পণ্যের বিবরণ

বাড়ি পণ্য

টিউনেবল 40-80kHz সিলিকন ওয়েফার আল্ট্রাসনিক ক্লিনার ধ্রুবক 60°C তাপমাত্রা অ্যাসিড ক্ষারীয় পরিষ্কারের বিশুদ্ধ জল ধুয়ে ফেলা

টিউনেবল 40-80kHz সিলিকন ওয়েফার আল্ট্রাসনিক ক্লিনার ধ্রুবক 60°C তাপমাত্রা অ্যাসিড ক্ষারীয় পরিষ্কারের বিশুদ্ধ জল ধুয়ে ফেলা

ব্র্যান্ড নাম:	Jietai
মডেল নম্বর:	Jtm-100504ad
MOQ.:	1
দাম:	￥800000
বিতরণ সময়:	30-60 কাজের দিন
অর্থ প্রদানের শর্তাবলী:	টি/টি

বিস্তারিত তথ্য

পণ্যের বিবরণ

বিস্তারিত তথ্য

উৎপত্তি স্থল:

ডংগুয়ান, গুয়াংডং

সাক্ষ্যদান:

CE, FCC, ROHS, etc.

ক্লিনিং ফ্রিকোয়েন্সি:

40KHZ/80KHZ

টাইপ:

অতিস্বনক ক্ষারীয় ওয়াশিং+অতিস্বনক অ্যাসিড ওয়াশিং+খাঁটি জল ধুয়ে

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

পরিষ্কারের তাপমাত্রা:

সামগ্রিক মাত্রা:

12 মি*2 মি*2.8 মি

মডেল:

Jtm-100504ad

ট্যাঙ্ক সংখ্যা:

শক্তি:

120 কিলোওয়াট

প্যাকেজিং বিবরণ:

প্যাকেজিং: কাঠের কেস, কাঠের ফ্রেম, স্ট্রেচ ফিল্ম। মাত্রা: 12 মি*2 মি*2.8 মি

যোগানের ক্ষমতা:

এক ইউনিট। এটি 30 থেকে 60 দিন লাগবে।

বিশেষভাবে তুলে ধরা:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner

পণ্যের বিবরণ

পণ্যের পরিচিতি: সেমিকন্ডাক্টর সিলিকন ওয়েফার ক্লিনিং সিস্টেম

উচ্চ-নির্ভুলতার সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের জন্য তৈরি, এই সমন্বিত ক্লিনিং সিস্টেমটি সাব-পিপিবি স্তরের পৃষ্ঠের বিশুদ্ধতা সরবরাহ করতে বহু-পর্যায়ের আলট্রাসনিক প্রক্রিয়াগুলিকে একত্রিত করে, যা উন্নত নোড (≤7nm) মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স উৎপাদনে সিলিকন ওয়েফার তৈরির জন্য একটি গুরুত্বপূর্ণ পূর্বশর্ত।

পর্যায়-ভিত্তিক ক্লিনিং প্রক্রিয়া:

আলট্রাসনিক ক্ষারীয় ক্লিনিং: ক্ষারীয় মাধ্যমে নিয়ন্ত্রিত ক্যাভিটেশন তৈরি করতে 40KHz-80KHz-এ কাজ করে, যা জৈব দূষক (যেমন, ফটোরেজিস্ট, হাইড্রোকার্বন) এবং কণা পদার্থ (≥1μm) ওয়েফার পৃষ্ঠ এবং প্যাটার্নযুক্ত কাঠামো থেকে কার্যকরভাবে অপসারণ করে। ফ্রিকোয়েন্সি-টিউনেবল আলট্রাসনিক শক্তি 4"-12" ওয়েফার জুড়ে, প্রান্তের বেভেল এবং পিছনের পৃষ্ঠ সহ অভিন্ন ক্লিনিং নিশ্চিত করে।

