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Máquina de água ultrapura EDI 1 tonelada Sistema de osmose reversa ultrapura de dois estágios 15KW
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Equipamento de limpeza por ultra-som compatível com a indústria: Osmose inversa de dupla fase de 1 tonelada + máquina de água ultrapura EDI para limpeza ideal
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Sistema de lavagem por ultra-som de 60KW 40KHZ - 80KHZ Sistema de secagem para lentes de lentes infravermelhas
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Equipamento de limpeza por pulverização 60KHZ Sistema de secagem integrado de faca de ar 22KW
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JTC-1TRO/EDI: Unidade RO+EDI de 1 Tonelada de Dois Estágios para Limpeza Ultrassônica (2,5M×1,5M×2M)
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40KHz-80KHz Semicondutor Limpeza de Wafer de Silício - Ultra-som Limpeza Alcalina/Ácida + DI Enxaguamento com Água, 60°C
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Limpeza de Bolacha de Silício Semicondutor - Limpeza Ultrassônica Alcalina/Ácida de 40KHz-80KHz + Enxágue com Água Pura, 60℃
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício Semicondutor - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água DI, 40KHz-80KHz, 60°C
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Máquina de limpeza de mofo de alta frequência por ultra-som 30KW Equipamento de limpeza por ultra-som 40KHz
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Máquina de limpeza de mofo eletrolítico ultra-sônico Máquina de lavagem industrial ultra-sônica personalizada 30KW