rincian produk

Rumah Produk

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
harga:	￥800000
Waktu Pengiriman:	30-60 hari kerja
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Jumlah tank:

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Kekuatan:

120kW

Suhu pembersihan:

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Model:

JTM-100504AD

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Dirancang untuk pembersihan presisi tinggi dalam manufaktur semikonduktor, sistem khusus ini menggabungkan proses ultrasonik multi-tahap untuk memenuhi tuntutan kemurnian permukaan yang ketat dari wafer silikon, yang secara langsung berdampak pada keandalan perangkat dan hasil produksi dalam fabrikasi mikroelektronik.

Prosedur Pembersihan Inti:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Menggunakan kavitasi ultrasonik dalam media alkali untuk menghilangkan kontaminan organik, sisa fotoresist, dan serpihan partikel secara efisien dari permukaan wafer dan struktur rumit (misalnya, parit, vias), menciptakan substrat murni untuk langkah-langkah pemrosesan selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan agitasi ultrasonik berbasis asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk kontaminan ion logam (Fe, Cu, Ni) dan lapisan oksida asli, memanfaatkan mikro-jet yang diinduksi frekuensi untuk melepaskan partikel submikron dari permukaan berpola atau yang dipoles.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air ultra-murni (UPW) dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm untuk pembilasan menyeluruh, menghilangkan sisa bahan pembersih dan memastikan kelembaman permukaan—kritis untuk penanganan wafer pasca-pembersihan dan deposisi film tipis.

Spesifikasi Teknis:

Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz (output frekuensi variabel, memungkinkan optimasi intensitas kavitasi untuk profil kontaminasi dan ukuran wafer yang berbeda)

Suhu Operasi: 60℃ (lingkungan termal yang dikontrol presisi untuk meningkatkan reaktivitas kimia sambil menjaga integritas struktural wafer)

Konstruksi Material: Tangki dan komponen kontak terbuat dari PFA dan kuarsa kemurnian tinggi untuk menahan korosi kimia dan mencegah pelepasan partikel, memastikan nol kontaminasi sekunder.

Keunggulan Kinerja Utama:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel (PRE) ≥99.9% untuk partikel ≥0.1μm, sesuai dengan standar SEMI untuk pemrosesan node lanjutan

Konfigurasi ultrasonik multi-frekuensi beradaptasi dengan wafer kosong, wafer epitaksi, dan wafer berpola (hingga node teknologi 7nm)

Pengaturan suhu 60℃ menstabilkan kinetika reaksi kimia, memastikan hasil pembersihan yang konsisten di seluruh operasi batch

Kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis (SMIF pods, FOUPs) untuk integrasi yang mulus ke dalam alur kerja fab

Ruang Lingkup Aplikasi: Penting untuk pembersihan pra-litografi, pasca-CMP (Chemical Mechanical Polishing), dan pra-metallisasi dalam lini produksi wafer silikon 6 inci hingga 12 inci.

Kata Kunci: Sistem pembersihan wafer semikonduktor, perlakuan ultrasonik alkali/asam, pembilasan air murni, frekuensi 40-80KHz, proses 60℃, dekontaminasi wafer silikon

Sistem ini memberikan solusi yang andal bagi produsen semikonduktor yang ingin meminimalkan tingkat cacat dan meningkatkan stabilitas proses dalam produksi wafer volume tinggi.

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 0

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 2

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 3

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 4

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C 5

Tags:

Pembersih Ultrasonik Otomatis

Peralatan pembersih ultrasonik

Sistem Pembersihan Ultrasonik

Produk terkait

video

11 Tangki Mesin pembersih Semikonduktor Mesin pembersih wafer silikon 40KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

100KW Sistem Pembersihan Ultrasonik Otomatis 11 Tangki Mesin Pembersih Ultrasonik

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Efisiensi Tinggi 250KW Pembersih Ultrasonik Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Multi Stage Otomatis Mesin Pembersih Ultrasonik Sistem Passifikasi Disesuaikan

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Semikonduktor Manual Lini Pembersihan Elektrolitik 251KW Disesuaikan Untuk Badan Katup

Dapatkan Harga Terbaik

video

Sistem Pembersihan Ultrasonik Wafer Semikonduktor 100KW Pembersih Ultrasonik Otomatis