আলট্রাসনিক অ্যাসিড ক্লিনিং: অজৈব অমেধ্য—বিশেষ করে ধাতব আয়ন দূষক (Fe, Cu, Zn) এবং নেটিভ অক্সাইড স্তর (SiO₂) লক্ষ্য করতে অ্যাসিডিক দ্রবণে একই ফ্রিকোয়েন্সি পরিসীমা ব্যবহার করে। এই পর্যায়ে ক্যাভিটেশন-প্ররোচিত মাইক্রো-জেটগুলি ট্রেঞ্চ বা ভিয়াসে এম্বেড করা 100nm-এর কম কণাগুলিকে অপসারণ করতে ব্যবহার করা হয়, যা লেজার কণা কাউন্টার দ্বারা যাচাই করা হয়েছে (≥0.1μm এর জন্য ≤5 কণা/ওয়েফার)।

বিশুদ্ধ জল ধোয়ার চক্র: UPW (অতি-বিশুদ্ধ জল, TOC ≤3ppb) দিয়ে চূড়ান্ত ধোয়া অবশিষ্ট রাসায়নিক পদার্থ দূর করে, যা প্রাক-জমা প্রক্রিয়াকরণের জন্য SEMI F020 মান পূরণ করতে পৃষ্ঠের প্রতিরোধ ক্ষমতা ≥18.2MΩ·cm অর্জন করে।

প্রযুক্তিগত বৈশিষ্ট্য:

আলট্রাসনিক ফ্রিকোয়েন্সি ব্যান্ড: 40KHz-80KHz (PLC-এর মাধ্যমে মাল্টি-ফ্রিকোয়েন্সি নির্বাচনযোগ্য, দূষণের প্রকারের জন্য ক্যাভিটেশন তীব্রতা অপ্টিমাইজ করা)

প্রসেস তাপমাত্রা: 60℃ (PID-নিয়ন্ত্রিত, ±0.5℃ সহনশীলতা) ওয়েফার স্ট্রেস তৈরি না করে রাসায়নিক প্রতিক্রিয়াকে ত্বরান্বিত করতে

উপাদান সামঞ্জস্যতা: HF/H₂SO₄ ক্ষয় প্রতিরোধ করার জন্য PFA এবং উচ্চ-বিশুদ্ধতা অ্যালুমিনাতে ভেজা উপাদান, কণা ঝরে পড়া প্রতিরোধ করে

মূল কর্মক্ষমতা মেট্রিক্স:

কণা অপসারণের দক্ষতা (PRE) ≥0.1μm দূষকের জন্য ≥99.9%

রাসায়নিক অবশিষ্টাংশ নির্মূল ≤0.1ng/cm² (ICP-MS যাচাইকৃত)

24/7 ফ্যাব ইন্টিগ্রেশনের জন্য স্বয়ংক্রিয় ক্যাসেট হ্যান্ডলিংয়ের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ (FOUP/SMIF)

অ্যাপ্লিকেশন: লজিক, মেমরি এবং সেন্সর ওয়েফার উৎপাদন লাইনে প্রাক-লিথো, পোস্ট-সিএমপি এবং প্রাক-ইমপ্লান্ট ক্লিনিংয়ের জন্য অপরিহার্য।

মূল শব্দ: সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার ক্লিনার, আলট্রাসনিক ক্ষারীয়/অ্যাসিড ক্লিনিং, UPW ধোয়া, 40-80KHz, 60℃ প্রক্রিয়া, সিলিকন ওয়েফার ডিকন্টামিনেশন

এই সিস্টেমটি উচ্চ-ভলিউম সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন পরিবেশে ফলন সর্বাধিক করতে ধারাবাহিক ক্লিনিং পারফরম্যান্স নিশ্চিত করে।

টিউনেবল 40-80kHz সিলিকন ওয়েফার আল্ট্রাসনিক ক্লিনার ধ্রুবক 60°C তাপমাত্রা অ্যাসিড ক্ষারীয় পরিষ্কারের বিশুদ্ধ জল ধুয়ে ফেলা টিউনেবল 40-80kHz সিলিকন ওয়েফার আল্ট্রাসনিক ক্লিনার ধ্রুবক 60°C তাপমাত্রা অ্যাসিড ক্ষারীয় পরিষ্কারের বিশুদ্ধ জল ধুয়ে ফেলা

ট্যাগ:

পণ্যের বিবরণ

বাড়ি পণ্য

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

সকল বিভাগ

টিউনেবল 40-80kHz সিলিকন ওয়েফার আল্ট্রাসনিক ক্লিনার ধ্রুবক 60°C তাপমাত্রা অ্যাসিড ক্ষারীয় পরিষ্কারের বিশুদ্ধ জল ধুয়ে ফেলা

ব্র্যান্ড নাম:	Jietai
মডেল নম্বর:	Jtm-100504ad
MOQ.:	1
দাম:	￥800000
প্যাকেজিংয়ের বিবরণ:	প্যাকেজিং: কাঠের কেস, কাঠের ফ্রেম, স্ট্রেচ ফিল্ম। মাত্রা: 12 মি2 মি2.8 মি
অর্থ প্রদানের শর্তাবলী:	টি/টি

বিস্তারিত তথ্য

পণ্যের বিবরণ

বিস্তারিত তথ্য

উৎপত্তি স্থল:

ডংগুয়ান, গুয়াংডং

পরিচিতিমুলক নাম:

Jietai

সাক্ষ্যদান:

CE, FCC, ROHS, etc.

মডেল নম্বার:

Jtm-100504ad

ক্লিনিং ফ্রিকোয়েন্সি:

40KHZ/80KHZ

টাইপ:

অতিস্বনক ক্ষারীয় ওয়াশিং+অতিস্বনক অ্যাসিড ওয়াশিং+খাঁটি জল ধুয়ে

নাম:

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

পরিষ্কারের তাপমাত্রা:

60℃

সামগ্রিক মাত্রা:

12 মি*2 মি*2.8 মি

মডেল:

Jtm-100504ad

ট্যাঙ্ক সংখ্যা:

শক্তি:

120 কিলোওয়াট

ন্যূনতম চাহিদার পরিমাণ:

মূল্য:

￥800000

প্যাকেজিং বিবরণ:

প্যাকেজিং: কাঠের কেস, কাঠের ফ্রেম, স্ট্রেচ ফিল্ম। মাত্রা: 12 মি*2 মি*2.8 মি

ডেলিভারি সময়:

30-60 কাজের দিন

পরিশোধের শর্ত:

টি/টি

যোগানের ক্ষমতা:

এক ইউনিট। এটি 30 থেকে 60 দিন লাগবে।

বিশেষভাবে তুলে ধরা:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner

পণ্যের বিবরণ

পণ্যের পরিচিতি: সেমিকন্ডাক্টর সিলিকন ওয়েফার ক্লিনিং সিস্টেম

পর্যায়-ভিত্তিক ক্লিনিং প্রক্রিয়া:

আলট্রাসনিক ক্ষারীয় ক্লিনিং: ক্ষারীয় মাধ্যমে নিয়ন্ত্রিত ক্যাভিটেশন তৈরি করতে 40KHz-80KHz-এ কাজ করে, যা জৈব দূষক (যেমন, ফটোরেজিস্ট, হাইড্রোকার্বন) এবং কণা পদার্থ (≥1μm) ওয়েফার পৃষ্ঠ এবং প্যাটার্নযুক্ত কাঠামো থেকে কার্যকরভাবে অপসারণ করে। ফ্রিকোয়েন্সি-টিউনেবল আলট্রাসনিক শক্তি 4"-12" ওয়েফার জুড়ে, প্রান্তের বেভেল এবং পিছনের পৃষ্ঠ সহ অভিন্ন ক্লিনিং নিশ্চিত করে।

আলট্রাসনিক অ্যাসিড ক্লিনিং: অজৈব অমেধ্য—বিশেষ করে ধাতব আয়ন দূষক (Fe, Cu, Zn) এবং নেটিভ অক্সাইড স্তর (SiO₂) লক্ষ্য করতে অ্যাসিডিক দ্রবণে একই ফ্রিকোয়েন্সি পরিসীমা ব্যবহার করে। এই পর্যায়ে ক্যাভিটেশন-প্ররোচিত মাইক্রো-জেটগুলি ট্রেঞ্চ বা ভিয়াসে এম্বেড করা 100nm-এর কম কণাগুলিকে অপসারণ করতে ব্যবহার করা হয়, যা লেজার কণা কাউন্টার দ্বারা যাচাই করা হয়েছে (≥0.1μm এর জন্য ≤5 কণা/ওয়েফার)।

