उत्पादों का विवरण

घर उत्पाद

ट्यून करने योग्य 40-80kHz सिलिकॉन वेफर अल्ट्रासोनिक क्लीनर निरंतर 60°C तापमान एसिड क्षार सफाई शुद्ध पानी कुल्ला

ट्यून करने योग्य 40-80kHz सिलिकॉन वेफर अल्ट्रासोनिक क्लीनर निरंतर 60°C तापमान एसिड क्षार सफाई शुद्ध पानी कुल्ला

ब्रांड नाम:	Jietai
मॉडल संख्या:	JTM-100504AD
एमओक्यू:	1
कीमत:	￥800000
प्रसव का समय:	30-60 कार्य दिवस
भुगतान की शर्तें:	टी/टी

विस्तृत जानकारी

उत्पाद वर्णन

विस्तृत जानकारी

उत्पत्ति के प्लेस:

डोंगगुआन, ग्वांगडोंग

प्रमाणन:

CE, FCC, ROHS, etc.

सफाई की आवृत्ति:

40kHz/80kHz

प्रकार:

अल्ट्रासोनिक क्षारीय वाशिंग+अल्ट्रासोनिक एसिड वाशिंग+शुद्ध पानी रिंसिंग

अर्धचालक सफाई मशीन

सफाई का तापमान:

कुल मिलाकर आयाम:

12m*2m*2.8m

नमूना:

JTM-100504AD

टैंक की संख्या:

शक्ति:

120 किलोवाट

पैकेजिंग विवरण:

पैकेजिंग: वुडन केस, वुडन फ्रेम, स्ट्रेच फिल्म। आयाम: 12m*2m*2.8m

आपूर्ति की क्षमता:

एक इकाई। इसमें 30 से 60 दिन लगेंगे।

प्रमुखता देना:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner

उत्पाद वर्णन

उत्पाद परिचय: सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर क्लीनिंग सिस्टम

उच्च-सटीक सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए तैयार, यह एकीकृत सफाई प्रणाली उप-पीपीबी स्तर की सतह शुद्धता प्रदान करने के लिए बहु-चरण अल्ट्रासोनिक प्रक्रियाओं को जोड़ती है, जो उन्नत नोड (≤7nm) माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उत्पादन में सिलिकॉन वेफर निर्माण के लिए एक महत्वपूर्ण आवश्यकता है।

चरण-दर-चरण सफाई तंत्र:

अल्ट्रासोनिक क्षारीय सफाई: क्षारीय माध्यम में नियंत्रित गुहिकायन उत्पन्न करने के लिए 40KHz-80KHz पर संचालित होता है, जो कार्बनिक संदूषकों (जैसे, फोटोरेसिस्ट, हाइड्रोकार्बन) और कण पदार्थ (≥1μm) को वेफर सतहों और पैटर्न वाली संरचनाओं से कुशलता से हटाता है। आवृत्ति-ट्यून करने योग्य अल्ट्रासोनिक ऊर्जा 4"-12" वेफर्स में समान सफाई सुनिश्चित करती है, जिसमें एज बेवेल और बैकसाइड सतहें शामिल हैं।

अल्ट्रासोनिक एसिड सफाई: अकार्बनिक अशुद्धियों—विशेष रूप से धातु आयन संदूषकों (Fe, Cu, Zn) और मूल ऑक्साइड परतों (SiO₂) को लक्षित करने के लिए अम्लीय घोल में समान आवृत्ति रेंज का उपयोग करता है। यह चरण खाइयों या विआस में एम्बेडेड उप-100nm कणों को हटाने के लिए गुहिकायन-प्रेरित माइक्रो-जेट का उपयोग करता है, जिसे लेजर कण काउंटरों (≤5 कण/वेफर ≥0.1μm के लिए) द्वारा मान्य किया गया है।

शुद्ध जल रिंस चक्र: यूपीडब्ल्यू (अति-शुद्ध जल, टीओसी ≤3ppb) के साथ अंतिम रिंस अवशिष्ट रसायनों को समाप्त करता है, जमाव-पूर्व प्रसंस्करण के लिए सेमी F020 मानकों को पूरा करने के लिए सतह प्रतिरोधकता ≥18.2MΩ·cm प्राप्त करता है।

