Подробная информация о продукции

Домой Продукты

Настраиваемый ультразвуковой очиститель кремниевых пластин, 40–80 кГц, термостат, 60°C, кислотно-щелочная промывка, промывка деионизированной водой

Настраиваемый ультразвуковой очиститель кремниевых пластин, 40–80 кГц, термостат, 60°C, кислотно-щелочная промывка, промывка деионизированной водой

Наименование марки:	Jietai
Номер модели:	JTM-100504AD
МОК:	1
Цена:	￥800000
Время доставки:	30-60 рабочих дней
Условия оплаты:	банковский перевод

Подробная информация

Описание продукта

Подробная информация

Место происхождения:

Dongguan, Гуандун

Сертификация:

CE, FCC, ROHS, etc.

Количество резервуаров:

Частота очистки:

40KHZ/80KHZ

Ультразвуковая щелочная промывка+Ультразвуковая кислотная промывка+Ополаскивание чистой водой

Машина для очистки полупроводников

Габаритные размеры:

12М*2М*2.8М

Власть:

120 кВт

Температура очистки:

Модель:

JTM-100504AD

Упаковывая детали:

Упаковка: деревянный корпус, деревянная рама, растяжная пленка.

Поставка способности:

Это займет от 30 до 60 дней.

Выделить:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Описание продукта

Введение в продукт: Система очистки полупроводниковых кремниевых пластин

Разработанная для технологических процессов производства полупроводников, эта прецизионная система очистки интегрирует многоступенчатые ультразвуковые процессы для достижения сверхвысокой чистоты поверхности кремниевых пластин, что критически важно для обеспечения выхода годных изделий и производительности в производстве интегральных схем и обработке MEMS.

Основные этапы очистки:

Ультразвуковая щелочная очистка: Использует эффект кавитации на регулируемых частотах для растворения органических остатков, остатков фоторезиста и частиц загрязнений с поверхности пластин и микроструктур, подготавливая подложки для последующей кислотной обработки.

Ультразвуковая кислотная очистка: Нацелена на неорганические примеси (например, ионы металлов, оксидные слои) с помощью оптимизированной по частоте ультразвуковой энергии, усиливая химическую реактивность для удаления субмикронных загрязнений, встроенных в структурированные структуры или края пластин.

Промывка деионизированной водой: Применяет циркуляцию деионизированной воды высокой чистоты для удаления остаточных химикатов, обеспечивая нейтральность поверхности и соответствие строгим стандартам проводимости (≤18,2 МОм·см), требуемым для передовых процессов производства полупроводников.

Технические параметры:

Диапазон ультразвуковых частот: 40 кГц - 80 кГц (многополосная регулировка, обеспечивающая точное соответствие типам загрязнений и геометрии пластин)

Температура процесса: 60℃ (термостатически контролируется для оптимизации скорости химических реакций, предотвращая повреждение пластин)

Совместимость материалов: Изготовлена с использованием баков с подкладкой из PFA и кварцевых компонентов для устойчивости к агрессивным химическим веществам, избегая вторичного загрязнения.

Основные преимущества:

Достигает эффективности удаления частиц менее 50 нм, соответствует стандартам SEMI F020

Настраиваемые по частоте ультразвуковые модули адаптируются к чистым пластинам, структурированным пластинам и тонким пленкам

Интегрированный контроль температуры обеспечивает стабильную эффективность очистки при пакетной обработке

Бесшовная интеграция с системами обработки пластин на предыдущих этапах и процессами литографии/травления на последующих этапах

Применение: Идеально подходит для очистки перед диффузией, перед осаждением и после травления в производственных линиях кремниевых пластин от 4 до 12 дюймов.

Ключевые слова: Очиститель полупроводниковых пластин, ультразвуковая щелочная/кислотная очистка, промывка деионизированной водой, 40-80 кГц, процесс 60℃, обработка поверхности кремниевых пластин​

Теги:

Подробная информация о продукции

Домой Продукты

Машина для очистки полупроводников

Все категории

Настраиваемый ультразвуковой очиститель кремниевых пластин, 40–80 кГц, термостат, 60°C, кислотно-щелочная промывка, промывка деионизированной водой

Наименование марки:	Jietai
Номер модели:	JTM-100504AD
МОК:	1
Цена:	￥800000
Подробная информация об упаковке:	Упаковка: деревянный корпус, деревянная рама, растяжная пленка.
Условия оплаты:	банковский перевод

Подробная информация

Описание продукта

Подробная информация

Место происхождения:

Dongguan, Гуандун

Фирменное наименование:

Jietai

Сертификация:

CE, FCC, ROHS, etc.

