Całkowicie automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego szkła optycznego

Precyzyjne rozwiązanie do czyszczenia szkła optycznego

Główne zalety: Precyzja wysokiej częstotliwości × Całkowita automatyzacja × Zapewnienie ultraczystości

1. 80kHz Wysokofrekwencyjne czyszczenie ultradźwiękowe: czystość na poziomie nanometrów, zerowe uszkodzenia

• Efekt kawitacji o wysokiej częstotliwości: Przy częstotliwości 80 kHz system generuje niezwykle cienkie bąbelki (10-30 μm średnicy), które przenikają przez mikrodrury o średnicy 0,05 mm i szczeliny krawędzi na powierzchniach szkła optycznego, usuwając zanieczyszczenia na poziomie 0,1 μm (np.pozostałości roztworu powłokiPo czyszczeniu, chropowitość powierzchni ≤ Ra0,02 μm.
• Technologia czyszczenia nieniszczącego: Wynik ultradźwiękowy pulsowany (moc regulowana: 50 ∼ 400 W) zapobiega uszkodzeniu warstw powłoki (np. powłoki antyrefleksyjne, powłoki AR) spowodowane tradycyjnym szczotkowaniem lub ultradźwiękiem niskiej częstotliwości.Przepuszczalność światła soczewki jest przywrócona do ≥ 990,5% i błąd kąta odchylenia przyzmy < 0,1°.
• Skuteczne usuwanie cząstek: W połączeniu z oczyszczaniem wody zjonizowanej eliminuje cząstki pyłu ≥ 0,3 μm na powierzchniach szkła optycznego (wartość wykrywania pozostałości cząstek ≤ 5 cząstek/cm2),spełniające normy ISO 14644-1 klasy 5 dotyczące pomieszczeń czystych.

2Całkowicie automatyczny inteligentny system sterowania: jedno kliknięcie umożliwia zakończenie całego procesu

• Pięciokrotny program czyszczenia:
  ①Wstępne pracie(5min, spłukiwanie ciepłą wodą w temperaturze 40°C): Rozpuszcza zanieczyszczenia rozpuszczalne w wodzie;
  ②Główna praca(15min, ultradźwięki 80 kHz + neutralny środek czyszczący): głęboko usuwa oleje i uporczywe plamy;
  ③Wypłukać(10min, trzystopniowe mycie czystą wodą RO): Dokładne usuwanie pozostałości chemicznych;
  ④Odgazowanie(3min, odpienianie pod ciśnieniem ujemnym pod próżnią): usuwa adsorpcję bąbelki w mikroodkryciach szklanych;
  ⑤Suszenie(20min, krążenie gorącego powietrza ≤ 50°C): Zapobiega pozostałościom znaku wodnego, z opcjonalnym wsparciem oczyszczania N2.
• Inteligentna pamięć parametrowa: Przechowuje 10 grup parametrów procesu (np. typ soczewki, grubość szkła, poziom zanieczyszczenia) w celu dostosowania do różnych komponentów optycznych (średnica: 10 ‰ 300 mm, grubość: 2 ‰ 50 mm).
• Interfejs człowiek-maszyna: 10-calowy kolorowy ekran dotykowy wyświetla w czasie rzeczywistym parametry (temperatura, częstotliwość, poziom płynu) na każdym etapie,obsługa eksportu danych USB i zdalnego sterowania PLC w celu łatwej integracji z zautomatyzowanymi liniami produkcyjnymi.

3Ultraczysta konfiguracja sprzętu: eliminuje wtórne zanieczyszczenie

• Komora czysta ze stali nierdzewnej: Ściana wewnętrzna jest lustrzana lustrzanym (roughness Ra≤0,4μm), odporna na korozję i nieadsorbująca cząstek, kompatybilna z rozpuszczalnikami organicznymi, takimi jak alkohol i IPA.
• System filtracji precyzyjnej:
  • Element filtrujący PP 5 μm z przodu: Filtruje duże cząstki z płynu czyszczącego;
  • Element filtracji PTFE 0,22 μm: wychwytywa bakterie i zanieczyszczenia koloidalne;
  • Przepływ filtrujący ≥10L/min, umożliwiający ponowne wykorzystanie płynu czyszczącego ponad 50 razy.
• Projekt antystatyczny: Koszyk czyszczący wykonany jest z przewodzącego materiału PP (opór powierzchniowy: 106 ∼ 109Ω), zapobiegając adsorpcji pyłu elektrostatycznego, idealnie nadaje się do wrażliwych elementów optycznych (np. szkło czujnika obrazu CCD).