Dapatkan Harga Terbaik

Mesin pembersih semikonduktor 180KW Sistem pasivasi katup tubuh 40KHZ - 80KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

Mesin Pembersih Ultrasonik Penuh Otomatis Wafer Silikon Peralatan Pembersih Ultrasonik 100KW

Dapatkan Harga Terbaik

rincian produk

Rumah Produk

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Semua Kategori

peralatan pembersih ultrasonik

Pembersih ultrasonik elektronik

Instrumen Pembersih Ultrasonik

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Komersial

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Pembersih Ultrasonik Medis

Pembersih ultrasonik khusus

Mesin Pembersih Semprot

Mesin pembersih cetakan ultrasonik

Pembersih Ultrasonik Otomotif

Peralatan Pengolahan Air Limbah Industri

Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor 40KHz-80KHz - Pembersihan Ultrasonik Alkali/Asam + Pembilasan Air Murni, 60°C

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
harga:	￥800000
Rincian kemasan:	Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m2m2.8m
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Place of Origin:

Dongguan, Guangdong

Nama merek:

Jietai

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model Number:

JTM-100504AD

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Jumlah tank:

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Kekuatan:

120kW

Suhu pembersihan:

60℃

Type:

Ultrasonic alkaline washing+Ultrasonic acid washing+Pure water rinsing

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Model:

JTM-100504AD

Minimum Order Quantity:

Harga:

￥800000

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Waktu pengiriman:

30-60 hari kerja

Payment Terms:

T/T

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Deskripsi produk

Pendahuluan Produk: Pembersih Wafer Silikon Semikonduktor

Prosedur Pembersihan Inti:

Pembersihan Ultrasonik Alkali: Menggunakan kavitasi ultrasonik dalam media alkali untuk menghilangkan kontaminan organik, sisa fotoresist, dan serpihan partikel secara efisien dari permukaan wafer dan struktur rumit (misalnya, parit, vias), menciptakan substrat murni untuk langkah-langkah pemrosesan selanjutnya.

Pembersihan Ultrasonik Asam: Menggunakan agitasi ultrasonik berbasis asam untuk menargetkan dan menghilangkan kotoran anorganik, termasuk kontaminan ion logam (Fe, Cu, Ni) dan lapisan oksida asli, memanfaatkan mikro-jet yang diinduksi frekuensi untuk melepaskan partikel submikron dari permukaan berpola atau yang dipoles.

Pembilasan Air Murni: Tahap akhir menggunakan air ultra-murni (UPW) dengan resistivitas ≥18.2MΩ·cm untuk pembilasan menyeluruh, menghilangkan sisa bahan pembersih dan memastikan kelembaman permukaan—kritis untuk penanganan wafer pasca-pembersihan dan deposisi film tipis.

Spesifikasi Teknis:

Frekuensi Ultrasonik: 40KHz-80KHz (output frekuensi variabel, memungkinkan optimasi intensitas kavitasi untuk profil kontaminasi dan ukuran wafer yang berbeda)

Suhu Operasi: 60℃ (lingkungan termal yang dikontrol presisi untuk meningkatkan reaktivitas kimia sambil menjaga integritas struktural wafer)

Konstruksi Material: Tangki dan komponen kontak terbuat dari PFA dan kuarsa kemurnian tinggi untuk menahan korosi kimia dan mencegah pelepasan partikel, memastikan nol kontaminasi sekunder.

Keunggulan Kinerja Utama:

Memberikan efisiensi penghilangan partikel (PRE) ≥99.9% untuk partikel ≥0.1μm, sesuai dengan standar SEMI untuk pemrosesan node lanjutan

Konfigurasi ultrasonik multi-frekuensi beradaptasi dengan wafer kosong, wafer epitaksi, dan wafer berpola (hingga node teknologi 7nm)

Pengaturan suhu 60℃ menstabilkan kinetika reaksi kimia, memastikan hasil pembersihan yang konsisten di seluruh operasi batch

Kompatibel dengan sistem penanganan wafer otomatis (SMIF pods, FOUPs) untuk integrasi yang mulus ke dalam alur kerja fab