รายละเอียดสินค้า

บ้าน สินค้า

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกซิลิคอนเวเฟอร์แบบปรับได้ 40-80kHz 60 ° C การทำความสะอาดอัลคาไลน์ด้วยกรดอุณหภูมิคงที่ DI การล้างน้ำ

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกซิลิคอนเวเฟอร์แบบปรับได้ 40-80kHz 60 ° C การทำความสะอาดอัลคาไลน์ด้วยกรดอุณหภูมิคงที่ DI การล้างน้ำ

ชื่อแบรนด์:	Jietai
เลขรุ่น:	JTM-100504AD
MOQ:	1
ราคา:	￥800000
ระยะเวลาการจัดส่ง:	30-60วันทำงาน
เงื่อนไขการจ่ายเงิน:	T/T

ข้อมูลรายละเอียด

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

ข้อมูลรายละเอียด

สถานที่กำเนิด:

ตงกวน, กวางตุ้ง

ได้รับการรับรอง:

CE, FCC, ROHS, etc.

จำนวนรถถัง:

อุณหภูมิในการทำความสะอาด:

พลัง:

120กิโลวัตต์

ความถี่ในการทำความสะอาด:

40kHz/80kHz

ขนาดโดยรวม:

12m*2m*2.8m

แบบอย่าง:

JTM-100504AD

ชื่อ:

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

พิมพ์:

การล้างอัลคาลินอัลคาไลน์+การล้างกรดอัลตราโซนิก+น้ำบริสุทธิ์ล้าง

รายละเอียดการบรรจุ:

บรรจุภัณฑ์: เคสไม้กรอบไม้ฟิล์มยืด ขนาด: 12m*2m*2.8m

สามารถในการผลิต:

หนึ่งหน่วย จะใช้เวลา 30 ถึง 60 วัน

เน้น:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

60℃ pure water rinsing cleaner

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

บทนำผลิตภัณฑ์: เครื่องทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนเซมิคอนดักเตอร์

ระบบทำความสะอาดประสิทธิภาพสูงนี้ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์ซิลิคอนเซมิคอนดักเตอร์ โดยผสานรวมเทคโนโลยีอัลตราโซนิกหลายขั้นตอนเพื่อให้ได้ความบริสุทธิ์ของพื้นผิวสูงพิเศษที่จำเป็นสำหรับการผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง ซึ่งส่งผลโดยตรงต่อผลผลิตและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์

กระบวนการทำความสะอาดที่ครอบคลุม:

การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกอัลคาไลน์: ใช้พลังงานอัลตราโซนิก 40KHz-80KHz ในสารละลายอัลคาไลน์เพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อนอินทรีย์ สารตกค้างของโฟโตรีซิสต์ และอนุภาคขนาดใหญ่จากพื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอนและโครงสร้างที่ซับซ้อนได้อย่างมีประสิทธิภาพ ผลกระทบจากการเกิดโพรงอากาศของอัลตราโซนิกช่วยให้มั่นใจได้ถึงการทำความสะอาดอย่างทั่วถึงแม้ในช่องว่างแคบและพื้นที่ที่มีลวดลาย เตรียมเวเฟอร์สำหรับการทำความสะอาดด้วยกรดในภายหลัง

การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกกรด: ใช้ช่วงความถี่ที่ปรับได้เดียวกันในตัวกลางที่เป็นกรดเพื่อกำหนดเป้าหมายและกำจัดสิ่งสกปรกอนินทรีย์ รวมถึงไอออนของโลหะ (เช่น Fe, Cu, Ni) และชั้นออกไซด์ ขั้นตอนนี้ช่วยเพิ่มความบริสุทธิ์ของพื้นผิวโดยการขจัดสิ่งปนเปื้อนขนาดเล็กกว่าไมครอนที่อาจฝังอยู่ในพื้นผิวของเวเฟอร์ โดยใช้พลังงานอัลตราโซนิกที่แม่นยำเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายต่อพื้นผิวเวเฟอร์

การล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์: ขั้นตอนสุดท้ายใช้น้ำบริสุทธิ์สูงที่มีค่าความต้านทาน ≥18.2MΩ·cm เพื่อล้างสารทำความสะอาดที่ตกค้างออกอย่างทั่วถึง ทำให้มั่นใจได้ว่าพื้นผิวเวเฟอร์ปราศจากสารเคมีตกค้าง ขั้นตอนนี้มีความสำคัญอย่างยิ่งในการรักษาความสมบูรณ์ของพื้นผิวของเวเฟอร์และเป็นไปตามมาตรฐานความบริสุทธิ์ที่เข้มงวดที่จำเป็นสำหรับกระบวนการในภายหลัง เช่น การสะสมฟิล์มบางและการพิมพ์หิน

พารามิเตอร์ทางเทคนิคที่สำคัญ:

ความถี่อัลตราโซนิก: 40KHz-80KHz ซึ่งปรับได้เพื่อให้เข้ากับประเภทการปนเปื้อนและข้อกำหนดของเวเฟอร์ที่แตกต่างกัน ทำให้สามารถปรับความเข้มของการเกิดโพรงอากาศและประสิทธิภาพการทำความสะอาดได้อย่างเหมาะสมที่สุด

อุณหภูมิในการทำงาน: 60℃ อุณหภูมิที่ควบคุมอย่างแม่นยำซึ่งช่วยเพิ่มปฏิกิริยาของสารละลายทำความสะอาดในขณะที่ทำให้มั่นใจได้ว่าเวเฟอร์ซิลิคอนยังคงโครงสร้างที่เสถียร ป้องกันความเสียหายจากความร้อนที่อาจเกิดขึ้น

การก่อสร้างวัสดุ: ส่วนประกอบสำคัญที่สัมผัสกับเวเฟอร์และของเหลวทำความสะอาดทำจากวัสดุที่ทนต่อการกัดกร่อน เช่น PFA และควอตซ์บริสุทธิ์สูง หลีกเลี่ยงการปนเปื้อนทุติยภูมิอย่างมีประสิทธิภาพและรับประกันการทำงานที่เสถียรในระยะยาวของอุปกรณ์

ข้อดีที่โดดเด่น:

ให้ประสิทธิภาพในการกำจัดอนุภาคที่ยอดเยี่ยม สามารถกำจัดอนุภาคขนาดเล็กถึง 0.1μm ได้ตามข้อกำหนดที่เข้มงวดของมาตรฐานอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ (SEMI) สำหรับการผลิตโหนดขั้นสูง

การรวมกันของการทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกอัลคาไลน์ การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกกรด และการล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์ ทำให้เกิดวงจรการทำความสะอาดที่สมบูรณ์และเสริมฤทธิ์กัน ทำให้มั่นใจได้ถึงการกำจัดสิ่งปนเปื้อนต่างๆ ออกจากพื้นผิวเวเฟอร์อย่างครอบคลุม

ช่วงความถี่ที่ปรับได้ (40KHz-80KHz) และอุณหภูมิในการทำงานที่เสถียร 60℃ ช่วยให้สามารถปรับแต่งได้อย่างยืดหยุ่นตามความต้องการในการทำความสะอาดเวเฟอร์เฉพาะ ทำให้เหมาะสำหรับเวเฟอร์ซิลิคอนหลายประเภทและข้อกำหนดในการประมวลผล

ออกแบบมาเพื่อการรวมเข้ากับสายการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ได้อย่างราบรื่น เข้ากันได้กับระบบจัดการเวเฟอร์อัตโนมัติเพื่อปรับปรุงกระบวนการผลิตและลดการแทรกแซงด้วยตนเอง ปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตโดยรวม

ขอบเขตการใช้งาน: เหมาะสำหรับการทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขนาด 4 นิ้วถึง 12 นิ้ว รวมถึงขั้นตอนก่อนการแพร่ ก่อนการพิมพ์หิน หลังการกัด และก่อนการใส่โลหะ ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายทั้งในห้องปฏิบัติการวิจัยและพัฒนาและโรงงานผลิตขนาดใหญ่

คำสำคัญ: เครื่องทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนเซมิคอนดักเตอร์, การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกอัลคาไลน์, การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกกรด, การล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์, 40KHz-80KHz, 60℃, การบำบัดพื้นผิว, การผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกซิลิคอนเวเฟอร์แบบปรับได้ 40-80kHz 60 ° C การทำความสะอาดอัลคาไลน์ด้วยกรดอุณหภูมิคงที่ DI การล้างน้ำ เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกซิลิคอนเวเฟอร์แบบปรับได้ 40-80kHz 60 ° C การทำความสะอาดอัลคาไลน์ด้วยกรดอุณหภูมิคงที่ DI การล้างน้ำ

แท็ก:

รายละเอียดสินค้า

บ้าน สินค้า

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

ประเภททั้งหมด

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกซิลิคอนเวเฟอร์แบบปรับได้ 40-80kHz 60 ° C การทำความสะอาดอัลคาไลน์ด้วยกรดอุณหภูมิคงที่ DI การล้างน้ำ

ชื่อแบรนด์:	Jietai
เลขรุ่น:	JTM-100504AD
MOQ:	1
ราคา:	￥800000
รายละเอียดการบรรจุ:	บรรจุภัณฑ์: เคสไม้กรอบไม้ฟิล์มยืด ขนาด: 12m2m2.8m
เงื่อนไขการจ่ายเงิน:	T/T

ข้อมูลรายละเอียด

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

ข้อมูลรายละเอียด

สถานที่กำเนิด:

ตงกวน, กวางตุ้ง

ชื่อแบรนด์:

Jietai

ได้รับการรับรอง:

CE, FCC, ROHS, etc.

หมายเลขรุ่น:

JTM-100504AD

จำนวนรถถัง:

อุณหภูมิในการทำความสะอาด:

60 ℃

พลัง:

120กิโลวัตต์

ความถี่ในการทำความสะอาด:

40kHz/80kHz

ขนาดโดยรวม:

12m*2m*2.8m

แบบอย่าง:

JTM-100504AD

ชื่อ:

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

พิมพ์:

การล้างอัลคาลินอัลคาไลน์+การล้างกรดอัลตราโซนิก+น้ำบริสุทธิ์ล้าง

จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ:

ราคา:

￥800000

รายละเอียดการบรรจุ:

บรรจุภัณฑ์: เคสไม้กรอบไม้ฟิล์มยืด ขนาด: 12m*2m*2.8m

เวลาการส่งมอบ:

30-60วันทำงาน

เงื่อนไขการชำระเงิน:

T/T

สามารถในการผลิต:

หนึ่งหน่วย จะใช้เวลา 30 ถึง 60 วัน

เน้น:

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

60℃ pure water rinsing cleaner

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

บทนำผลิตภัณฑ์: เครื่องทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนเซมิคอนดักเตอร์

กระบวนการทำความสะอาดที่ครอบคลุม:

การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกอัลคาไลน์: ใช้พลังงานอัลตราโซนิก 40KHz-80KHz ในสารละลายอัลคาไลน์เพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อนอินทรีย์ สารตกค้างของโฟโตรีซิสต์ และอนุภาคขนาดใหญ่จากพื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอนและโครงสร้างที่ซับซ้อนได้อย่างมีประสิทธิภาพ ผลกระทบจากการเกิดโพรงอากาศของอัลตราโซนิกช่วยให้มั่นใจได้ถึงการทำความสะอาดอย่างทั่วถึงแม้ในช่องว่างแคบและพื้นที่ที่มีลวดลาย เตรียมเวเฟอร์สำหรับการทำความสะอาดด้วยกรดในภายหลัง

การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกกรด: ใช้ช่วงความถี่ที่ปรับได้เดียวกันในตัวกลางที่เป็นกรดเพื่อกำหนดเป้าหมายและกำจัดสิ่งสกปรกอนินทรีย์ รวมถึงไอออนของโลหะ (เช่น Fe, Cu, Ni) และชั้นออกไซด์ ขั้นตอนนี้ช่วยเพิ่มความบริสุทธิ์ของพื้นผิวโดยการขจัดสิ่งปนเปื้อนขนาดเล็กกว่าไมครอนที่อาจฝังอยู่ในพื้นผิวของเวเฟอร์ โดยใช้พลังงานอัลตราโซนิกที่แม่นยำเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายต่อพื้นผิวเวเฟอร์

การล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์: ขั้นตอนสุดท้ายใช้น้ำบริสุทธิ์สูงที่มีค่าความต้านทาน ≥18.2MΩ·cm เพื่อล้างสารทำความสะอาดที่ตกค้างออกอย่างทั่วถึง ทำให้มั่นใจได้ว่าพื้นผิวเวเฟอร์ปราศจากสารเคมีตกค้าง ขั้นตอนนี้มีความสำคัญอย่างยิ่งในการรักษาความสมบูรณ์ของพื้นผิวของเวเฟอร์และเป็นไปตามมาตรฐานความบริสุทธิ์ที่เข้มงวดที่จำเป็นสำหรับกระบวนการในภายหลัง เช่น การสะสมฟิล์มบางและการพิมพ์หิน

พารามิเตอร์ทางเทคนิคที่สำคัญ:

ความถี่อัลตราโซนิก: 40KHz-80KHz ซึ่งปรับได้เพื่อให้เข้ากับประเภทการปนเปื้อนและข้อกำหนดของเวเฟอร์ที่แตกต่างกัน ทำให้สามารถปรับความเข้มของการเกิดโพรงอากาศและประสิทธิภาพการทำความสะอาดได้อย่างเหมาะสมที่สุด

อุณหภูมิในการทำงาน: 60℃ อุณหภูมิที่ควบคุมอย่างแม่นยำซึ่งช่วยเพิ่มปฏิกิริยาของสารละลายทำความสะอาดในขณะที่ทำให้มั่นใจได้ว่าเวเฟอร์ซิลิคอนยังคงโครงสร้างที่เสถียร ป้องกันความเสียหายจากความร้อนที่อาจเกิดขึ้น

การก่อสร้างวัสดุ: ส่วนประกอบสำคัญที่สัมผัสกับเวเฟอร์และของเหลวทำความสะอาดทำจากวัสดุที่ทนต่อการกัดกร่อน เช่น PFA และควอตซ์บริสุทธิ์สูง หลีกเลี่ยงการปนเปื้อนทุติยภูมิอย่างมีประสิทธิภาพและรับประกันการทำงานที่เสถียรในระยะยาวของอุปกรณ์

ข้อดีที่โดดเด่น:

ให้ประสิทธิภาพในการกำจัดอนุภาคที่ยอดเยี่ยม สามารถกำจัดอนุภาคขนาดเล็กถึง 0.1μm ได้ตามข้อกำหนดที่เข้มงวดของมาตรฐานอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ (SEMI) สำหรับการผลิตโหนดขั้นสูง

การรวมกันของการทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกอัลคาไลน์ การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกกรด และการล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์ ทำให้เกิดวงจรการทำความสะอาดที่สมบูรณ์และเสริมฤทธิ์กัน ทำให้มั่นใจได้ถึงการกำจัดสิ่งปนเปื้อนต่างๆ ออกจากพื้นผิวเวเฟอร์อย่างครอบคลุม

ช่วงความถี่ที่ปรับได้ (40KHz-80KHz) และอุณหภูมิในการทำงานที่เสถียร 60℃ ช่วยให้สามารถปรับแต่งได้อย่างยืดหยุ่นตามความต้องการในการทำความสะอาดเวเฟอร์เฉพาะ ทำให้เหมาะสำหรับเวเฟอร์ซิลิคอนหลายประเภทและข้อกำหนดในการประมวลผล

ออกแบบมาเพื่อการรวมเข้ากับสายการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ได้อย่างราบรื่น เข้ากันได้กับระบบจัดการเวเฟอร์อัตโนมัติเพื่อปรับปรุงกระบวนการผลิตและลดการแทรกแซงด้วยตนเอง ปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตโดยรวม

แท็ก:

อุปกรณ์ทำความสะอาดอัลตราโซนิก

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกอิเล็กทรอนิกส์

เครื่องทำความสะอาดเครื่องดนตรีอัลตราโซนิก

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกเชิงพาณิชย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกการบินและอวกาศ

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกทางการแพทย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่กำหนดเอง

เครื่องพ่นทำความสะอาด

เครื่องทำความสะอาดแม่พิมพ์อัลตราโซนิก

เครื่องล้างอัลตราโซนิกรถยนต์

อุปกรณ์ทำความสะอาดอัลตราโซนิก

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกอิเล็กทรอนิกส์

เครื่องทำความสะอาดเครื่องดนตรีอัลตราโซนิก

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกเชิงพาณิชย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกการบินและอวกาศ

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกทางการแพทย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่กำหนดเอง

เครื่องพ่นทำความสะอาด

เครื่องทำความสะอาดแม่พิมพ์อัลตราโซนิก

เครื่องล้างอัลตราโซนิกรถยนต์

รายละเอียดสินค้า

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

60℃ pure water rinsing cleaner

รายละเอียดสินค้า

อุปกรณ์ทำความสะอาดอัลตราโซนิก

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกอิเล็กทรอนิกส์

เครื่องทำความสะอาดเครื่องดนตรีอัลตราโซนิก

เครื่องทําความสะอาดครึ่งตัว

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกเชิงพาณิชย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกการบินและอวกาศ

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกทางการแพทย์

เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่กำหนดเอง

เครื่องพ่นทำความสะอาด

เครื่องทำความสะอาดแม่พิมพ์อัลตราโซนิก

เครื่องล้างอัลตราโซนิกรถยนต์

semiconductor silicon wafer cleaner

ultrasonic alkaline acid cleaning machine

60℃ pure water rinsing cleaner