinkan intensitas kavitasi dan efisiensi pembersihan yang optimal.

Suhu Operasi: 60℃, suhu yang dikontrol secara tepat yang meningkatkan reaktivitas larutan pembersih sambil memastikan wafer silikon tetap stabil secara struktural, mencegah potensi kerusakan termal.

Konstruksi Material: Komponen kritis yang bersentuhan dengan wafer dan cairan pembersih terbuat dari bahan tahan korosi seperti PFA dan kuarsa kemurnian tinggi, secara efektif menghindari kontaminasi sekunder dan memastikan pengoperasian peralatan yang stabil dalam jangka panjang.

Keunggulan Luar Biasa:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel yang luar biasa, mampu menghilangkan partikel sekecil 0,1μm, memenuhi persyaratan ketat standar industri semikonduktor (SEMI) untuk manufaktur node canggih.

Kombinasi pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, dan pembilasan air murni membentuk siklus pembersihan yang lengkap dan sinergis, memastikan penghilangan komprehensif berbagai kontaminan dari permukaan wafer.

Rentang frekuensi yang dapat disesuaikan (40KHz-80KHz) dan suhu operasi 60℃ yang stabil memungkinkan kustomisasi yang fleksibel sesuai dengan kebutuhan pembersihan wafer tertentu, membuatnya cocok untuk berbagai jenis wafer silikon dan persyaratan pemrosesan.

Dirancang untuk integrasi yang mulus ke dalam lini produksi semikonduktor, kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis untuk merampingkan proses manufaktur dan mengurangi intervensi manual, meningkatkan efisiensi produksi secara keseluruhan.

Ruang Lingkup Aplikasi: Ideal untuk membersihkan wafer silikon dalam proses manufaktur semikonduktor 4 inci hingga 12 inci, termasuk tahap pra-difusi, pra-litografi, pasca-etsa, dan pra-metallisasi, banyak digunakan di laboratorium penelitian dan pengembangan serta fasilitas produksi skala besar.

Kata Kunci: Pembersih wafer silikon semikonduktor, pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, pembilasan air murni, 40KHz-80KHz, 60℃, perawatan permukaan, manufaktur mikroelektronik

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 0

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 2

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 3

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 4

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 5

Tags:

Pembersih Ultrasonik Otomatis

Peralatan pembersih ultrasonik

Sistem Pembersihan Ultrasonik

Produk terkait

video

11 Tangki Mesin pembersih Semikonduktor Mesin pembersih wafer silikon 40KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

100KW Sistem Pembersihan Ultrasonik Otomatis 11 Tangki Mesin Pembersih Ultrasonik

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Efisiensi Tinggi 250KW Pembersih Ultrasonik Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Multi Stage Otomatis Mesin Pembersih Ultrasonik Sistem Passifikasi Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Manual Lini Pembersihan Elektrolitik 251KW Disesuaikan Untuk Badan Katup

Dapatkan Harga Terbaik

video

Sistem Pembersihan Ultrasonik Wafer Semikonduktor 100KW Pembersih Ultrasonik Otomatis

Dapatkan Harga Terbaik

Mesin pembersih semikonduktor 180KW Sistem pasivasi katup tubuh 40KHZ - 80KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Ultrasonik Penuh Otomatis Wafer Silikon Peralatan Pembersih Ultrasonik 100KW

Dapatkan Harga Terbaik

rincian produk

Rumah Produk

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Semua Kategori

peralatan pembersih ultrasonik

Pembersih ultrasonik elektronik

Instrumen Pembersih Ultrasonik

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Komersial

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Pembersih Ultrasonik Medis

Pembersih ultrasonik khusus

Mesin Pembersih Semprot

Mesin pembersih cetakan ultrasonik

Pembersih Ultrasonik Otomotif

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Price:	￥800000
Rincian kemasan:	Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m2m2.8m
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Nama merek:

Jietai

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nomor model:

JTM-100504AD

Jumlah tank:

Suhu pembersihan:

60℃

Kekuatan:

120kW

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Model:

JTM-100504AD

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Kuantitas min Order:

Harga:

￥800000

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Waktu pengiriman:

30-60 hari kerja

Syarat-syarat pembayaran:

T/T

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Proses Pembersihan Komprehensif:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Menggunakan energi ultrasonik 40KHz-80KHz dalam larutan alkali untuk secara efektif menghilangkan kontaminan organik, residu photoresist, dan partikel yang lebih besar dari permukaan wafer silikon dan struktur rumit. Efek kavitasi ultrasonik memastikan pembersihan menyeluruh bahkan di celah sempit dan area berpola, mempersiapkan wafer untuk pembersihan asam selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan rentang frekuensi yang dapat disesuaikan yang sama dalam media asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk ion logam (seperti Fe, Cu, Ni) dan lapisan oksida. Tahap ini selanjutnya meningkatkan kemurnian permukaan dengan melepaskan kontaminan submikron yang mungkin tertanam dalam tekstur wafer, memanfaatkan energi ultrasonik yang tepat untuk menghindari kerusakan pada permukaan wafer.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air kemurnian tinggi dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm untuk membilas secara menyeluruh sisa bahan pembersih, memastikan permukaan wafer bebas dari residu kimia apa pun. Langkah ini sangat penting untuk menjaga integritas permukaan wafer dan memenuhi standar kemurnian ketat yang diperlukan untuk proses selanjutnya seperti deposisi film tipis dan litografi.

Parameter Teknis Utama:

Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz, yang dapat disesuaikan untuk beradaptasi dengan berbagai jenis kontaminasi dan spesifikasi wafer, memungkinkan intensitas kavitasi dan efisiensi pembersihan yang optimal.

Suhu Operasi: 60℃, suhu yang dikontrol secara tepat yang meningkatkan reaktivitas larutan pembersih sambil memastikan wafer silikon tetap stabil secara struktural, mencegah potensi kerusakan termal.

Konstruksi Material: Komponen kritis yang bersentuhan dengan wafer dan cairan pembersih terbuat dari bahan tahan korosi seperti PFA dan kuarsa kemurnian tinggi, secara efektif menghindari kontaminasi sekunder dan memastikan pengoperasian peralatan yang stabil dalam jangka panjang.

Keunggulan Luar Biasa:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel yang luar biasa, mampu menghilangkan partikel sekecil 0,1μm, memenuhi persyaratan ketat standar industri semikonduktor (SEMI) untuk manufaktur node canggih.

Kombinasi pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, dan pembilasan air murni membentuk siklus pembersihan yang lengkap dan sinergis, memastikan penghilangan komprehensif berbagai kontaminan dari permukaan wafer.

Rentang frekuensi yang dapat disesuaikan (40KHz-80KHz) dan suhu operasi 60℃ yang stabil memungkinkan kustomisasi yang fleksibel sesuai dengan kebutuhan pembersihan wafer tertentu, membuatnya cocok untuk berbagai jenis wafer silikon dan persyaratan pemrosesan.

Dirancang untuk integrasi yang mulus ke dalam lini produksi semikonduktor, kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis untuk merampingkan proses manufaktur dan mengurangi intervensi manual, meningkatkan efisiensi produksi secara keseluruhan.

Kata Kunci: Pembersih wafer silikon semikonduktor, pembersihan ultrasonik alkali, pembersihan ultrasonik asam, pembilasan air murni, 40KHz-80KHz, 60℃, perawatan permukaan, manufaktur mikroelektronik

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 0

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 2

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 3

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 4

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 5

Tags: