rincian produk

Rumah Produk

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Harga:	￥800000
Waktu Pengiriman:	30-60 hari kerja
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Jumlah tank:

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Kekuatan:

120kw

Suhu pembersihan:

Model:

JTM-100504AD

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Menyoroti:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Deskripsi produk

Pengantar Produk: Sistem Pembersihan Wafer Silicon SemikonduktorAku tidak tahu.

Dirancang untuk alur kerja pembuatan semikonduktor, sistem pembersih presisi ini mengintegrasikan proses ultrasonik multi-tahap untuk mencapai kemurnian permukaan wafer silikon yang sangat tinggi,penting untuk memastikan hasil dan kinerja perangkat dalam pembuatan IC dan pemrosesan MEMS.Aku tidak tahu.

Tahap Pembersihan Inti:Aku tidak tahu.

Pembersihan Alkaline Ultrasonik: Menggunakan efek kavitasi pada frekuensi yang dapat diatur untuk melarutkan residu organik, sisa fotoresist, dan partikel kontaminan dari permukaan wafer dan mikrostruktur,persiapan substrat untuk pengolahan asam berikutnya.Aku tidak tahu.

Pembersihan Asam Ultrasonik: Sasaran kotoran anorganik (misalnya, ion logam, lapisan oksida) melalui energi ultrasonik yang dioptimalkan frekuensi,meningkatkan reaktivitas kimia untuk menghilangkan kontaminan submikron yang tertanam dalam struktur berpola atau tepi wafer.Aku tidak tahu.

DI Pemblasukan dengan air: Mengimplementasikan sirkulasi air deionisasi kemurnian tinggi untuk menghilangkan residu bahan kimia, memastikan netralitas permukaan dan memenuhi standar konduktivitas yang ketat (≤18.2MΩ·cm) yang dibutuhkan untuk pengolahan semikonduktor canggih.Aku tidak tahu.

Parameter teknis:Aku tidak tahu.

Jangkauan Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz (multi-band adjustable, memungkinkan pencocokan yang tepat dengan jenis kontaminasi dan geometri wafer)Aku tidak tahu.

Suhu Proses: 60°C (dikendalikan termostatik untuk mengoptimalkan kecepatan reaksi kimia sambil mencegah kerusakan wafer)Aku tidak tahu.

Kompatibilitas Materi: Dibangun dengan tangki dilapisi PFA dan komponen kuarsa untuk menahan bahan kimia korosif, menghindari kontaminasi sekunder.Aku tidak tahu.

Keuntungan Utama:Aku tidak tahu.

Mencapai efisiensi penghapusan partikel sub-50nm, sesuai dengan standar SEMI F020Aku tidak tahu.

Modul ultrasonik yang dapat disetel frekuensi beradaptasi dengan wafer kosong, wafer berpola, dan film tipisAku tidak tahu.

Kontrol suhu terintegrasi memastikan efisiensi pembersihan yang konsisten di seluruh proses batchAku tidak tahu.

Integrasi yang mulus dengan sistem penanganan wafer hulu dan proses litografi / etching huluAku tidak tahu.

Aplikasi: Ideal untuk pra-difusi, pra-deposisi, dan pembersihan pasca-etch di jalur manufaktur wafer silikon 4 inci hingga 12 inci.Aku tidak tahu.

Kata kunci: Pembersih wafer semikonduktor, pembersih alkali/asam ultrasonik, pencucian air DI, proses 40-80KHz, 60°C, perawatan permukaan wafer silikonAku tidak tahu.

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Tag:

Pembersih Ultrasonik Otomatis

Peralatan pembersih ultrasonik

Sistem Pembersihan Ultrasonik

Produk terkait

video

11 Tangki Mesin pembersih Semikonduktor Mesin pembersih wafer silikon 40KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

100KW Sistem Pembersihan Ultrasonik Otomatis 11 Tangki Mesin Pembersih Ultrasonik

Dapatkan Harga Terbaik

rincian produk

Rumah Produk

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Semua Kategori

peralatan pembersih ultrasonik

Pembersih ultrasonik elektronik

Instrumen Pembersih Ultrasonik

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Komersial

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Pembersih Ultrasonik Medis

Pembersih ultrasonik khusus

Mesin Pembersih Semprot

Mesin pembersih cetakan ultrasonik

Pembersih Ultrasonik Otomotif

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Harga:	￥800000
Rincian kemasan:	Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m2m2.8m
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Nama merek:

Jietai

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nomor model:

JTM-100504AD

Jumlah tank:

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Kekuatan:

120kw

Suhu pembersihan:

60℃

Model:

JTM-100504AD

Kuantitas min Order:

Harga:

￥800000

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Waktu pengiriman:

30-60 hari kerja

Syarat-syarat pembayaran:

T/T

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Menyoroti:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Deskripsi produk

Pengantar Produk: Sistem Pembersihan Wafer Silicon SemikonduktorAku tidak tahu.

Tahap Pembersihan Inti:Aku tidak tahu.

Pembersihan Alkaline Ultrasonik: Menggunakan efek kavitasi pada frekuensi yang dapat diatur untuk melarutkan residu organik, sisa fotoresist, dan partikel kontaminan dari permukaan wafer dan mikrostruktur,persiapan substrat untuk pengolahan asam berikutnya.Aku tidak tahu.

Pembersihan Asam Ultrasonik: Sasaran kotoran anorganik (misalnya, ion logam, lapisan oksida) melalui energi ultrasonik yang dioptimalkan frekuensi,meningkatkan reaktivitas kimia untuk menghilangkan kontaminan submikron yang tertanam dalam struktur berpola atau tepi wafer.Aku tidak tahu.

DI Pemblasukan dengan air: Mengimplementasikan sirkulasi air deionisasi kemurnian tinggi untuk menghilangkan residu bahan kimia, memastikan netralitas permukaan dan memenuhi standar konduktivitas yang ketat (≤18.2MΩ·cm) yang dibutuhkan untuk pengolahan semikonduktor canggih.Aku tidak tahu.

Parameter teknis:Aku tidak tahu.

Jangkauan Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz (multi-band adjustable, memungkinkan pencocokan yang tepat dengan jenis kontaminasi dan geometri wafer)Aku tidak tahu.

Suhu Proses: 60°C (dikendalikan termostatik untuk mengoptimalkan kecepatan reaksi kimia sambil mencegah kerusakan wafer)Aku tidak tahu.

Kompatibilitas Materi: Dibangun dengan tangki dilapisi PFA dan komponen kuarsa untuk menahan bahan kimia korosif, menghindari kontaminasi sekunder.Aku tidak tahu.

Keuntungan Utama:Aku tidak tahu.

Mencapai efisiensi penghapusan partikel sub-50nm, sesuai dengan standar SEMI F020Aku tidak tahu.

Modul ultrasonik yang dapat disetel frekuensi beradaptasi dengan wafer kosong, wafer berpola, dan film tipisAku tidak tahu.

Kontrol suhu terintegrasi memastikan efisiensi pembersihan yang konsisten di seluruh proses batchAku tidak tahu.

Integrasi yang mulus dengan sistem penanganan wafer hulu dan proses litografi / etching huluAku tidak tahu.

Aplikasi: Ideal untuk pra-difusi, pra-deposisi, dan pembersihan pasca-etch di jalur manufaktur wafer silikon 4 inci hingga 12 inci.Aku tidak tahu.

Kata kunci: Pembersih wafer semikonduktor, pembersih alkali/asam ultrasonik, pencucian air DI, proses 40-80KHz, 60°C, perawatan permukaan wafer silikonAku tidak tahu.

Pembersih Ultrasonik Wafer Silikon 40-80kHz yang dapat disetel 60 °C Thermostat Acid Alkali Washing Deionized Water Rinsing

Tag: