szczegółowe informacje o produktach

Do domu Produkty

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Nazwa marki:	Jietai
Numer modelu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Cena:	￥800000
Czas dostawy:	30-60 dni roboczych
Warunki płatności:	T/T

Szczegółowe informacje

Opis produktu

Szczegółowe informacje

Miejsce pochodzenia:

Dongguan, Guangdong

Orzecznictwo:

CE, FCC, ROHS, etc.

Liczba czołgów:

Częstotliwość czyszczenia:

40KHz/80KHz

Ultradźwiękowe mycie alkaliczne+mycie kwasu ultradźwiękowego+płukanie czystej wody

Nazwa:

Maszyna do czyszczenia półprzewodników

Ogólne wymiary:

12m*2m*2,8m

120kw

Temperatura czyszczenia:

Model:

JTM-100504AD

Szczegóły pakowania:

Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 12m*2m*2,8 m

Możliwość Supply:

Jedna jednostka. Zajmie to 30 do 60 dni.

Podkreślić:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Opis produktu

Wprowadzenie produktu: System czyszczenia wafli krzemowych dla półprzewodników

Dostosowany do procesów produkcyjnych półprzewodników, ten precyzyjny system czyszczenia integruje wieloetapowe procesy ultradźwiękowe w celu uzyskania ultra-wysokiej czystości powierzchni wafli krzemowych, co ma kluczowe znaczenie dla zapewnienia wydajności i działania urządzeń w produkcji układów scalonych i przetwarzaniu MEMS.

Główne etapy czyszczenia:

Czyszczenie ultradźwiękowe alkaliczne: Wykorzystuje efekt kawitacji przy regulowanych częstotliwościach w celu rozpuszczenia pozostałości organicznych, resztek fotorezystu i zanieczyszczeń cząsteczkowych z powierzchni wafli i mikrostruktur, przygotowując podłoża do późniejszej obróbki kwasowej.

Czyszczenie ultradźwiękowe kwasowe: Celuje w zanieczyszczenia nieorganiczne (np. jony metali, warstwy tlenków) za pomocą zoptymalizowanej częstotliwościowo energii ultradźwiękowej, zwiększając reaktywność chemiczną w celu usunięcia submikronowych zanieczyszczeń osadzonych w strukturach wzorzystych lub krawędziach wafli.

Płukanie wodą DI: Wykorzystuje obieg wody dejonizowanej o wysokiej czystości w celu usunięcia pozostałości chemikaliów, zapewniając neutralność powierzchni i spełniając surowe standardy przewodności (≤18,2 MΩ·cm) wymagane w zaawansowanym przetwarzaniu półprzewodników.

Parametry techniczne:

Zakres częstotliwości ultradźwiękowych: 40KHz-80KHz (regulowany wielopasmowo, umożliwiający precyzyjne dopasowanie do rodzajów zanieczyszczeń i geometrii wafli)

Temperatura procesu: 60℃ (kontrolowana termostatycznie w celu optymalizacji szybkości reakcji chemicznych, jednocześnie zapobiegając uszkodzeniom wafli)

Kompatybilność materiałowa: Zbudowany ze zbiorników wyłożonych PFA i elementów kwarcowych, aby wytrzymać działanie żrących chemikaliów, unikając wtórnego zanieczyszczenia.

Kluczowe zalety:

Osiąga skuteczność usuwania cząstek poniżej 50 nm, zgodną ze standardami SEMI F020

Moduły ultradźwiękowe z możliwością dostrojenia częstotliwości dostosowują się do nagich wafli, wafli wzorzystych i cienkich warstw

Zintegrowana kontrola temperatury zapewnia stałą skuteczność czyszczenia w procesach wsadowych

Płynna integracja z systemami obsługi wafli na etapie początkowym oraz procesami litografii/trawienia na etapie końcowym

Zastosowanie: Idealny do czyszczenia przed dyfuzją, przed osadzaniem i po trawieniu w liniach produkcyjnych wafli krzemowych od 4 do 12 cali.

Słowa kluczowe: Urządzenie do czyszczenia wafli półprzewodnikowych, ultradźwiękowe czyszczenie alkaliczne/kwasowe, płukanie wodą DI, proces 40-80KHz, 60℃, obróbka powierzchni wafli krzemowych​

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Tagi:

Automatyczny czyścik ultradźwiękowy

Sprzęt do czyszczenia ultradźwiękowego

System czyszczenia ultradźwiękowego

ZAŁĄCZONE PRODUKTY

wideo

11-zbiornikowa maszyna do czyszczenia półprzewodników, czyszczenia płytek krzemowych, 40KHZ

Najlepszą cenę

wideo

Automatyczny układ czyszczenia ultradźwiękowego o mocy 100 kW

Najlepszą cenę

szczegółowe informacje o produktach

Do domu Produkty

Maszyna do czyszczenia półprzewodników

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Wszystkie kategorie

sprzęt do czyszczenia ultradźwiękowego

Elektronika ultradźwiękowa

Instrument Ultrasonic Cleaner

Maszyna do czyszczenia półprzewodników

Commercial Ultrasonic Cleaner

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Medyczna myjka ultradźwiękowa

Niestandardowy ultradźwiękowy środek czyszczący

Maszyna do czyszczenia natryskowego

Ultradźwiękowa maszyna do czyszczenia form

Ultradźwiękowy środek czyszczący do samochodów

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Nazwa marki:	Jietai
Numer modelu:	JTM-100504AD
MOQ:	1
Cena:	￥800000
Szczegóły opakowania:	Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 12m2m2,8 m
Warunki płatności:	T/T

Szczegółowe informacje

Opis produktu

Szczegółowe informacje

Miejsce pochodzenia:

Dongguan, Guangdong

Nazwa handlowa:

Jietai

Orzecznictwo:

CE, FCC, ROHS, etc.

Numer modelu:

JTM-100504AD

Liczba czołgów:

Częstotliwość czyszczenia:

40KHz/80KHz

typ:

Ultradźwiękowe mycie alkaliczne+mycie kwasu ultradźwiękowego+płukanie czystej wody

Nazwa:

Maszyna do czyszczenia półprzewodników

Ogólne wymiary:

12m*2m*2,8m

Moc:

120kw

Temperatura czyszczenia:

60 ℃

Model:

JTM-100504AD

Minimalne zamówienie:

Cena:

￥800000

Szczegóły pakowania:

Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 12m*2m*2,8 m

Czas dostawy:

30-60 dni roboczych

Zasady płatności:

T/T

Możliwość Supply:

Jedna jednostka. Zajmie to 30 do 60 dni.

Podkreślić:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Opis produktu

Wprowadzenie produktu: System czyszczenia wafli krzemowych dla półprzewodników

Główne etapy czyszczenia:

Czyszczenie ultradźwiękowe alkaliczne: Wykorzystuje efekt kawitacji przy regulowanych częstotliwościach w celu rozpuszczenia pozostałości organicznych, resztek fotorezystu i zanieczyszczeń cząsteczkowych z powierzchni wafli i mikrostruktur, przygotowując podłoża do późniejszej obróbki kwasowej.

Czyszczenie ultradźwiękowe kwasowe: Celuje w zanieczyszczenia nieorganiczne (np. jony metali, warstwy tlenków) za pomocą zoptymalizowanej częstotliwościowo energii ultradźwiękowej, zwiększając reaktywność chemiczną w celu usunięcia submikronowych zanieczyszczeń osadzonych w strukturach wzorzystych lub krawędziach wafli.

Płukanie wodą DI: Wykorzystuje obieg wody dejonizowanej o wysokiej czystości w celu usunięcia pozostałości chemikaliów, zapewniając neutralność powierzchni i spełniając surowe standardy przewodności (≤18,2 MΩ·cm) wymagane w zaawansowanym przetwarzaniu półprzewodników.

Parametry techniczne:

Zakres częstotliwości ultradźwiękowych: 40KHz-80KHz (regulowany wielopasmowo, umożliwiający precyzyjne dopasowanie do rodzajów zanieczyszczeń i geometrii wafli)

Temperatura procesu: 60℃ (kontrolowana termostatycznie w celu optymalizacji szybkości reakcji chemicznych, jednocześnie zapobiegając uszkodzeniom wafli)

Kompatybilność materiałowa: Zbudowany ze zbiorników wyłożonych PFA i elementów kwarcowych, aby wytrzymać działanie żrących chemikaliów, unikając wtórnego zanieczyszczenia.

Kluczowe zalety:

Osiąga skuteczność usuwania cząstek poniżej 50 nm, zgodną ze standardami SEMI F020

Moduły ultradźwiękowe z możliwością dostrojenia częstotliwości dostosowują się do nagich wafli, wafli wzorzystych i cienkich warstw

Zintegrowana kontrola temperatury zapewnia stałą skuteczność czyszczenia w procesach wsadowych

Płynna integracja z systemami obsługi wafli na etapie początkowym oraz procesami litografii/trawienia na etapie końcowym

Zastosowanie: Idealny do czyszczenia przed dyfuzją, przed osadzaniem i po trawieniu w liniach produkcyjnych wafli krzemowych od 4 do 12 cali.

Słowa kluczowe: Urządzenie do czyszczenia wafli półprzewodnikowych, ultradźwiękowe czyszczenie alkaliczne/kwasowe, płukanie wodą DI, proces 40-80KHz, 60℃, obróbka powierzchni wafli krzemowych​

Działający 40-80 kHz silikonowy płytek Ultrasonic Cleaner 60°C Termostat Kwas Alkali Mycie Woda Deionizowana Płukanie

Tagi:

Automatyczna wielostanowiskowa maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego Jietai Niestandardowy proces pasywacji metalowych przedmiotów

Najlepszą cenę

wideo

Linia oczyszczania elektrolitycznego ręcznego Jietai 251KW dostosowana do czyszczenia części półprzewodnikowych z wału

Najlepszą cenę