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Machine à eau ultrapure EDI 1 tonne Système d'osmose inverse ultrapure à deux étages 15 kW
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Équipement de nettoyage par ultrasons compatible avec l'industrie : Machine d'eau ultrapure 1 tonne double étage osmose inverse + EDI pour un nettoyage optimal
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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage ultrasonique alcalin/acide + rinçage à l'eau désionisée, 60℃
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Nettoyeur de gaufres en silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons à 40 kHz-80 kHz + rinçage à l'eau pure, à 60 °C
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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C
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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs 40KHz-80KHz - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau pure, 60°C
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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C
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Système de lavage par ultrasons de 60 kW Système de séchage 40 KHZ - 80 KHZ Pour lentilles à lentilles infrarouges
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Équipement de nettoyage par pulvérisation 60KHZ Système de séchage à couteau à air intégré 22KW
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JTC-1TRO/EDI : Unité RO+EDI à deux étages de 1 tonne pour nettoyage par ultrasons (2,5 m × 1,5 m × 2 m)
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Machine à nettoyer les moisissures par ultrasons à haute fréquence 30 kW Equipement de nettoyage par ultrasons 40 kHz
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Machine de nettoyage de moisissures par ultrasons électrolytique machine à laver industrielle à ultrasons personnalisée 30 kW