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Limpeza a ultrassom do sector aeroespacial

Limpeza a ultrassom Aeroespacial personalizada 60KW Máquina de limpeza automática a ultrassom 40KHZ - 80KHZ

Name: Limpeza a ultrassom Aeroespacial personalizada 60KW Máquina de limpeza automática a ultrassom 40KHZ - 80KHZ
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-110129AD
Price: 500000 USD
Availability: InStock

Nome da marca:	Jietai
Número do modelo:	JTM-110129AD
MOQ:	1
preço:	￥500000
Tempo de entrega:	30 a 60 dias úteis
Condições de pagamento:	T/T

Informações pormenorizadas

Descrição do produto

Informações pormenorizadas

Lugar de origem:

Dongguan, Guangdong

Certificação:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nome:

Limpeza a ultrassom do sector aeroespacial

tipo; espécie; categoria; classe; classificação:

Máquina de limpeza por ultra-som totalmente automática

Potência:

60 kW

Peso:

5 toneladas

Dimensões globais:

8.51M*1.7M*2.5M

Número de tanques:

Temperatura de limpeza:

80°C

Frequência de limpeza:

40KHZ-80KHZ

Modelo:

JTM-110129AD

Detalhes da embalagem:

Embalagem: caixa de madeira, quadro de madeira, película elástica.8.5M*1.7M*2.5M

Habilidade da fonte:

Uma unidade, levará de 30 a 60 dias.

Destacar:

Limpeza de ultrassom Aeroespacial personalizada

Limpador de ultrassom aeroespacial 60KW

Máquina de limpeza automática por ultra-som 80KHZ

Descrição do produto

Máquina de Limpeza Ultrassônica Totalmente Automática Personalizada para Aeroespacial e Militar (Lentes Ópticas Infravermelhas)

Processo de Limpeza em Nível Nanométrico para Proteger as Características de Precisão das Lentes Infravermelhas

Solução de Limpeza Personalizada em Cinco Dimensões para Superar os Desafios de Sensibilidade do Material
Visando a baixa dureza (HV780 para germânio), sensibilidade à temperatura (ponto de fusão de 830°C para germânio) e vulnerabilidade do revestimento (espessura do revestimento antirreflexo de 50 - 200nm) de materiais ópticos infravermelhos como germânio (Ge), silício (Si) e sulfeto de zinco (ZnS), um processo central de três níveis de pré-limpeza ultrassônica → limpeza fina megassônica → secagem com CO₂ supercrítico é personalizado:

Sistema Ultrassônico Composto de Dupla Frequência:

Ultrassom de Baixa Frequência de 28kHz (densidade de potência 0,6W/cm²): Combinado com a vibração de uma correia de malha com uma abertura de 5μm, pode remover marcas de adesivo nas bordas das lentes e detritos metálicos restantes da usinagem (taxa de remoção de partículas com diâmetro ≥ 5μm atinge 99,8%);
Ondas Megassônicas de 80kHz (amplitude ≤ 10μm): Para a superfície curva da lente (raio de curvatura ≥ 50mm) e a superfície revestida, gera uma densidade de efeito de cavitação de 0,3mJ/mm², permitindo a remoção não destrutiva de partículas de poeira de nível 0,1μm (como impurezas de Al₂O₃). A rugosidade da superfície Ra ≤ 0,05μm, o que excede os requisitos do padrão militar dos EUA MIL-P-48497A.

Tecnologia de Secagem Supercrítica: Usando o processo de secagem do ponto crítico do CO₂ (31,1°C, 7,38MPa), pode remover a umidade residual nos orifícios cegos da lente (profundidade ≥ 20mm) e nas juntas do corpo da lente em 10 minutos, com um teor de umidade ≤ 0,01%. Isso evita a fissuração por tensão do revestimento causada pela secagem tradicional com ar quente (a taxa de defeito medida é reduzida de 12% para 0,3%).

Controle de Poluição em Todo o Processo para Alcançar os Padrões de Limpeza de Grau Aeroespacial

Ambiente de Nível Sala Limpa Classe 10: Todo o equipamento é colocado sob uma capela de fluxo laminar Classe 100 (um módulo limpo Classe 10 é opcional). O ar fornecido é filtrado por HEPA (eficiência de filtração para partículas ≥ 0,3μm é 99,999%). Durante o processo de limpeza, a concentração de material particulado ≤ 100 partículas/m³, atendendo aos requisitos de limpeza ultralimpa de lentes infravermelhas aeroespaciais antes da instalação;
Sistema de Circuito Fechado de Água Ultra-pura: A lavagem da fase final usa água ultra-pura UP (condutividade < 0,055μS/cm), combinada com uma membrana de ultrafiltração de 0,1μm e esterilização ultravioleta (comprimento de onda de 254nm, intensidade de irradiação ≥ 40mJ/cm²). Isso garante que o resíduo de íons na superfície da lente após a lavagem ≤ 5ppb (íon sódio Na⁺, íon cloreto Cl⁻), em conformidade com os padrões de material de baixa emissão de gases da NASA.

