เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกอัตโนมัติเต็มรูปแบบสำหรับกระจกออปติคัล

โซลูชันการทำความสะอาดแม่นยำสำหรับกระจกออปติคัล

ข้อได้เปรียบหลัก: ความแม่นยำความถี่สูง × ระบบอัตโนมัติเต็มรูปแบบ × การรับประกันความสะอาดเป็นพิเศษ

1. การทำความสะอาดอัลตราโซนิกความถี่สูง 80kHz: ความบริสุทธิ์ในระดับนาโนเมตร ไม่มีความเสียหาย

• ผลกระทบจากการเกิดโพรงอากาศความถี่สูง: ที่ 80kHz ระบบจะสร้างฟองอากาศขนาดเล็กมาก (เส้นผ่านศูนย์กลาง 10–30μm) ซึ่งแทรกซึมเข้าไปในรูไมโคร 0.05 มม. และช่องว่างขอบบนพื้นผิวกระจกออปติคัล ขจัดสิ่งปนเปื้อนในระดับ 0.1μm (เช่น สารตกค้างจากการเคลือบ น้ำมันหล่อเย็น) หลังจากการทำความสะอาด ความหยาบของพื้นผิว ≤ Ra0.02μm
• เทคโนโลยีการทำความสะอาดแบบไม่ทำลาย: เอาต์พุตอัลตราโซนิกแบบพัลส์ (กำลังไฟปรับได้: 50–400W) หลีกเลี่ยงความเสียหายต่อชั้นเคลือบ (เช่น สารเคลือบป้องกันการสะท้อนแสง สารเคลือบ AR) ที่เกิดจากการแปรงแบบดั้งเดิมหรืออัลตราซาวนด์ความถี่ต่ำ การส่งผ่านแสงของเลนส์จะกลับคืนสู่ ≥99.5% และข้อผิดพลาดมุมเบี่ยงเบนของปริซึม <0.1°.
• การกำจัดอนุภาคอย่างมีประสิทธิภาพ: เมื่อรวมกับการทำความสะอาดด้วยน้ำปราศจากไอออน จะช่วยกำจัดอนุภาคฝุ่น ≥0.3μm บนพื้นผิวกระจกออปติคัล (ค่าการตรวจจับสารตกค้างของอนุภาค ≤5 อนุภาค/ซม.²) เป็นไปตามมาตรฐานห้องคลีนรูม ISO 14644-1 Class 5

2. ระบบควบคุมอัจฉริยะอัตโนมัติเต็มรูปแบบ: การดำเนินการตามกระบวนการทั้งหมดด้วยคลิกเดียว

• โปรแกรมการทำความสะอาดห้าขั้นตอน:
  ① การล้างก่อน (5 นาที, การล้างด้วยน้ำอุ่น 40°C): ละลายสิ่งปนเปื้อนที่ละลายน้ำได้;
  ② การล้างหลัก (15 นาที, อัลตราซาวนด์ 80kHz + น้ำยาทำความสะอาดที่เป็นกลาง): ขจัดคราบมันและคราบฝังแน่นอย่างล้ำลึก;
  ③ การล้าง (10 นาที, การล้างน้ำบริสุทธิ์ RO สามขั้นตอน): ขจัดสารเคมีตกค้างอย่างทั่วถึง;
  ④ การขจัดก๊าซ (3 นาที, การขจัดฟองอากาศแรงดันลบสุญญากาศ): ขจัดฟองอากาศที่ดูดซับในรูไมโครของกระจก;
  ⑤ การอบแห้ง (20 นาที, การไหลเวียนของอากาศร้อน ≤50°C): ป้องกันคราบน้ำตกค้าง พร้อมรองรับการไล่ N₂
• หน่วยความจำพารามิเตอร์อัจฉริยะ: จัดเก็บพารามิเตอร์กระบวนการ 10 กลุ่ม (เช่น ประเภทเลนส์ ความหนาของกระจก ระดับการปนเปื้อน) เพื่อปรับให้เข้ากับส่วนประกอบออปติคัลต่างๆ (เส้นผ่านศูนย์กลาง: 10–300 มม. ความหนา: 2–50 มม.)
• ส่วนต่อประสานระหว่างมนุษย์กับเครื่องจักร: หน้าจอสัมผัสสีขนาด 10 นิ้วแสดงพารามิเตอร์แบบเรียลไทม์ (อุณหภูมิ ความถี่ ระดับของเหลว) ในแต่ละขั้นตอน รองรับการส่งออกข้อมูล USB และการควบคุม PLC ระยะไกลเพื่อการรวมเข้ากับสายการผลิตอัตโนมัติได้อย่างง่ายดาย

3. การกำหนดค่าฮาร์ดแวร์ Ultraclean: ขจัดมลพิษทุติยภูมิ

• ห้องสะอาดสแตนเลสสตีล 316L: ผนังด้านในขัดเงาแบบกระจก (ความหยาบ Ra≤0.4μm) ทนต่อการกัดกร่อน และไม่ดูดซับอนุภาค เข้ากันได้กับตัวทำละลายอินทรีย์ เช่น แอลกอฮอล์และ IPA
• ระบบการกรองความแม่นยำ:
  • ไส้กรอง PP 5μm ด้านหน้า: กรองอนุภาคขนาดใหญ่จากของเหลวทำความสะอาด;
  • ไส้กรอง PTFE 0.22μm ด้านหลัง: ดักจับแบคทีเรียและสิ่งปนเปื้อนคอลลอยด์;
  • การไหลเวียนของการกรอง ≥10L/min ทำให้สามารถนำของเหลวทำความสะอาดกลับมาใช้ใหม่ได้มากกว่า 50 ครั้ง
• การออกแบบป้องกันไฟฟ้าสถิต: ตะกร้าทำความสะอาดทำจากวัสดุ PP นำไฟฟ้า (ความต้านทานพื้นผิว: 10⁶–10⁹Ω) ป้องกันการดูดซับฝุ่นแบบไฟฟ้าสถิต เหมาะสำหรับส่วนประกอบออปติคัลที่ละเอียดอ่อน (เช่น กระจกเซ็นเซอร์ภาพ CCD)