तकनीकी विशिष्टताएँ:

अल्ट्रासोनिक आवृत्ति बैंड: 40KHz-80KHz (पीएलसी के माध्यम से बहु-आवृत्ति चयन योग्य, संदूषण प्रकार के लिए गुहिकायन तीव्रता का अनुकूलन)

प्रक्रिया तापमान: 60℃ (पीआईडी-नियंत्रित, ±0.5℃ सहिष्णुता) वेफर तनाव को प्रेरित किए बिना रासायनिक प्रतिक्रियाशीलता को तेज करने के लिए

सामग्री संगतता: पीएफए और उच्च-शुद्धता एल्यूमिना में गीले घटक एचएफ/एच₂एसओ₄ जंग का प्रतिरोध करते हैं, कणों के झड़ने को रोकते हैं

मुख्य प्रदर्शन मेट्रिक्स:

कण हटाने की दक्षता (पीआरई) ≥0.1μm संदूषकों के लिए ≥99.9%

रासायनिक अवशेष उन्मूलन ≤0.1ng/cm² (आईसीपी-एमएस सत्यापित)

24/7 फैब एकीकरण के लिए स्वचालित कैसेट हैंडलिंग (एफओयूपी/एसएमआईएफ) के साथ संगत

अनुप्रयोग: लॉजिक, मेमोरी और सेंसर वेफर उत्पादन लाइनों में प्री-लिथो, पोस्ट-सीएमपी और प्री-इम्प्लांट सफाई के लिए आवश्यक है।

कीवर्ड: सेमीकंडक्टर वेफर क्लीनर, अल्ट्रासोनिक क्षारीय/एसिड सफाई, यूपीडब्ल्यू रिंसिंग, 40-80KHz, 60℃ प्रक्रिया, सिलिकॉन वेफर डीकंटैमिनेशन

यह प्रणाली उच्च-मात्रा वाले सेमीकंडक्टर निर्माण वातावरण में उपज को अधिकतम करने के लिए लगातार सफाई प्रदर्शन सुनिश्चित करती है।

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अर्धचालक सफाई मशीन

सभी श्रेणियाँ

ट्यून करने योग्य 40-80kHz सिलिकॉन वेफर अल्ट्रासोनिक क्लीनर निरंतर 60°C तापमान एसिड क्षार सफाई शुद्ध पानी कुल्ला

ब्रांड नाम:	Jietai
मॉडल संख्या:	JTM-100504AD
एमओक्यू:	1
कीमत:	￥800000
पैकेजिंग विवरण:	पैकेजिंग: वुडन केस, वुडन फ्रेम, स्ट्रेच फिल्म। आयाम: 12m2m2.8m
भुगतान की शर्तें:	टी/टी

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उत्पत्ति के प्लेस:

डोंगगुआन, ग्वांगडोंग

ब्रांड नाम:

Jietai

प्रमाणन:

CE, FCC, ROHS, etc.

मॉडल संख्या:

JTM-100504AD

सफाई की आवृत्ति:

40kHz/80kHz

प्रकार:

अल्ट्रासोनिक क्षारीय वाशिंग+अल्ट्रासोनिक एसिड वाशिंग+शुद्ध पानी रिंसिंग

नाम:

अर्धचालक सफाई मशीन

सफाई का तापमान:

60℃

कुल मिलाकर आयाम:

12m*2m*2.8m

नमूना:

JTM-100504AD

टैंक की संख्या:

शक्ति:

120 किलोवाट

न्यूनतम आदेश मात्रा:

मूल्य:

￥800000

पैकेजिंग विवरण:

पैकेजिंग: वुडन केस, वुडन फ्रेम, स्ट्रेच फिल्म। आयाम: 12m*2m*2.8m

प्रसव के समय:

30-60 कार्य दिवस

भुगतान शर्तें:

टी/टी

आपूर्ति की क्षमता:

एक इकाई। इसमें 30 से 60 दिन लगेंगे।

प्रमुखता देना:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner

उत्पाद वर्णन

उत्पाद परिचय: सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर क्लीनिंग सिस्टम

