szczegółowe informacje o produktach

Do domu produkty

Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy lotniczy 60KW Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 40KHZ - 80KHZ

Name: Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy lotniczy 60KW Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 40KHZ - 80KHZ
Brand: guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.
SKU: JTM-110129AD
Price: 500000 USD
Availability: InStock

Nazwa marki:	Jietai
Numer modelu:	JTM-110129AD
MOQ:	1
Price:	￥500000
Czas dostawy:	30-60 dni roboczych
Warunki płatności:	T/T

Szczegółowe informacje

Opis produktu

Szczegółowe informacje

Miejsce pochodzenia:

Dongguan, Guangdong

Orzecznictwo:

CE, FCC, ROHS, etc.

nazwisko:

Aerospace Ultrasonic Cleaner

rodzaj; rodzaj; kategoria; klasa; sortowanie:

Całkowicie automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego

Władza:

60 kW

Waga:

5 ton

Całkowite wymiary:

8.51M*1.7M*2.5M

Liczba czołgów:

Temperatura czyszczenia:

80°C

Częstotliwość czyszczenia:

40KHz-80KHz

Model:

JTM-110129AD

Szczegóły pakowania:

Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 8,5 m*1,7 m*2,5 m

Możliwość Supply:

Jedna jednostka. Zajmie to 30 do 60 dni.

Podkreślić:

Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy

Ultrasonic Cleaner 60KW

Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 80KHZ

Opis produktu

Zastosowana w pełni automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego dla lotnictwa i wojska (optyczne soczewki podczerwone)

Proces czystości na poziomie nanometrów w celu ochrony właściwości precyzyjnych soczewek podczerwieni

Pięciwymiarowe rozwiązanie do czyszczenia w celu przezwyciężenia trudności związanych z wrażliwością materiału
dążenie do niskiej twardości (HV780 dla germanu), wrażliwości na temperaturę (punkt topnienia 830°C dla germanu),i wrażliwość powłoki (gęstość powłoki antyrefleksyjnej 50-200 nm) materiałów optycznych podczerwonych, takich jak germanium (Ge), krzemu (Si) i siarczanu cynku (ZnS), trójpoziomowy proces podstawowy ultradźwiękowego wstępnego czyszczenia → megadźwiękowego drobnego czyszczenia → suszenia nadkrytycznego CO2 jest dostosowany:

System ultradźwiękowy złożony o podwójnej częstotliwości:

28 kHz Niskiej częstotliwości ultradźwięki (gęstość mocy 0,6 W/cm2): w połączeniu z wibracją paska ościennego o oczkowości 5 μm,może zrzucać ślady klejących na krawędziach soczewki i pozostałe pozostałości metalowe z obróbki (prędkość usuwania cząstek o średnicy ≥ 5 μm osiąga 990,8%);
80 kHz fale megasoniczne (amplituda ≤ 10 μm): dla zakrzywionej powierzchni soczewki (promień zakrzywienia ≥ 50 mm) i powlekanej powierzchni generuje gęstość efektu kawitacji wynoszącą 0,3 mJ/mm2,umożliwiające nieniszczące usuwanie 0cząstki pyłu o pojemności 0,1 μm (takie jak zanieczyszczenia Al2O3). chropowitość powierzchni Ra ≤ 0,05 μm, która przekracza wymagania amerykańskiej normy wojskowej MIL-P-48497A.

Technologia suszenia nadkrytycznego: przy użyciu procesu suszenia w punkcie krytycznym CO2 (31,1 °C, 7,38 MPa),może usunąć pozostałą wilgoć w ślepych otworach soczewki (głębokość ≥ 20 mm) i złączach beczki soczewki w ciągu 10 minut, o zawartości wilgoci ≤ 0,01%, co zapobiega pękaniu powłoki przez naprężenie spowodowanemu tradycyjnym suszeniem na gorącym powietrzu (mierzony wskaźnik wad zmniejsza się z 12% do 0,3%).

Całkowita kontrola zanieczyszczeń w celu osiągnięcia norm czystości w przemyśle lotniczym

Środowisko na poziomie pomieszczeń czystego klasy 10: cały sprzęt umieszczany jest pod laminarnym przepływowym kapturem klasy 100 (modul czystego klasy 10 jest opcjonalny).Podawane powietrze jest filtrowane za pomocą HEPA (efektywność filtracji dla cząstek ≥ 0w procesie czyszczenia stężenie cząstek stałych ≤ 100 cząstek/m3, spełniające wymagania ultraczystego czyszczenia soczewek podczerwieni lotniczych przed ich instalacją;
Ultraczysta woda w systemie zamkniętej pętli: w końcowym etapie spłukiwania wykorzystuje się ultraczistą wodę UP (przewodność < 0,055 μS/cm), połączoną z 0.1 μm ultrafiltracji membranowej i sterylizacji ultrafioletowej (długość fali 254 nm), intensywność napromieniowania ≥ 40mJ/cm2), co zapewnia, że pozostałości jonowe na powierzchni soczewki po spłukiwaniu ≤ 5 ppm (ion sodu Na+, jon chlorku Cl−),spełniające normy materiału o niskim poziomie emisji gazów przez NASA.