Tags:

Equipamento de limpeza por ultra-som da indústria aeroespacial

limpeza ultrassônica de peças

Sistema de lavagem por ultra-som

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Limpeza a ultrassom Aeroespacial personalizada 60KW Máquina de limpeza automática a ultrassom 40KHZ - 80KHZ

Nome da marca:	Jietai
Número do modelo:	JTM-110129AD
MOQ:	1
preço:	￥500000
Detalhes da embalagem:	Embalagem: caixa de madeira, quadro de madeira, película elástica.8.5M1.7M2.5M
Condições de pagamento:	T/T

Informações pormenorizadas

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Lugar de origem:

Dongguan, Guangdong

Marca:

Jietai

Certificação:

CE, FCC, ROHS, etc.

Número do modelo:

JTM-110129AD

Nome:

Limpeza a ultrassom do sector aeroespacial

tipo; espécie; categoria; classe; classificação:

Máquina de limpeza por ultra-som totalmente automática

Potência:

60 kW

Peso:

5 toneladas

Dimensões globais:

8.51M*1.7M*2.5M

Número de tanques:

Temperatura de limpeza:

80°C

Frequência de limpeza:

40KHZ-80KHZ

Modelo:

JTM-110129AD

Quantidade de ordem mínima:

Preço:

￥500000

Detalhes da embalagem:

Embalagem: caixa de madeira, quadro de madeira, película elástica.8.5M*1.7M*2.5M

Tempo de entrega:

30 a 60 dias úteis

Termos de pagamento:

T/T

Habilidade da fonte:

Uma unidade, levará de 30 a 60 dias.

Destacar:

Limpeza de ultrassom Aeroespacial personalizada

Limpador de ultrassom aeroespacial 60KW

Máquina de limpeza automática por ultra-som 80KHZ

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Máquina de Limpeza Ultrassônica Totalmente Automática Personalizada para Aeroespacial e Militar (Lentes Ópticas Infravermelhas)

Processo de Limpeza em Nível Nanométrico para Proteger as Características de Precisão das Lentes Infravermelhas

Solução de Limpeza Personalizada em Cinco Dimensões para Superar os Desafios de Sensibilidade do Material
Visando a baixa dureza (HV780 para germânio), sensibilidade à temperatura (ponto de fusão de 830°C para germânio) e vulnerabilidade do revestimento (espessura do revestimento antirreflexo de 50 - 200nm) de materiais ópticos infravermelhos como germânio (Ge), silício (Si) e sulfeto de zinco (ZnS), um processo central de três níveis de pré-limpeza ultrassônica → limpeza fina megassônica → secagem com CO₂ supercrítico é personalizado:

Sistema Ultrassônico Composto de Dupla Frequência:

Ultrassom de Baixa Frequência de 28kHz (densidade de potência 0,6W/cm²): Combinado com a vibração de uma correia de malha com uma abertura de 5μm, pode remover marcas de adesivo nas bordas das lentes e detritos metálicos restantes da usinagem (taxa de remoção de partículas com diâmetro ≥ 5μm atinge 99,8%);
Ondas Megassônicas de 80kHz (amplitude ≤ 10μm): Para a superfície curva da lente (raio de curvatura ≥ 50mm) e a superfície revestida, gera uma densidade de efeito de cavitação de 0,3mJ/mm², permitindo a remoção não destrutiva de partículas de poeira de nível 0,1μm (como impurezas de Al₂O₃). A rugosidade da superfície Ra ≤ 0,05μm, o que excede os requisitos do padrão militar dos EUA MIL-P-48497A.

Controle de Poluição em Todo o Processo para Alcançar os Padrões de Limpeza de Grau Aeroespacial

Ambiente de Nível Sala Limpa Classe 10: Todo o equipamento é colocado sob uma capela de fluxo laminar Classe 100 (um módulo limpo Classe 10 é opcional). O ar fornecido é filtrado por HEPA (eficiência de filtração para partículas ≥ 0,3μm é 99,999%). Durante o processo de limpeza, a concentração de material particulado ≤ 100 partículas/m³, atendendo aos requisitos de limpeza ultralimpa de lentes infravermelhas aeroespaciais antes da instalação;
Sistema de Circuito Fechado de Água Ultra-pura: A lavagem da fase final usa água ultra-pura UP (condutividade < 0,055μS/cm), combinada com uma membrana de ultrafiltração de 0,1μm e esterilização ultravioleta (comprimento de onda de 254nm, intensidade de irradiação ≥ 40mJ/cm²). Isso garante que o resíduo de íons na superfície da lente após a lavagem ≤ 5ppb (íon sódio Na⁺, íon cloreto Cl⁻), em conformidade com os padrões de material de baixa emissão de gases da NASA.

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