বিশুদ্ধ জল ধোয়ার চক্র: UPW (অতি-বিশুদ্ধ জল, TOC ≤3ppb) দিয়ে চূড়ান্ত ধোয়া অবশিষ্ট রাসায়নিক পদার্থ দূর করে, যা প্রাক-জমা প্রক্রিয়াকরণের জন্য SEMI F020 মান পূরণ করতে পৃষ্ঠের প্রতিরোধ ক্ষমতা ≥18.2MΩ·cm অর্জন করে।

প্রযুক্তিগত বৈশিষ্ট্য:

আলট্রাসনিক ফ্রিকোয়েন্সি ব্যান্ড: 40KHz-80KHz (PLC-এর মাধ্যমে মাল্টি-ফ্রিকোয়েন্সি নির্বাচনযোগ্য, দূষণের প্রকারের জন্য ক্যাভিটেশন তীব্রতা অপ্টিমাইজ করা)

প্রসেস তাপমাত্রা: 60℃ (PID-নিয়ন্ত্রিত, ±0.5℃ সহনশীলতা) ওয়েফার স্ট্রেস তৈরি না করে রাসায়নিক প্রতিক্রিয়াকে ত্বরান্বিত করতে

উপাদান সামঞ্জস্যতা: HF/H₂SO₄ ক্ষয় প্রতিরোধ করার জন্য PFA এবং উচ্চ-বিশুদ্ধতা অ্যালুমিনাতে ভেজা উপাদান, কণা ঝরে পড়া প্রতিরোধ করে

মূল কর্মক্ষমতা মেট্রিক্স:

কণা অপসারণের দক্ষতা (PRE) ≥0.1μm দূষকের জন্য ≥99.9%

রাসায়নিক অবশিষ্টাংশ নির্মূল ≤0.1ng/cm² (ICP-MS যাচাইকৃত)

24/7 ফ্যাব ইন্টিগ্রেশনের জন্য স্বয়ংক্রিয় ক্যাসেট হ্যান্ডলিংয়ের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ (FOUP/SMIF)

ট্যাগ:

অতিস্বনক পরিষ্কারের সরঞ্জাম

ইলেক্ট্রনিক্স অতিস্বনক ক্লিনার

ইনস্ট্রুমেন্ট অতিস্বনক ক্লিনার

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

বাণিজ্যিক অতিস্বনক ক্লিনার

মহাকাশ আল্ট্রাসোনিক ক্লিনার

মেডিকেল অতিস্বনক ক্লিনার

কাস্টম অতিস্বনক ক্লিনার

স্প্রে ক্লিনিং মেশিন

অতিস্বনক ছাঁচ পরিষ্কারের মেশিন

স্বয়ংচালিত অতিস্বনক ক্লিনার

অতিস্বনক পরিষ্কারের সরঞ্জাম

ইলেক্ট্রনিক্স অতিস্বনক ক্লিনার

ইনস্ট্রুমেন্ট অতিস্বনক ক্লিনার

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

বাণিজ্যিক অতিস্বনক ক্লিনার

মহাকাশ আল্ট্রাসোনিক ক্লিনার

মেডিকেল অতিস্বনক ক্লিনার

কাস্টম অতিস্বনক ক্লিনার

স্প্রে ক্লিনিং মেশিন

অতিস্বনক ছাঁচ পরিষ্কারের মেশিন

স্বয়ংচালিত অতিস্বনক ক্লিনার

পণ্যের বিবরণ

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner

পণ্যের বিবরণ

অতিস্বনক পরিষ্কারের সরঞ্জাম

ইলেক্ট্রনিক্স অতিস্বনক ক্লিনার

ইনস্ট্রুমেন্ট অতিস্বনক ক্লিনার

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং মেশিন

বাণিজ্যিক অতিস্বনক ক্লিনার

মহাকাশ আল্ট্রাসোনিক ক্লিনার

মেডিকেল অতিস্বনক ক্লিনার

কাস্টম অতিস্বনক ক্লিনার

স্প্রে ক্লিনিং মেশিন

অতিস্বনক ছাঁচ পরিষ্কারের মেশিন

স্বয়ংচালিত অতিস্বনক ক্লিনার

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid cleaning wafer machine

60℃ pure water rinsing cleaner