Tags:

Ultradźwiękowe urządzenia do czyszczenia lotniczego

Części do czyszczenia ultradźwiękowego

System mycia ultradźwiękowego

ZAŁĄCZONE PRODUKTY

Wielotankowy czyściciel ultradźwiękowy lotniczy 30KW Ultradźwiękowa linia czyszczenia 28KHZ

Najlepszą cenę

120KW sprzęt do czyszczenia ultradźwiękowego lotniczego i kosmicznego

Najlepszą cenę

szczegółowe informacje o produktach

Do domu produkty

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy lotniczy 60KW Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 40KHZ - 80KHZ

Wszystkie kategorie

sprzęt do czyszczenia ultradźwiękowego

Elektronika ultradźwiękowa

Instrument Ultrasonic Cleaner

Maszyna do czyszczenia półprzewodników

Commercial Ultrasonic Cleaner

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Medyczna myjka ultradźwiękowa

Niestandardowy ultradźwiękowy środek czyszczący

Maszyna do czyszczenia natryskowego

Ultradźwiękowa maszyna do czyszczenia form

Ultradźwiękowy środek czyszczący do samochodów

Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy lotniczy 60KW Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 40KHZ - 80KHZ

Nazwa marki:	Jietai
Numer modelu:	JTM-110129AD
MOQ:	1
Price:	￥500000
Szczegóły opakowania:	Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 8,5 m1,7 m2,5 m
Warunki płatności:	T/T

Szczegółowe informacje

Opis produktu

Szczegółowe informacje

Miejsce pochodzenia:

Dongguan, Guangdong

Nazwa handlowa:

Jietai

Orzecznictwo:

CE, FCC, ROHS, etc.

Numer modelu:

JTM-110129AD

nazwisko:

Aerospace Ultrasonic Cleaner

rodzaj; rodzaj; kategoria; klasa; sortowanie:

Całkowicie automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego

Władza:

60 kW

Waga:

5 ton

Całkowite wymiary:

8.51M*1.7M*2.5M

Liczba czołgów:

Temperatura czyszczenia:

80°C

Częstotliwość czyszczenia:

40KHz-80KHz

Model:

JTM-110129AD

Minimalne zamówienie:

Cena:

￥500000

Szczegóły pakowania:

Opakowanie: drewniana obudowa, drewniana rama, folia na rozciąganie. Wymiary: 8,5 m*1,7 m*2,5 m

Czas dostawy:

30-60 dni roboczych

Zasady płatności:

T/T

Możliwość Supply:

Jedna jednostka. Zajmie to 30 do 60 dni.

Podkreślić:

Niestandardowy czyściciel ultradźwiękowy

Ultrasonic Cleaner 60KW

Automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego 80KHZ

Opis produktu

Zastosowana w pełni automatyczna maszyna do czyszczenia ultradźwiękowego dla lotnictwa i wojska (optyczne soczewki podczerwone)

Proces czystości na poziomie nanometrów w celu ochrony właściwości precyzyjnych soczewek podczerwieni

Pięciwymiarowe rozwiązanie do czyszczenia w celu przezwyciężenia trudności związanych z wrażliwością materiału
dążenie do niskiej twardości (HV780 dla germanu), wrażliwości na temperaturę (punkt topnienia 830°C dla germanu),i wrażliwość powłoki (gęstość powłoki antyrefleksyjnej 50-200 nm) materiałów optycznych podczerwonych, takich jak germanium (Ge), krzemu (Si) i siarczanu cynku (ZnS), trójpoziomowy proces podstawowy ultradźwiękowego wstępnego czyszczenia → megadźwiękowego drobnego czyszczenia → suszenia nadkrytycznego CO2 jest dostosowany:

System ultradźwiękowy złożony o podwójnej częstotliwości:

28 kHz Niskiej częstotliwości ultradźwięki (gęstość mocy 0,6 W/cm2): w połączeniu z wibracją paska ościennego o oczkowości 5 μm,może zrzucać ślady klejących na krawędziach soczewki i pozostałe pozostałości metalowe z obróbki (prędkość usuwania cząstek o średnicy ≥ 5 μm osiąga 990,8%);
80 kHz fale megasoniczne (amplituda ≤ 10 μm): dla zakrzywionej powierzchni soczewki (promień zakrzywienia ≥ 50 mm) i powlekanej powierzchni generuje gęstość efektu kawitacji wynoszącą 0,3 mJ/mm2,umożliwiające nieniszczące usuwanie 0cząstki pyłu o pojemności 0,1 μm (takie jak zanieczyszczenia Al2O3). chropowitość powierzchni Ra ≤ 0,05 μm, która przekracza wymagania amerykańskiej normy wojskowej MIL-P-48497A.

Całkowita kontrola zanieczyszczeń w celu osiągnięcia norm czystości w przemyśle lotniczym

Środowisko na poziomie pomieszczeń czystego klasy 10: cały sprzęt umieszczany jest pod laminarnym przepływowym kapturem klasy 100 (modul czystego klasy 10 jest opcjonalny).Podawane powietrze jest filtrowane za pomocą HEPA (efektywność filtracji dla cząstek ≥ 0w procesie czyszczenia stężenie cząstek stałych ≤ 100 cząstek/m3, spełniające wymagania ultraczystego czyszczenia soczewek podczerwieni lotniczych przed ich instalacją;
Ultraczysta woda w systemie zamkniętej pętli: w końcowym etapie spłukiwania wykorzystuje się ultraczistą wodę UP (przewodność < 0,055 μS/cm), połączoną z 0.1 μm ultrafiltracji membranowej i sterylizacji ultrafioletowej (długość fali 254 nm), intensywność napromieniowania ≥ 40mJ/cm2), co zapewnia, że pozostałości jonowe na powierzchni soczewki po spłukiwaniu ≤ 5 ppm (ion sodu Na+, jon chlorku Cl−),spełniające normy materiału o niskim poziomie emisji gazów przez NASA.

Tags: