Op 4 juni 2025 heeft Jietai Ultrasonic, als toonaangevende wereldwijde leverancier van milieuvriendelijke ultrasone reinigingsapparatuur, officieel een nieuwe generatie intelligente siliciumwafels reinigingsapparatuur uitgebracht. Dit apparaat richt zich op de precisie reinigingsbehoeften van high-end productiegebieden zoals halfgeleiders en fotovoltaïsche systemen, en integreert zes kerntechnologieën, waaronder intelligent reinigen, intelligente besturing en multifunctioneel reinigen. Met een volledig geautomatiseerde en precieze reinigingsoplossing biedt het innovatieve oplossingen voor het verbeteren van de opbrengst en het optimaliseren van de efficiëntie in het productieproces van siliciumwafels. ​
Zes kerntechnologieën reconstrueren precisie reinigingsstandaarden
1. Intelligent reinigen: volledig geautomatiseerd en compatibel met meerdere formaten siliciumwafels
De apparatuur maakt gebruik van een volledig automatische laad- en losreinigingsmodus, die onbemand gebruik van het hele proces bereikt, van het laden, reinigen tot het lossen van siliciumwafels, door middel van intelligente robotarmen en visuele herkenningssystemen, waardoor handmatige fouten aanzienlijk worden verminderd. Tegelijkertijd ondersteunt het innovatief ontworpen verstelbare carriersysteem compatibele reiniging van 4-12 inch siliciumwafels van volledige grootte, waardoor snel kan worden gewisseld tussen verschillende productspecificaties zonder dat hardware hoeft te worden vervangen, wat voldoet aan de diverse productiebehoeften van de halfgeleider- en fotovoltaïsche industrieën en de industrie leidt in de schaalbaarheid van apparatuur. ​
2. Intelligente besturing: één klik schakelen van meerdere reinigingsmodi
Uitgerust met een PLC intelligent besturingssysteem en een 12 inch high-definition touchscreen, vooraf ingestelde 30+ veelgebruikte reinigingsprogramma's in de industrie en ondersteuning voor door de gebruiker gedefinieerde parameterconfiguratie. Via een intuïtieve mens-computer interactie-interface kunnen operators * * "één klik schakelen van reinigingsmodus" * * bereiken, waarbij automatisch parameters worden afgestemd zoals ultrasone vermogen, reinigingstijd, vloeistofverhouding, enz., waardoor de omschakeltijd aanzienlijk wordt verkort. Zelfs complexe proceswisselingen kunnen gemakkelijk worden afgehandeld, waardoor de flexibiliteit van de productielijn aanzienlijk wordt verbeterd. ​
3. Multifunctioneel reinigen: composietproces bereikt diepe reiniging
Doorbreken van de beperkingen van traditionele enkele ultrasone reiniging, de apparatuur integreert vijf reinigingstechnologieën: ultrasone cavitatie, hogedrukspuiten, dynamisch roeren, belstrippen en pulsstralen. Meerdere reinigingsprocessen kunnen in combinatie worden gebruikt om verschillende onzuiverheden aan te pakken, zoals deeltjesverontreinigingen, metaalionen en organische residuen op het oppervlak van siliciumwafels: ultrasone hoogfrequente trillingen kunnen hardnekkige vlekken oplossen, hogedrukspuiten kan resterende openingen wegspoelen, beltechnologie kan de vloeistofuitwisselingsefficiëntie verbeteren en multidimensionale bescherming van micronniveau reinheid is met name geschikt voor het reinigen van halfgeleiderwafels met hoge zuiverheidseisen. ​
4. Rotatiesysteem: dynamisch aanpassen om uniforme reinheid te verbeteren
Ingebouwd hoogprecisie roterend aandrijfapparaat, ondersteunt 0-300 rpm traploze snelheidsaanpassing. De siliciumwafel behoudt een constante of variabele snelheid rotatie tijdens het reinigingsproces en is uitgerust met een multi-hoek sproeiarmontwerp om ervoor te zorgen dat de reinigingsoplossing het oppervlak van de siliciumwafel gelijkmatig bedekt, waardoor de reinigingsblinde vlekken aan de randen en het midden worden geëlimineerd. Door daadwerkelijke tests kan deze technologie de consistentie van de reinheid van het siliciumwafeloppervlak met 20% verbeteren, waardoor het lokale verontreinigingsprobleem van traditionele statische reiniging effectief wordt opgelost. ​

5. Automatische vloeistofwisseling: intelligent vloeistofbeheer gedurende het hele proces
Geïntegreerd automatisch waterinlaat- en -uitlaatsysteem, intelligent bijvulapparaat en drietraps filtratiecirculatiesysteem, real-time monitoring van de geleidbaarheid, pH-waarde en troebelheidsgegevens van de reinigingsoplossing. Wanneer de vloeistofindex de ingestelde drempel overschrijdt, activeert het systeem automatisch het vloeistofvervangingsprogramma, waarbij synchroon het lozen van oude vloeistof, vervanging van het filterelement, nieuwe vloeistofverhouding en temperatuuraanpassing worden voltooid, om de fluctuatie van het reinigingseffect veroorzaakt door vertraagde handmatige vloeistofvervanging te voorkomen. In combinatie met een 10 μm precisie circulatie filtratieapparaat, kan het effectief kleine deeltjesonzuiverheden onderscheppen en de levensduur van het medicijn met meer dan 30% verlengen. ​
6. Detectiesysteem: online monitoring om processtabiliteit te garanderen
De reinigingstank is uitgerust met een online pH-monitor en een pure water TOC online detector, die real-time feedback geven over de chemische status van de reinigingsoplossing en de zuiverheidsgegevens van puur water. Abnormale gegevens worden automatisch gewaarschuwd en activeren procesaanpassingen. Door te integreren met het MES-systeem kan de apparatuur volledige traceerbaarheid van reinigingsprocesgegevens bereiken, real-time curves genereren met parameters zoals temperatuur, druk en vloeistofsamenstelling, en klanten voorzien van complete procesvalidatierapporten, die voldoen aan internationale kwaliteitssysteemcertificeringseisen zoals IATF 16949. ​
Nauwkeurig aanpassen aan high-end productiescenario's om industriële upgrading te ondersteunen
Deze apparatuur is voornamelijk gericht op high-end gebieden zoals de productie van halfgeleiderwafels, de verwerking van fotovoltaïsche siliciumwafels, de productie van MEMS-sensoren, enz. Het kan de opbrengst van belangrijke processen zoals front-end reiniging in chipfabricage en reiniging na fotovoltaïsche siliciumwafel fluweel/etsen aanzienlijk verbeteren. Volgens daadwerkelijke meetgegevens van een toonaangevende fotovoltaïsche onderneming heeft het gebruik van Jietai intelligente reinigingsapparatuur de restdeeltjessnelheid op het oppervlak van siliciumwafels verlaagd van 5,2% naar 1,3%, de reinigingstijd van een enkele batch met 15% verkort en het totale energieverbruik met 20% verminderd, waardoor klanten effectief worden geholpen bij het bereiken van de dubbele doelen van kostenverlaging, efficiëntieverbetering en groene productie. ​
Naarmate de halfgeleider- en fotovoltaïsche industrieën evolueren naar hogere precisie en grotere formaten, is het belang van precisie reiniging steeds prominenter geworden", aldus de directeur Technologie van Jietai Ultrasonic. "We houden ons altijd aan het concept van 'technologische innovatie drijft industriële upgrading', en door de gezamenlijke doorbraak van zes kerntechnologieën lossen we niet alleen de knelpunten van efficiëntie en nauwkeurigheid van traditionele reinigingsapparatuur op, maar bieden we klanten ook flexibele productieoplossingen die snel kunnen worden herhaald door middel van intelligent en modulair ontwerp
Over Jietai Ultrasound
Als een nationale high-tech onderneming is Jietai Ultrasonic al meer dan 20 jaar diep betrokken bij het gebied van ultrasone reiniging, met meer dan 50 intellectuele eigendomsrechten en 30000+ industriële reinigingsoplossingen. De producten worden geëxporteerd naar meer dan 30 landen wereldwijd en bedienen internationaal gerenommeerde ondernemingen zoals Samsung Semiconductor, LONGi Green Energy en SMIC. In de toekomst zal het bedrijf de investeringen in onderzoek en ontwikkeling van geavanceerde technologieën zoals AI visuele inspectie en digitale twin proces simulatie blijven verhogen, de upgrading van precisie reinigingsapparatuur naar "slimmer, groener en efficiënter" bevorderen en helpen bij het bevorderen van de hoogwaardige ontwikkeling van de wereldwijde high-end productie-industrie.