चरण-दर-चरण सफाई तंत्र:

अल्ट्रासोनिक क्षारीय सफाई: क्षारीय माध्यम में नियंत्रित गुहिकायन उत्पन्न करने के लिए 40KHz-80KHz पर संचालित होता है, जो कार्बनिक संदूषकों (जैसे, फोटोरेसिस्ट, हाइड्रोकार्बन) और कण पदार्थ (≥1μm) को वेफर सतहों और पैटर्न वाली संरचनाओं से कुशलता से हटाता है। आवृत्ति-ट्यून करने योग्य अल्ट्रासोनिक ऊर्जा 4"-12" वेफर्स में समान सफाई सुनिश्चित करती है, जिसमें एज बेवेल और बैकसाइड सतहें शामिल हैं।

अल्ट्रासोनिक एसिड सफाई: अकार्बनिक अशुद्धियों—विशेष रूप से धातु आयन संदूषकों (Fe, Cu, Zn) और मूल ऑक्साइड परतों (SiO₂) को लक्षित करने के लिए अम्लीय घोल में समान आवृत्ति रेंज का उपयोग करता है। यह चरण खाइयों या विआस में एम्बेडेड उप-100nm कणों को हटाने के लिए गुहिकायन-प्रेरित माइक्रो-जेट का उपयोग करता है, जिसे लेजर कण काउंटरों (≤5 कण/वेफर ≥0.1μm के लिए) द्वारा मान्य किया गया है।

शुद्ध जल रिंस चक्र: यूपीडब्ल्यू (अति-शुद्ध जल, टीओसी ≤3ppb) के साथ अंतिम रिंस अवशिष्ट रसायनों को समाप्त करता है, जमाव-पूर्व प्रसंस्करण के लिए सेमी F020 मानकों को पूरा करने के लिए सतह प्रतिरोधकता ≥18.2MΩ·cm प्राप्त करता है।

तकनीकी विशिष्टताएँ:

अल्ट्रासोनिक आवृत्ति बैंड: 40KHz-80KHz (पीएलसी के माध्यम से बहु-आवृत्ति चयन योग्य, संदूषण प्रकार के लिए गुहिकायन तीव्रता का अनुकूलन)

प्रक्रिया तापमान: 60℃ (पीआईडी-नियंत्रित, ±0.5℃ सहिष्णुता) वेफर तनाव को प्रेरित किए बिना रासायनिक प्रतिक्रियाशीलता को तेज करने के लिए

सामग्री संगतता: पीएफए और उच्च-शुद्धता एल्यूमिना में गीले घटक एचएफ/एच₂एसओ₄ जंग का प्रतिरोध करते हैं, कणों के झड़ने को रोकते हैं

मुख्य प्रदर्शन मेट्रिक्स:

कण हटाने की दक्षता (पीआरई) ≥0.1μm संदूषकों के लिए ≥99.9%

रासायनिक अवशेष उन्मूलन ≤0.1ng/cm² (आईसीपी-एमएस सत्यापित)

24/7 फैब एकीकरण के लिए स्वचालित कैसेट हैंडलिंग (एफओयूपी/एसएमआईएफ) के साथ संगत

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अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरण

इलेक्ट्रॉनिक्स अल्ट्रासोनिक क्लीनर

साधन अल्ट्रासोनिक क्लीनर

अर्धचालक सफाई मशीन

वाणिज्यिक अल्ट्रासोनिक क्लीनर

एयरोस्पेस अल्ट्रासोनिक क्लीनर

चिकित्सा अल्ट्रासोनिक क्लीनर

कस्टम अल्ट्रासोनिक क्लीनर

स्प्रे सफाई मशीन

अल्ट्रासोनिक मोल्ड सफाई मशीन

ऑटोमोटिव अल्ट्रासोनिक क्लीनर

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Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

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अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरण

इलेक्ट्रॉनिक्स अल्ट्रासोनिक क्लीनर

साधन अल्ट्रासोनिक क्लीनर

अर्धचालक सफाई मशीन

वाणिज्यिक अल्ट्रासोनिक क्लीनर

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