Номер модели:

JTM-100504AD

Количество резервуаров:

Частота очистки:

40KHZ/80KHZ

тип:

Ультразвуковая щелочная промывка+Ультразвуковая кислотная промывка+Ополаскивание чистой водой

Имя:

Машина для очистки полупроводников

Габаритные размеры:

12М*2М*2.8М

Власть:

120 кВт

Температура очистки:

60℃

Модель:

JTM-100504AD

Количество мин заказа:

Цена:

￥800000

Упаковывая детали:

Упаковка: деревянный корпус, деревянная рама, растяжная пленка.

Время доставки:

30-60 рабочих дней

Условия оплаты:

банковский перевод

Поставка способности:

Это займет от 30 до 60 дней.

Выделить:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Описание продукта

Введение в продукт: Система очистки полупроводниковых кремниевых пластин

Основные этапы очистки:

Ультразвуковая щелочная очистка: Использует эффект кавитации на регулируемых частотах для растворения органических остатков, остатков фоторезиста и частиц загрязнений с поверхности пластин и микроструктур, подготавливая подложки для последующей кислотной обработки.

Ультразвуковая кислотная очистка: Нацелена на неорганические примеси (например, ионы металлов, оксидные слои) с помощью оптимизированной по частоте ультразвуковой энергии, усиливая химическую реактивность для удаления субмикронных загрязнений, встроенных в структурированные структуры или края пластин.

Промывка деионизированной водой: Применяет циркуляцию деионизированной воды высокой чистоты для удаления остаточных химикатов, обеспечивая нейтральность поверхности и соответствие строгим стандартам проводимости (≤18,2 МОм·см), требуемым для передовых процессов производства полупроводников.

Технические параметры:

Диапазон ультразвуковых частот: 40 кГц - 80 кГц (многополосная регулировка, обеспечивающая точное соответствие типам загрязнений и геометрии пластин)

Температура процесса: 60℃ (термостатически контролируется для оптимизации скорости химических реакций, предотвращая повреждение пластин)

Совместимость материалов: Изготовлена с использованием баков с подкладкой из PFA и кварцевых компонентов для устойчивости к агрессивным химическим веществам, избегая вторичного загрязнения.

Основные преимущества:

Достигает эффективности удаления частиц менее 50 нм, соответствует стандартам SEMI F020

Настраиваемые по частоте ультразвуковые модули адаптируются к чистым пластинам, структурированным пластинам и тонким пленкам

Интегрированный контроль температуры обеспечивает стабильную эффективность очистки при пакетной обработке

Бесшовная интеграция с системами обработки пластин на предыдущих этапах и процессами литографии/травления на последующих этапах

Ключевые слова: Очиститель полупроводниковых пластин, ультразвуковая щелочная/кислотная очистка, промывка деионизированной водой, 40-80 кГц, процесс 60℃, обработка поверхности кремниевых пластин​

Теги:

Ультразвуковое очистное оборудование

Ультразвуковое очиститель для электроники

Ультразвуковой очиститель прибора

Машина для очистки полупроводников

Коммерческий ультразвуковой очиститель

Ультразвуковое очиститель для аэрокосмической промышленности

Медицинский ультразвуковой уборщик

Ультразвуковой очиститель

Машина чистки брызг

Ультразвуковая машина для очистки плесени

Автомобильный ультразвуковой очиститель

Ультразвуковое очистное оборудование

Ультразвуковое очиститель для электроники

Ультразвуковой очиститель прибора

Машина для очистки полупроводников

Коммерческий ультразвуковой очиститель

Ультразвуковое очиститель для аэрокосмической промышленности

Медицинский ультразвуковой уборщик

Ультразвуковой очиститель

Машина чистки брызг

Ультразвуковая машина для очистки плесени

Автомобильный ультразвуковой очиститель

Подробная информация о продукции

Настраиваемый ультразвуковой очиститель кремниевых пластин, 40–80 кГц, термостат, 60°C, кислотно-щелочная промывка, промывка деионизированной водой

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Подробная информация о продукции

Ультразвуковое очистное оборудование

Ультразвуковое очиститель для электроники

Ультразвуковой очиститель прибора

Машина для очистки полупроводников

Коммерческий ультразвуковой очиститель

Ультразвуковое очиститель для аэрокосмической промышленности

Медицинский ультразвуковой уборщик

Ультразвуковой очиститель

Машина чистки брызг

Ультразвуковая машина для очистки плесени

Автомобильный ультразвуковой очиститель

Настраиваемый ультразвуковой очиститель кремниевых пластин, 40–80 кГц, термостат, 60°C, кислотно-щелочная промывка, промывка деионизированной водой

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner